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一種太陽能硅片超聲波清洗槽的制作方法

文檔序號:11006498閱讀:636來源:國知局
一種太陽能硅片超聲波清洗槽的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種太陽能硅片超聲波清洗槽。主要解決了硅片超聲波清洗槽清洗不徹底的問題。所述的清洗槽從左至右依次為預洗槽、化學槽和終洗槽,預洗槽、化學槽和終洗槽的上部和下部分別設有進水管和排水管,進水管和排水管分別與進水總管和排水總管相連,所述的超聲裝置包括超聲波發(fā)生器和與超聲波發(fā)生器相連的超聲波震板,超聲波震板置于上述預洗槽和化學槽內(nèi),所述的進水總管上設有恒溫熱源和流量控制器。該太陽能硅片超聲波清洗槽清洗能力強,藥水清洗后進一步的對硅片進行水洗,能夠清除藥水清洗后硅片表面的殘留酸、堿或表面活性劑類的有機物等,槽體壁內(nèi)置有石墨層,具有質(zhì)量輕、耐腐蝕性能和導熱性能強等優(yōu)點。
【專利說明】
一種太陽能硅片超聲波清洗槽
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種清洗槽,具體涉及一種太陽能硅片超聲波清洗槽。
【背景技術】
[0002]太陽能硅片超聲波清洗槽是太陽電池板生產(chǎn)過程中對硅片進行清洗的一種裝置。在太陽能硅片的加工過程中,將硅棒切割為硅片是必不可少的工藝,切片過程中切削液殘留在硅片表面,形成污染物,因此,需要對硅片進行清洗,否則無法用于下一道工序,硅片清洗質(zhì)量的好壞直接影響到太陽能電池的性能和成品率。
[0003]目前市場上的超聲波清洗槽一般用純水加超聲波的方式清洗或者是藥水加超聲波的方式清洗,這種兩種清洗方式的清洗能力有限,清洗的質(zhì)量較差,而且藥水清洗后的硅片表面會殘留酸、堿或表面活性劑類的有機物等,這些殘留在硅片表面的物質(zhì)會在后續(xù)的制絨工藝中產(chǎn)生不良影響,而且超聲波清洗槽多為金屬材質(zhì),具有空化效果弱,清洗能力差,質(zhì)量重,耐腐蝕性能以及導熱性能較差結構復雜,水資源浪費嚴重等缺點。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]為了克服【背景技術】的不足,本實用新型提供一種太陽能硅片超聲波清洗槽,主要解決了硅片超聲波清洗槽清洗不徹底的問題,該太陽能硅片超聲波清洗槽清洗能力強,藥水清洗后進一步的對硅片進行水洗,能夠清除藥水清洗后硅片表面的殘留酸、堿或表面活性劑類的有機物等,槽體壁內(nèi)置有石墨層,具有質(zhì)量輕、耐腐蝕性能和導熱性能強等優(yōu)點。
[0005]本實用新型所采用的技術方案是:一種太陽能硅片超聲波清洗槽,包括槽體、清洗槽、進水總管、超聲裝置和排水總管,所述的清洗槽從左至右依次為預洗槽、化學槽和終洗槽,預洗槽、化學槽和終洗槽的上部和下部分別設有進水管和排水管,進水管和排水管分別與進水總管和排水總管相連,所述的超聲裝置包括超聲波發(fā)生器和超聲波震板,超聲波震板置于上述預洗槽和化學槽內(nèi),所述的進水總管上設有恒溫熱源和流量控制器。
[0006]進一步的,所述的每個排水管和進水管上均設有電磁閥。
[0007]進一步的,所述的清洗槽內(nèi)設有溫度傳感器和液位傳感器。
[0008]進一步的,所述的槽體外壁由不銹鋼制成,其內(nèi)部為石墨層,所述石墨層的厚度為2mm?6mmο
[0009]進一步的,所述的清洗槽內(nèi)設有花籃和升降機構,所述花籃安裝于升降機構上。
[0010]進一步的,所述的預洗槽為純水清洗加超聲波清洗,所述的化學槽放有清洗劑和純水,所述終洗槽為純水清洗,每個槽內(nèi)放置的時間為4_7min;預洗槽內(nèi)設置3-5個花籃,化學槽內(nèi)設置2-3個花籃,終洗槽設置4-6個花籃。
[0011]進一步的,所述的超聲波震板截面為L形。
[0012]本實用新型的有益效果是:由于采取上述技術方案,該太陽能硅片超聲波清洗槽清洗能力強,藥水清洗后進一步的對硅片進行水洗,能夠清除藥水清洗后硅片表面的殘留酸、堿或表面活性劑類的有機物等,槽體壁內(nèi)置有石墨層,具有質(zhì)量輕、耐腐蝕性能和導熱性能強等優(yōu)點。
【附圖說明】

[0013]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0014]圖中1、槽體;2、清洗槽;3、進水總管;4、排水總管;5、預洗槽;6、化學槽;7、終洗槽;
8、進水管;9、排水管;1、超聲波震板;11、恒溫熱源;12、流量控制器;13、電磁閥;14、溫度傳感器;15、液位傳感器。
【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖對本實用新型實施例作進一步說明。
[0016]如圖1所示,一種太陽能硅片超聲波清洗槽,一種太陽能硅片超聲波清洗槽,包括槽體1、清洗槽2、進水總管3、超聲裝置和排水總管4,所述的清洗槽2從左至右依次為預洗槽
5、化學槽6和終洗槽7,預洗槽5、化學槽6和終洗槽7的上部和下部分別設有進水管8和排水管9,進水管8和排水管9分別與進水總管3和排水總管4相連,所述的超聲裝置包括超聲波發(fā)生器和與超聲波發(fā)生器相連的超聲波震板10,超聲波震板10置于上述預洗槽5和化學槽6內(nèi),所述的進水總管3上設有恒溫熱源11和流量控制器12。恒溫熱源11能保證槽體I內(nèi)的水溫保持在一定的值,保證清洗效果;流量控制器12能控制純水以一定的流速進入槽體I內(nèi),通過調(diào)節(jié)流量控制器12可以調(diào)節(jié)進入漂洗槽體內(nèi)純水的流速,從而方便地控制流入漂洗槽體內(nèi)純水的流量大小,可以更好地保證硅片的清洗質(zhì)量。
[0017]優(yōu)選的,所述的每個排水管9和進水管8上均設有電磁閥13,所述的清洗槽2內(nèi)設有溫度傳感器14和液位傳感器15,每個排水管9和進水管8都設有單獨的電磁閥13,可以把三個清洗槽2作為一個整體使用也可以單獨的分開使用;溫度傳感器14能及時的把清洗槽2內(nèi)的水溫及時的傳遞給PLC控制器,方便恒溫的控制清洗槽2內(nèi)的水溫;液位傳感器15能實時的傳遞清洗槽2內(nèi)的水位給PLC控制器,避免由于水位過低而影響清洗效果或者由于水位過高而使水溢出污染工作環(huán)境。
[0018]優(yōu)選的,所述的槽體I外壁由不銹鋼制成,其內(nèi)部為石墨層,所述石墨層的厚度為2mm~6mm,石墨材料質(zhì)質(zhì)量輕,耐高溫,一定高溫有利于超聲波的空化效率,且石墨的化學性質(zhì)穩(wěn)定,耐腐蝕性強,能夠容納強酸強堿性質(zhì)的洗滌溶液,新穎獨特,使用壽命長。
[0019]優(yōu)選的,所述的清洗槽2內(nèi)設有花籃和升降機構,所述花籃安裝于升降機構上,所述的預洗槽5為純水清洗加超聲波清洗,所述的化學槽6放有清洗劑和純水,所述終洗槽7為純水清洗,硅片在每個槽內(nèi)放置時間4-7min;預洗槽5內(nèi)設置3-5個花籃,化學槽6內(nèi)設置2-3個花籃,終洗槽7設置4-6個花籃。
[0020]優(yōu)選的,所述的超聲波震板10截面為L形,L形的超聲波震板10—定程度上能使硅片的清洗更加均勻,效果更好。
[0021 ]清洗槽內(nèi)的工作情況如下:在清洗前,先打進水總管3上的恒溫熱源11來保證純水的溫度在一定范圍內(nèi),然后打開預洗槽5的進水管8上的電磁閥13,使一定溫度的純水進入到預洗槽5內(nèi),當液位傳感器15感知到水位到達一定的位置的時候,打開預洗槽5的排水管9上的電磁閥13,通過進水管8和排水管9不斷的進行進水和出水,使預洗槽5內(nèi)的水循環(huán)起來,硅片放在花籃中,通過升降機構將花籃放到預洗槽5的槽底板上,開啟超聲波發(fā)射器使超聲波震板10產(chǎn)生超聲波,槽內(nèi)的水在超聲波震板10震動下隨之震動,超聲波清洗可有效去除硅片表面的砂漿等雜質(zhì),待清洗完后將硅片移至另一個清洗槽2(如化學槽)。以上的清洗過程為預洗槽的工作流程,化學槽和終洗槽的工作流程基本與預洗槽相同。
[0022]該太陽能硅片超聲波清洗槽清洗能力強,藥水清洗后進一步的對硅片進行水洗,能夠清除藥水清洗后硅片表面的殘留酸、堿或表面活性劑類的有機物等,槽體壁內(nèi)置有石墨層,具有質(zhì)量輕、耐腐蝕性能和導熱性能強等優(yōu)點。
[0023]各位技術人員須知:雖然本實用新型已按照上述【具體實施方式】做了描述,但是本實用新型的發(fā)明思想并不僅限于此實用新型,任何運用本發(fā)明思想的改裝,都將納入本專利專利權保護范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:包括槽體、清洗槽、進水總管、超聲裝置和排水總管,所述的清洗槽從左至右依次為預洗槽、化學槽和終洗槽,預洗槽、化學槽和終洗槽的上部和下部分別設有進水管和排水管,進水管和排水管分別與進水總管和排水總管相連,所述的超聲裝置包括超聲波發(fā)生器和超聲波震板,超聲波震板置于上述預洗槽和化學槽內(nèi),所述的進水總管上設有恒溫熱源和流量控制器。2.根據(jù)權利要求1所述的太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:所述的每個排水管和進水管上均設有電磁閥。3.根據(jù)權利要求1所述的太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:所述的清洗槽內(nèi)設有溫度傳感器和液位傳感器。4.根據(jù)權利要求1所述的太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:所述的槽體外壁由不銹鋼制成,其內(nèi)部為石墨層,所述石墨層的厚度為2mm?6_。5.根據(jù)權利要求1所述的太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:所述的清洗槽內(nèi)設有花籃和升降機構,所述花籃安裝于升降機構上。6.根據(jù)權利要求1所述的太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:所述的預洗槽為純水清洗加超聲波清洗,所述的化學槽放有清洗劑和純水,所述終洗槽為純水清洗,每個槽內(nèi)的放置時間為4-7min;預洗槽內(nèi)設置3_5個花籃,化學槽內(nèi)設置2_3個花籃,終洗槽設置4_6個花籃。7.根據(jù)權利要求1所述的太陽能硅片超聲波清洗槽,其特征在于:所述的超聲波震板截面為L形。
【文檔編號】B08B3/12GK205701647SQ201620452050
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年5月18日
【發(fā)明人】瀛d附, 季麗
【申請人】浙江海順新能源有限公司
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