1.一種電解裝置，其特征在于，所述的電解裝置包括殼體、隔膜、第一電極和第二電極；所述的隔膜將所述的殼體分隔為第一電解室和第二電解室，所述第一電極和所述第二電極分別設(shè)置在所述第一電解室和所述第二電解室中；
所述的第一電極包括不銹鋼基材、鎳鍍層、二氧化鈦涂層和含鑭的鉑鍍層；所述的鎳鍍層設(shè)置在不銹鋼基材的外表面，其厚度為5～25微米；所述的二氧化鈦涂層設(shè)置在鎳鍍層的外表面，其厚度為5～10微米；所述的含鑭的鉑鍍層設(shè)置在二氧化鈦涂層的外表面，其厚度為3～10微米；基于含鑭的鉑鍍層的總重量，所述的含鑭的鉑鍍層含有0.1～5wt％的鑭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述的鎳鍍層的厚度為10～20微米；所述的二氧化鈦涂層的厚度為6～8微米；所述的含鑭的鉑鍍層的厚度為5～8微米；基于含鑭的鉑鍍層的總重量，所述的含鑭的鉑鍍層含有0.5～3wt％的鑭。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述第二電極包括基材和覆蓋層，所述的基材選自不銹鋼、鈦或鈦合金，所述的覆蓋層選自鉑、銥、鈀、鉭的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述的隔膜為具有透水性的連續(xù)多孔質(zhì)膜，其孔徑為15～190nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述第一電解室的下部設(shè)置有第一進水口，所述第一電解室的上部設(shè)置有第一出水口；所述第二電解室的下部設(shè)置有第二進水口，所述第二電解室的上部設(shè)置有第二出水口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述的電解裝置為電解水生成裝置。
7.利用權(quán)利要求1～6任一項所述的裝置生產(chǎn)電解水的方法，其特征在于，所述的方法包括電解水工序：向第一電解室供給第一種水，向第二電解室供給第二種水，對第一電極和第二電極施加電壓，從而形成電解水。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：所述的第一種水為含氯離子的水，所述的第二種水為自來水。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，在所述電解水工序中，隔膜兩側(cè)的水壓差為±5.5kPa以內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述的方法還包括第一電極的制備工序:
(1)將不銹鋼基材采用80～110目的砂紙打磨，將打磨后的不銹鋼基材在30～45℃下用堿性除油劑浸泡進行除油，然后在酸性溶液中浸蝕活化60～80秒得到預(yù)處理基材；
(2)將所述預(yù)處理基材作為陰極，不銹鋼作為陽極，以包含鎳化合物的溶液為電鍍液，在所述預(yù)處理基材上電鍍鎳，從而形成含鎳鍍層的電極；
(3)將所述含鎳鍍層的電極置于六氟鈦酸銨和硼酸形成的混合溶液中，于35～55℃下浸泡10～50小時后取出晾干，然后在惰性氣體保護下、在500～700℃下熱處理50～80分鐘，自然冷卻后得到含二氧化鈦涂層的電極；其中，所述混合溶液中的六氟鈦酸銨濃度為0.2～0.35mol/L、并且硼酸濃度為0.2～0.35mol/L；
(4)將所述含二氧化鈦涂層的電極作為陰極、鉑網(wǎng)為陽極，以包含鑭化合物和鉑化合物的溶液為電鍍液，在所述含二氧化鈦涂層的電極上形成含鑭的鉑鍍層，從而得到第一電極；其中，所述鑭化合物選自硝酸鑭或氯化鑭；所述的鉑化合物選自二亞硝基二氨合鉑或氯鉑酸。