本技術(shù)涉及籽晶清洗，尤其是涉及一種籽晶立式清洗工裝。

背景技術(shù)：

1、我司在單晶硅棒拉制過程中，會使用籽晶進(jìn)行引放，籽晶是非常關(guān)鍵的輔料。籽晶掏制后需進(jìn)行拋光、酸洗后才能使用。酸洗是籽晶最后一道工序，酸洗會對籽晶掏制、拋光過程中產(chǎn)生的金屬和氧化層進(jìn)行腐蝕，保證了純度，避免雜質(zhì)進(jìn)入拉晶環(huán)節(jié)（單晶硅棒拉制過程）。

2、當(dāng)前酸洗籽晶時，會向耐酸堿料槽內(nèi)加入一定比例且適量的氫氟酸與硝酸，再在耐酸堿料槽內(nèi)以臥躺或平放的方式一次放置12根待酸洗的籽晶，浸泡約8-10min，浸泡過程中需要不斷使用耐酸堿鑷子對籽晶進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，直至清洗完畢。

3、但目前籽晶酸洗的過程存在以下缺陷：

4、1、臥躺或平放的籽晶在酸洗時，相互之間易發(fā)生碰撞、破損、隱裂。

5、2、操作人員對籽晶進(jìn)行翻轉(zhuǎn)時，無法保證每個面均被腐蝕或腐蝕的程度不一（籽晶未完全被酸液浸沒，或者，籽晶與料盒底部大面積接觸），進(jìn)而導(dǎo)致籽晶錐度面各處錐度不一致。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對上述情況，本實(shí)用新型提供一種籽晶立式清洗工裝，旨在解決籽晶酸洗過程中碰撞破損、腐蝕的程度不一的問題。。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、本實(shí)用新型提供一種籽晶立式清洗工裝，其包括：

4、清洗容器；

5、用于放置籽晶的支架，能夠自由進(jìn)出所述清洗容器，并能夠在所述清洗容器中旋轉(zhuǎn)；

6、所述支架包括：

7、底座，用于支撐籽晶；

8、立柱，一端連接于所述底座；

9、限位板，位于所述底座的上方并連接于所述立柱；所述限位板上分布有多個與籽晶相匹配的限位孔。

10、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述限位孔的數(shù)量大于或等于16個。

11、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，至少兩個所述限位板沿所述立柱的軸向間隔設(shè)置。

12、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，還包括容器蓋；所述立柱能夠貫穿所述容器蓋。

13、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述立柱連接有旋轉(zhuǎn)手柄。

14、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述清洗容器呈桶狀。

15、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述底座上設(shè)置有支撐柱，所述支撐柱的頂部用于與籽晶的底端接觸。

16、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述底座上開設(shè)有定位孔，所述支撐柱與所述定位孔過盈配合。

17、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述支撐柱的上部側(cè)壁上具有防脫凸塊。

18、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述支撐柱的頂部呈錐形或圓臺狀。

19、本實(shí)用新型實(shí)施例至少具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果：

20、一、通過限位板和限位孔能夠?qū)ψ丫鸬街?、分隔和保護(hù)的作用，避免籽晶相互之間發(fā)生碰撞、破損、隱裂。

21、二、支架可在清洗容器內(nèi)旋轉(zhuǎn)，使籽晶和酸液均產(chǎn)生移動、晃動，有利于使籽晶各部位均與酸液接觸，籽晶各個面酸洗腐蝕的程度一致，從而避免籽晶因錐度不均勻造成與引晶過程所使用夾頭（用于帶動籽晶升降）之間出現(xiàn)卡頓的情況（裝配問題）。

22、三、支架不僅能夠在酸洗過程中放置籽晶，還能在酸洗后的清洗、風(fēng)干、檢查等過程中放置、轉(zhuǎn)運(yùn)籽晶。

23、本實(shí)用新型的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得明顯，或者通過實(shí)施本實(shí)用新型而了解。

技術(shù)特征：

1.一種籽晶立式清洗工裝，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述限位孔的數(shù)量大于或等于16個。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，至少兩個所述限位板沿所述立柱的軸向間隔設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，還包括容器蓋；所述立柱能夠貫穿所述容器蓋。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述立柱連接有旋轉(zhuǎn)手柄。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述清洗容器呈桶狀。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項(xiàng)所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述底座上設(shè)置有支撐柱，所述支撐柱的頂部用于與籽晶的底端接觸。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述底座上開設(shè)有定位孔，所述支撐柱與所述定位孔過盈配合。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述支撐柱的上部側(cè)壁上具有防脫凸塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的籽晶立式清洗工裝，其特征在于，所述支撐柱的頂部呈錐形或圓臺狀。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種籽晶立式清洗工裝，涉及籽晶清洗技術(shù)領(lǐng)域，其包括：清洗容器；用于放置籽晶的支架，能夠自由進(jìn)出所述清洗容器，并能夠在所述清洗容器中旋轉(zhuǎn)；所述支架包括：底座，用于支撐籽晶；立柱，一端連接于所述底座；限位板，位于所述底座的上方并連接于所述立柱；所述限位板上分布有多個與籽晶相匹配的限位孔。通過限位板和限位孔能夠?qū)ψ丫鸬街?、分隔和保護(hù)的作用，避免籽晶相互之間發(fā)生碰撞、破損、隱裂。支架可在清洗容器內(nèi)旋轉(zhuǎn)，使籽晶和酸液均產(chǎn)生移動、晃動，有利于使籽晶各部位均與酸液接觸，籽晶各個面酸洗腐蝕的程度一致，從而避免籽晶因錐度不均勻造成與引晶過程所使用夾頭之間出現(xiàn)卡頓的情況。

技術(shù)研發(fā)人員：祝中良,袁中華,張軍,馬自成,黃仕建,劉一林,余忠琴,李東梅,王煜臻,唐馳,田志謀,姜?dú)W洋,龔星,周華軍,朱守琴,代琴,謝慶
受保護(hù)的技術(shù)使用者：四川永祥光伏科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240126
技術(shù)公布日：2025/1/6