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一種二極管清洗供水水槽的制作方法

文檔序號(hào):11002499閱讀:324來源:國(guó)知局
一種二極管清洗供水水槽的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種二極管清洗供水水槽,包括水槽本體,水槽本體的一端伸至清洗設(shè)備支架的下方,水槽本體相對(duì)的另一端露出在清洗設(shè)備支架的外部,且水槽本體露出在清洗設(shè)備支架外部部分的上端為可打開式結(jié)構(gòu),水槽本體的下側(cè)引出有出水管,出水管上設(shè)置有水壓加壓裝置和控制閥。以解決用常規(guī)的供水管道由于供水壓力較小,且壓力不可控,二極管沖洗效果較差,無(wú)法達(dá)到預(yù)期要求的問題。本實(shí)用新型屬于二極管加工領(lǐng)域。
【專利說明】
一種二極管清洗供水水槽
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種供水水槽,屬于二極管清洗領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]二極管在生產(chǎn)加工過程中,腐蝕是非常重要的一道工序,腐蝕過后需用清水對(duì)二極管進(jìn)行清洗,現(xiàn)有方法是人工手動(dòng)用噴水管清洗裝在模具內(nèi)的二極管,這種清洗方式效率極低,勞動(dòng)強(qiáng)度高,需要占用大量的人力成本,且人工清洗常常會(huì)有疏漏,造成部分二極管清洗不充分,影響二極管質(zhì)量,為此
【申請(qǐng)人】設(shè)計(jì)了一種二極管自動(dòng)化清洗系統(tǒng),但由于采用常規(guī)的供水管道由于供水壓力較小,且壓力不可控,二極管沖洗效果較差,無(wú)法達(dá)到預(yù)期要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于:提供一種二極管清洗供水水槽,以解決用常規(guī)的供水管道由于供水壓力較小,且壓力不可控,二極管沖洗效果較差,無(wú)法達(dá)到預(yù)期要求的問題。
[0004]為解決上述問題,擬采用這樣一種二極管清洗供水水槽,包括水槽本體,水槽本體的一端伸至清洗設(shè)備支架的下方,水槽本體相對(duì)的另一端露出在清洗設(shè)備支架的外部,且水槽本體露出在清洗設(shè)備支架外部部分的上端為可打開式結(jié)構(gòu),水槽本體的下側(cè)引出有出水管,出水管上設(shè)置有水壓加壓裝置和控制閥;
[0005]還包括有進(jìn)水管,進(jìn)水管的出水端伸至水槽本體內(nèi),進(jìn)水管的另一端連通至自來水管道或其他供水系統(tǒng);
[0006]水槽本體的側(cè)壁上設(shè)置有透明的觀測(cè)窗;
[0007]出水管上設(shè)置有水壓檢測(cè)設(shè)備。
[0008]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,主要優(yōu)點(diǎn)是該供水水槽結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,通過該供水水槽能夠便于控制供水的水壓大小,從而保證二極管沖洗效果,水槽本體一端露出在清洗設(shè)備支架的外部,便于水槽本體內(nèi)部的清理等維護(hù)工作,也便于采用其他方式為水槽本體內(nèi)加水,結(jié)構(gòu)更為合理、可靠。
【附圖說明】

[0009]圖1是本實(shí)用新型的主視結(jié)構(gòu)不意圖;
[0010]圖2是供水水槽及清洗設(shè)備支架的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將參照附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)描述,
[0012]實(shí)施例:
[0013]參照?qǐng)D1和圖2,本實(shí)施例提供一種二極管清洗供水水槽,包括水槽本體I,水槽本體I的一端伸至清洗設(shè)備支架2的下方,水槽本體I相對(duì)的另一端露出在清洗設(shè)備支架2的外部,且水槽本體I露出在清洗設(shè)備支架2外部部分的上端為可打開式結(jié)構(gòu),水槽本體I的下側(cè)引出有出水管3,出水管3上設(shè)置有水壓加壓裝置4(水栗)、控制閥5和水壓檢測(cè)設(shè)備8(如壓力表),還包括有進(jìn)水管6,進(jìn)水管6的出水端伸至水槽本體I內(nèi),進(jìn)水管6的另一端連通至自來水管道或其他供水系統(tǒng),水槽本體I的側(cè)壁上設(shè)置有透明的觀測(cè)窗7。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種二極管清洗供水水槽,其特征在于:包括水槽本體(I),水槽本體(I)的一端伸至清洗設(shè)備支架(2)的下方,水槽本體(I)相對(duì)的另一端露出在清洗設(shè)備支架(2)的外部,且水槽本體(I)露出在清洗設(shè)備支架(2)外部部分的上端為可打開式結(jié)構(gòu),水槽本體(I)的下側(cè)引出有出水管(3),出水管(3)上設(shè)置有水壓加壓裝置(4)和控制閥(5)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種二極管清洗供水水槽,其特征在于:還包括有進(jìn)水管(6),進(jìn)水管(6)的出水端伸至水槽本體(I)內(nèi),進(jìn)水管(6)的另一端連通至自來水管道或其他供水系統(tǒng)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種二極管清洗供水水槽,其特征在于:水槽本體(I)的側(cè)壁上設(shè)置有透明的觀測(cè)窗(7)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種二極管清洗供水水槽,其特征在于:出水管(3)上設(shè)置有水壓檢測(cè)設(shè)備(8)。
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK205701639SQ201620621218
【公開日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年6月22日
【發(fā)明人】石治洪, 歐博, 文海, 陳潤(rùn)和
【申請(qǐng)人】貴州雅光電子科技股份有限公司
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