本發(fā)明涉及廢水處理，具體為一種自動維護的高鹽廢水處理設備。

背景技術：

1、高鹽廢水是指總含鹽量至少3.5wt%的廢水。其主要來自化工廠及石油和天然氣的采集加工等。這種廢水含有多種物質（包括鹽、油、有機重金屬和放射性物質）。含鹽廢水的產生途徑廣泛，水量也逐年增加。去除含鹽污水中的有機污染物對環(huán)境造成的影響至關重要，從而需要廢水處理設備對高鹽廢水進行處理。

2、現有專利號為cn113562798b公開了一種高鹽廢水處理設備及污水處理方法，其中高鹽廢水處理設備包括設置在殼體內的多個換熱管單元，在殼體上分別設有能蒸汽進口和蒸汽出口，在殼體頂部內設有噴淋管，在殼體內活動設置有活動支撐機構，在殼體側壁上設有容置腔，在容置腔內設有旋轉驅動機構，在換熱管的外壁上套設有外部清理機構，在殼體內設有第一驅動機構，在第一驅動機構上設有撥動機構，在換熱管內設有內部清理機構，在換熱管內設有第二驅動機構，在殼體一端設有聯(lián)動機構。該專利中通過噴淋管將高鹽廢水噴灑在殼體的內部，使高鹽廢水再粘附在加熱管的表面形成結晶，高鹽廢水形成結晶后再進行清理，但是噴淋管在噴灑高鹽廢水時不僅僅會噴灑到加熱管上，還會噴灑到殼體的內壁上，從而殼體內壁上的高鹽廢水則無法處理，并且，加熱管是自上而下的分布，從而處于頂部的加熱管會接受較多的高鹽廢水，而處于底部的加熱管接受的高鹽廢水則會較少，廢水處理不均勻，且清理機構在清理加熱管時需要將中間隔板轉開，會影響加熱管的支撐，并且該清理機構結構較為復雜，長時間處于高鹽廢水環(huán)境中工作會對零部件產生較大的損傷。

技術實現思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種自動維護的高鹽廢水處理設備，以解決上述背景技術中提出目前高鹽廢水處理設備自身的適用范圍存在局限性的問題。

2、為實現上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用如下技術方案：

3、本發(fā)明提供的一種自動維護的高鹽廢水處理設備，包括，外殼體，所述外殼體外周面固定安裝有支撐架，所述外殼體的頂部固定安裝有排氣口一，所述外殼體內部安裝有鹽垢清理機構，所述外殼體內部安裝有廢水處理機構，所述外殼體的左端固定安裝有端蓋一，所述端蓋一的表面固定安裝有進氣口，所述外殼體的左端固定安裝有端蓋二，所述端蓋二的表面固定安裝有排氣口二，

4、所述鹽垢清理機構還包括固定安裝在所述外殼體內壁底部的驅動組件，以及活動安裝在所述驅動組件上的清理組件，所述清理組件上安裝有觸發(fā)組件，所述外殼體的外壁底部固定安裝有排污組件；

5、所述廢水處理機構還包括固定安裝在所述外殼體內壁頂部的噴灑組件，以及轉動安裝在所述外殼體內部的換位組件，所述換位組件內部轉動安裝有加熱組件一，所述外殼體內壁上安裝有加熱組件二；

6、所述驅動組件還包括固定安裝在所述端蓋二內壁上的驅動電機，以及固定安裝在所述驅動電機輸出端的往復絲桿，所述往復絲桿能夠通過驅動電機的工作進行轉動，所述往復絲桿轉動能夠帶動相關組件進行工作；

7、所述清理組件還包括活動安裝在所述往復絲桿上的移動刮板一，以及轉動安裝在所述移動刮板一裝配槽上的移動刮板二，所述移動刮板一與移動刮板二能夠通過往復絲桿的轉動在外殼體內壁進行移動，所述移動刮板一移動時能夠對外殼體內壁的鹽垢進行清理，所述移動刮板二能夠對加熱組件一上的鹽垢進行清理；

8、所述觸發(fā)組件還包括轉動安裝在所述換位組件內側的轉動環(huán)一，以及轉動安裝在所述移動刮板一內側的轉動環(huán)二，所述移動刮板一的側面活動安裝有夾塊，所述轉動環(huán)一與轉動環(huán)二能夠通過零部件之間的擠壓進行旋轉，所述轉動環(huán)一與轉動環(huán)二旋轉時能夠帶動夾塊進行遠離或者靠近，所述夾塊遠離或者靠近時可以對往復絲桿進行分離或者夾持；

9、所述換位組件還包括固定安裝在所述外殼體內壁上的隔板一、隔板二、支撐板與隔板三，以及轉動安裝在所述隔板一、隔板二、支撐板與隔板三裝配槽上的轉動板，所述轉動板能夠通過零件的配合在隔板一、隔板二、支撐板與隔板三內部進行轉動，轉動板轉動時能夠帶動加熱組件一進行轉動；

10、所述加熱組件一還包括轉動安裝在所述轉動板與移動刮板二上的加熱管一與加熱管二，以及轉動連接在所述加熱管一與加熱管二端部的環(huán)形管，所述加熱管一與加熱管二能夠通過零部件配合進行自轉，所述加熱管一與加熱管二自轉時能夠使高鹽廢水均勻的噴灑在其表面；

11、所述加熱組件二還包括開設在所述外殼體內部的加熱腔，以及開設在所述端蓋一的內壁上的進氣槽，所述進氣槽能夠將加熱管二輸出的蒸氣輸送到加熱腔的內部對外殼體內壁上的高鹽廢水進行加熱處理。

12、優(yōu)選的，所述往復絲桿貫穿轉動安裝在所述隔板一、隔板二、支撐板與隔板三的裝配槽內，所述往復絲桿靠近驅動電機的外周面固定安裝有錐齒輪一，所述端蓋二的表面通過裝配孔貫穿轉動安裝有轉軸，所述排污組件的端部安裝有傳動箱，所述傳動箱的頂部安裝在所述外殼體的表面，所述轉軸的頂端固定安裝有與錐齒輪一相匹配的錐齒輪二，所述轉軸的另一端安裝在所述傳動箱的內部。

13、優(yōu)選的，所述移動刮板二上貫穿開設有刮槽，所述刮槽內部活動連接有所述加熱管一與加熱管二，所述刮槽與移動刮板一上均設有細小摩擦凸塊能夠對加熱管一與加熱管二上的鹽垢進行清理。

14、優(yōu)選的，所述支撐板上開設有旋轉槽一，所述旋轉槽一內部轉動轉動環(huán)一，所述轉動環(huán)一的兩端通過彈性件活動安裝有活動推桿，所述轉動環(huán)一遠離活動推桿的兩端均固定安裝有固定推桿一，所述固定推桿一上固定連接有定位塊。

15、優(yōu)選的，所述轉動環(huán)一靠近固定推桿一的兩端均固定安裝有固定推桿二，所述旋轉槽一靠近活動推桿、固定推桿一與固定推桿二的內壁上貫穿開設有移動槽一，所述移動刮板一的內部開設有旋轉槽二，所述旋轉槽二內部轉動連接有轉動環(huán)二，所述轉動環(huán)二的端部固定連接有固定推桿三。

16、優(yōu)選的，所述旋轉槽二靠近固定推桿三的內壁貫穿開設有移動槽二，所述移動刮板一遠離移動槽二的表面上固定連接有擠壓塊，所述轉動環(huán)二的表面貫穿開設有擠壓槽，所述旋轉槽二靠近擠壓槽的內壁上貫穿開設有滑槽，所述擠壓槽與滑槽的內側貫穿活動連接有滑桿，所述滑桿靠近擠壓槽的一端固定連接有限位塊，所述滑桿靠近滑槽的另一端固定連接有夾塊，所述夾塊的凹槽內側通過彈性件活動安裝有凸塊一。

17、優(yōu)選的，所述排污組件還包括貫穿開設在所述外殼體內壁的進污口，所述外殼體靠近排污口的底部固定安裝有排污槽，所述排污槽的底部固定安裝有排污口，所述排污槽內部貫穿轉動安裝有螺旋轉軸，所述螺旋轉軸的端部安裝在傳動箱416的內部。

18、優(yōu)選的，所述外殼體的內壁兩端均固定安裝有隔板一與隔板三，所述外殼體的內壁中部固定安裝有支撐板，所述端蓋一靠近隔板三的內壁固定安裝有隔板二，所述轉動板靠近隔板二的表面固定安裝有齒盤，所述往復絲桿的端部固定安裝有與齒盤相匹配的齒輪。

19、優(yōu)選的，所述加熱管一與加熱管二上開設有螺紋槽，所述加熱管一與加熱管二靠近螺紋槽端部的表面開設有空置槽，所述螺紋槽的內部活動連接有凸塊二，所述凸塊二固定連接在刮槽的內壁上，所述轉動板靠近隔板一的內部通過裝配槽固定安裝有環(huán)形管。

20、優(yōu)選的，所述隔板一靠近端蓋二的表面貫穿開設有出氣口，所述加熱腔靠近出氣口與進氣槽的兩端均貫穿開設有對接口。

21、與現有技術相比，以上一個或多個技術方案存在以下有益效果：

22、1.高鹽廢水處理設備設置有往復絲桿能夠通過驅動電機工作進行轉動，往復絲桿轉動時能夠帶動兩組清理組件進行往復移動，兩組清理組件上均設有觸發(fā)組件，當一組清理組件移動到支撐板的一側會激發(fā)觸發(fā)組件進行工作，觸發(fā)組件工作時可以使另一組清理組件在往復絲桿上移動，此結構操作便捷，在清理時加熱管一與加熱管二可以始終處于支撐的狀態(tài)；

23、2.設置有往復絲桿在轉動時可以通過齒輪與齒盤的配合帶動隔板二上的轉動板在進行轉動，轉動板轉動時帶動加熱管一、加熱管二與環(huán)形管進行轉動，加熱管一、加熱管二與環(huán)形管轉動時可以帶動其余轉動板與移動刮板二進行轉動，還可以通過移動刮板二往復移動時帶動刮槽內部的凸塊二進行移動，凸塊二移動時可以在螺紋槽進行滑動，凸塊二滑動時可以通過擠壓的方式帶動加熱管一與加熱管二進行自轉，方便加熱管一與加熱管二可以通過轉動的方式能夠使噴灑的高鹽廢水可以均勻分布在其表面；

24、3.設置有進氣口能夠將高溫水蒸氣輸送到加熱管一的內部，加熱管一能夠通過環(huán)形管輸送到加熱管二的內部，加熱管二能夠將高溫水蒸氣輸送到隔板二與隔板三之間的空腔內部，高溫水蒸氣進入空腔內部時能夠通過進氣槽與對接口輸送到加熱腔的內部對外殼體內壁的高鹽廢水進行加熱處理，加熱腔可以將高溫水蒸氣通過出氣口輸送到端蓋二的內部，端蓋二能夠將高溫水蒸氣通過排氣口二排出，方便高溫水蒸氣不僅可以對加熱管一與加熱管二表面的高鹽廢水進行加熱處理還可以對外殼體內壁上的高鹽廢水進行加熱處理。