本發(fā)明屬于光伏技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種硅料清洗方法和裝置。

背景技術(shù)：

多晶鑄錠產(chǎn)生的邊皮以及頭尾料占鑄錠重量30％以上，現(xiàn)有技術(shù)采用酸洗或者是堿洗等純化學方法進行處理，然而，邊皮料、頭料、尾料中的雜質(zhì)不能有效的去除，或者耗費較多的酸、堿才能清洗干凈，表層硬質(zhì)雜質(zhì)清洗效果不佳。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種硅料清洗方法和裝置，能夠提高清洗效果且可以減少酸堿使用量。

本發(fā)明提供的一種硅料清洗方法，包括：

對硅料的表面進行噴砂和打磨；

對所述硅料進行酸洗和水漂洗；

對所述硅料進行超聲清洗并進行干燥；

在對所述硅料進行水漂洗之后，超聲清洗之前，還包括：

對所述硅料進行高壓沖洗。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗方法中，

所述對所述硅料進行高壓沖洗為：

利用高壓水槍噴射的水流對所述硅料進行沖洗。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗方法中，

所述高壓水槍噴射的水流的壓強范圍為0.5MPa至2MPa。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗方法中，

對所述硅料高壓沖洗持續(xù)的時間范圍為5秒至30秒。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗方法中，

在所述對所述硅料進行高壓沖洗之后，還包括：

對沖洗后的水進行回收利用。

本發(fā)明提供的一種硅料清洗裝置，包括設(shè)置于沖洗槽內(nèi)的支撐平臺，所述支撐平臺上固定有硅料夾具，所述硅料夾具的上方固定有高壓沖洗部件，所述高壓沖洗部件的噴射部對準固定在所述硅料夾具上的硅料。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述高壓沖洗部件包括高壓水泵、高壓水管和噴嘴，所述高壓水管可沿軸向轉(zhuǎn)動且所述高壓水管上設(shè)置有一排噴嘴。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述高壓沖洗部件包括高壓水泵、高壓水管和噴嘴，所述高壓水管為固定式，且所述高壓水管上設(shè)置有兩排至三排噴嘴。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，還包括設(shè)置于所述沖洗槽旁邊的利用過濾網(wǎng)連通的回水箱，所述高壓水泵的進水口位于所述回水箱內(nèi)。

優(yōu)選的，在上述硅料清洗裝置中，所述沖洗槽的頂部還利用蓋板進行覆蓋。

通過上述描述可知，本發(fā)明提供的上述硅料清洗方法和裝置，由于該方法中在對所述硅料進行水漂洗之后，超聲清洗之前，還包括對所述硅料進行高壓沖洗，該裝置包括設(shè)置于沖洗槽內(nèi)的支撐平臺，所述支撐平臺上固定有硅料夾具，所述硅料夾具的上方固定有高壓沖洗部件，所述高壓沖洗部件的噴射部對準固定在所述硅料夾具上的硅料，因此能夠提高清洗效果且可以減少酸堿使用量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本申請實施例提供的第一種硅料清洗方法的示意圖；

圖2為本申請實施例提供的第一種硅料清洗裝置的示意圖。

具體實施方式

本發(fā)明的核心思想在于提供一種硅料清洗方法和裝置，能夠提高清洗效果且可以減少酸堿使用量。

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本申請實施例提供的第一種硅料清洗方法如圖1所示，圖1為本申請實施例提供的第一種硅料清洗方法的示意圖，該方法包括如下步驟：

S1：對硅料的表面進行噴砂和打磨；

S2：對所述硅料進行酸洗和水漂洗；

S3：對所述硅料進行高壓沖洗；

需要說明的是，該種方式屬于物理非接觸式清洗，主要是利用高壓水流沖擊硅料表面，將殘留物質(zhì)清除，避免了操作人員接觸有害的液體物質(zhì)，保證生產(chǎn)安全性，而且效率更高。

S4：對所述硅料進行超聲清洗并進行干燥。

通過上述描述可知，本發(fā)明提供的上述硅料清洗方法，由于具有一個高壓沖洗的步驟，因此能夠提高清洗效果且可以減少酸堿使用量。

本申請實施例提供的第二種硅料清洗方法，是在上述第一種硅料清洗方法的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

所述對所述硅料進行高壓沖洗為：

利用高壓水槍噴射的水流對所述硅料進行沖洗。

所述高壓水槍是一種常見的高壓液體噴射裝置，可以利用現(xiàn)有的高壓水槍進行硅料的沖洗，易于獲得且成本較低，且容易操作。

本申請實施例提供的第三種硅料清洗方法，是在上述第二種硅料清洗方法的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

所述高壓水槍噴射的水流的壓強范圍為0.5MPa至2MPa。

需要說明的是，利用這種壓強范圍的水流進行噴射，既能夠保證沖洗的效果，又不會浪費能源。

本申請實施例提供的第四種硅料清洗方法，是在上述第三種硅料清洗方法的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

對所述硅料高壓沖洗持續(xù)的時間范圍為5秒至30秒。

需要說明的是，當沖洗時間為5秒時，能夠保證沖洗干凈且不會耗費較多的電力，當沖洗時間為30秒時，保證沖洗效果更好，也不會造成電力的浪費，當沖洗時間位于這個區(qū)間內(nèi)時，既能保證沖洗效果，又不會浪費電力。

本申請實施例提供的第五種硅料清洗方法，是在上述第一種至第四種硅料清洗方法中任一種的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

在所述對所述硅料進行高壓沖洗之后，還包括：

對沖洗后的水進行回收利用。

需要說明的是，若干次沖洗之后流下來的水仍然干凈，因此將其回收后仍可以再利用，繼續(xù)作為高壓沖洗用水，從而節(jié)省沖洗的成本。

本申請實施例提供的第一種硅料清洗裝置如圖2所示，圖2為本申請實施例提供的第一種硅料清洗裝置的示意圖。該硅料清洗裝置包括設(shè)置于沖洗槽1內(nèi)的支撐平臺2，所述支撐平臺2上固定有硅料夾具3，所述硅料夾具3的上方固定有高壓沖洗部件，所述高壓沖洗部件的噴射部對準固定在所述硅料夾具3上的硅料6。硅料放置在硅料夾具內(nèi)固定好之后，啟動高壓沖洗部件帶動水流經(jīng)過高壓水管噴射到硅料上，以實現(xiàn)硅料的快速徹底的清洗，從而能夠提高清洗效果且可以減少酸堿使用量。

本申請實施例提供的第二種硅料清洗裝置，是在上述第一種硅料清洗裝置的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

所述高壓沖洗部件包括高壓水泵9、高壓水管4和噴嘴5，所述高壓水管4可沿軸向轉(zhuǎn)動且所述高壓水管4上設(shè)置有一排噴嘴5。

在這種情況下，利用一排噴嘴，對硅料進行掃洗，逐漸對整個硅料的各個表面沖洗完畢，保證不會出現(xiàn)廢液殘留。

本申請實施例提供的第三種硅料清洗裝置，是在上述第一種硅料清洗裝置的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

所述高壓沖洗部件包括高壓水泵、高壓水管和噴嘴，所述高壓水管為固定式，且所述高壓水管上設(shè)置有兩排至三排噴嘴。

在這種情況下，兩排至三排噴嘴就能夠同時沖洗硅料的整個單一表面，沖洗完后再換成另一個表面繼續(xù)沖洗，以此類推，最終實現(xiàn)所有表面的沖洗。

本申請實施例提供的第四種硅料清洗裝置，是在上述第二種或第三種硅料清洗裝置的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

繼續(xù)參考圖2，還包括設(shè)置于所述沖洗槽1旁邊的利用過濾網(wǎng)7連通的回水箱8，所述高壓水泵9的進水口位于所述回水箱8內(nèi)。沖洗之后流下來的水經(jīng)過過濾網(wǎng)的過濾之后，更為干凈，再進入高壓水泵再次噴射出去，實現(xiàn)水的循環(huán)利用，降低成本。

本申請實施例提供的第五種硅料清洗裝置，是在上述第一種硅料清洗裝置的基礎(chǔ)上，還包括如下技術(shù)特征：

繼續(xù)參考圖2，所述沖洗槽1的頂部還利用蓋板10進行覆蓋，能夠有效防止沖洗過程中液體濺到外面造成環(huán)境污染或操作人員的人身傷害。

另外，該裝置還包括位于沖洗槽的下部的排水閥11以及與高壓水泵9連通的進水閥13，在外界與高壓水泵之間的管路上還設(shè)置有補水閥12，一般情況下，水從高壓泵通過該進水閥13進行高壓沖洗，當循環(huán)利用的水的潔凈程度不符合要求之后，將水從排水閥11中放出，并從補水閥12重新補入干凈的水。

對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。