本技術(shù)涉及顯示裝置加工，尤其涉及一種清理設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著電子產(chǎn)品朝輕、薄、短、小化快速發(fā)展，各種攜帶式電子產(chǎn)品幾乎都以液晶顯示器(liquid?crystal?display，簡(jiǎn)稱lcd)作為顯示面板，特別是在攝錄放影機(jī)、筆記型計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話或個(gè)人數(shù)字處理器等產(chǎn)品上，液晶顯示器已成為重要的組成組件。液晶顯示器除了液晶面板外，在其外圍還連接有驅(qū)動(dòng)芯片作為顯示訊號(hào)的控制用途。一般而言，液晶面板與驅(qū)動(dòng)ic系統(tǒng)的接口銜接技術(shù)大致可分為下列幾種：卷帶式晶粒自動(dòng)貼合技術(shù)(tapeautomated?bonding，簡(jiǎn)稱tab)、晶粒-玻璃接合技術(shù)(chip?on?glass，簡(jiǎn)稱cog)、晶粒-軟板接合技術(shù)(chip?on?flex，簡(jiǎn)稱cof)。但是上述無論哪種銜接技術(shù)，都需要在壓合工藝中運(yùn)用導(dǎo)電膠(anisotropic?conductive?film，簡(jiǎn)稱acf)作為連接兩元器件的中介。但是，在最終的成品中很容易出現(xiàn)諸如電路短接或斷接等壓合缺陷，對(duì)該類具有缺陷的lcd產(chǎn)品，往往需要將其去膠后重新壓合。

2、現(xiàn)有技術(shù)中通常采用人工手動(dòng)清理出現(xiàn)缺陷的顯示面板的玻璃上的導(dǎo)電膠。人工清理的方式通常會(huì)存在以下問題：手動(dòng)清理效率較低，清理時(shí)間較長(zhǎng)，且清理過程中極易發(fā)生破片的情況，導(dǎo)致顯示裝置的加工成本增加。因此，亟需提出一種清理設(shè)備，以解決上述問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種清理設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電膠的自動(dòng)化清理作業(yè)，清理效率較高，還能降低破片率，保證產(chǎn)品質(zhì)量。

2、如上構(gòu)思，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：

3、一種清理設(shè)備，包括：

4、承載平臺(tái)，所述承載平臺(tái)承載待清理件，所述待清理件上設(shè)置有待清理區(qū)；

5、施涂機(jī)構(gòu)，所述施涂機(jī)構(gòu)可活動(dòng)地設(shè)置于所述承載平臺(tái)的上方，所述施涂機(jī)構(gòu)向所述承載平臺(tái)上承載的所述待清理件的所述待清理區(qū)涂抹去除液，以溶解其上的待清理膠；

6、清理機(jī)構(gòu)，所述清理機(jī)構(gòu)可活動(dòng)地設(shè)置于所述承載平臺(tái)的上方，所述清理機(jī)構(gòu)包括吹氣模塊和擦拭模塊，所述吹氣模塊能向所述待清理件的待清理區(qū)吹氣，以清除被溶解的所述待清理膠，所述擦拭模塊能對(duì)所述待清理區(qū)進(jìn)行擦拭；

7、承載架，所述承載架包括立架和與所述立架垂直連接的橫梁，所述立架滑動(dòng)立設(shè)于所述承載平臺(tái)上，所述施涂機(jī)構(gòu)和所述清理機(jī)構(gòu)均滑動(dòng)連接于所述橫梁上；

8、所述清理機(jī)構(gòu)還包括連接筒體，所述連接筒體滑動(dòng)設(shè)置于所述橫梁上，所述連接筒體內(nèi)設(shè)置有不連通的第一腔室和第二腔室，所述第一腔室的出口和所述第二腔室的出口均朝向所述承載平臺(tái)；所述吹氣模塊的出口與所述第一腔室的進(jìn)口相連通；所述擦拭模塊包括第二儲(chǔ)液筒和擦拭件，所述第二儲(chǔ)液筒內(nèi)盛裝有擦拭液，所述第二儲(chǔ)液筒的出口與所述第二腔室的進(jìn)口相連通，所述擦拭件連接于所述第二腔室的出口處。

9、優(yōu)選地，所述施涂機(jī)構(gòu)包括：

10、第一儲(chǔ)液筒，其內(nèi)盛裝有去除液；

11、施涂針頭，滑動(dòng)設(shè)置于所述橫梁上，所述施涂針頭的進(jìn)口與所述第一儲(chǔ)液筒的出口相連通；

12、流量調(diào)節(jié)閥，設(shè)置于所述第一儲(chǔ)液筒和所述施涂針頭之間。

13、優(yōu)選地，所述吹氣模塊的出口與所述第一腔室的進(jìn)口之間設(shè)置有氣壓調(diào)節(jié)件。

14、優(yōu)選地，所述擦拭件可拆卸連接于所述第二腔室的出口處。

15、優(yōu)選地，所述擦拭模塊還包括：

16、安裝盤，插接于所述第二腔室的出口處，所述安裝盤內(nèi)開設(shè)有總管路和多個(gè)沿所述安裝盤的周向間隔分布且與所述總管路相連通的分管路，所述總管路連通所述第二腔室的出口；

17、彈性推出組件，每個(gè)所述分管路中均設(shè)置有所述彈性推出組件，所述彈性推出組件包括固定部、彈性件和滑動(dòng)部，所述固定部設(shè)置于對(duì)應(yīng)的分管路的管壁上，所述滑動(dòng)部滑動(dòng)設(shè)置于對(duì)應(yīng)的分管路的管壁上，所述彈性件的兩端分別連接所述固定部和所述滑動(dòng)部，所述固定部和所述滑動(dòng)部上均設(shè)置有貫穿的通孔，每個(gè)所述滑動(dòng)部的通孔中均插接有所述擦拭件；

18、蓋體，轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述安裝盤上，且所述蓋體上設(shè)置有一避讓孔，當(dāng)所述蓋體相對(duì)所述安裝盤轉(zhuǎn)動(dòng)至所述避讓孔與其中一個(gè)所述擦拭件正對(duì)時(shí)，該所述擦拭件能在所述彈性件的彈性力作用下伸出所述避讓孔。

19、優(yōu)選地，所述擦拭模塊還包括夾持件，所述夾持件包括：

20、插接端，插接于所述第二腔室的出口，所述插接端上貫穿設(shè)置有插接孔，所述擦拭件能插接于所述插接孔內(nèi)；

21、夾持端，包括多個(gè)環(huán)設(shè)于所述插接端周圍的彈性臂，多個(gè)所述彈性臂共同夾緊所述擦拭件。

22、優(yōu)選地，所述清理設(shè)備還包括承載治具，所述承載治具設(shè)置于所述承載平臺(tái)上，且所述承載治具上設(shè)置有能吸附所述待清理件的吸附結(jié)構(gòu)。

23、優(yōu)選地，所述承載治具的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述承載治具的長(zhǎng)度和/或?qū)挾炔欢枷嗤?，且所述承載治具可拆卸地連接于所述承載平臺(tái)上。

24、本實(shí)用新型的有益效果為：

25、本實(shí)用新型提供一種清理設(shè)備，通過設(shè)置承載平臺(tái)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)待清理件的承載；通過設(shè)置施涂機(jī)構(gòu)，可以在待清理件的待清理區(qū)涂抹去除液，以使待清理區(qū)上待清理膠溶解失去粘性，從而與待清理件分離；通過設(shè)置吹氣模塊，可以吹掉待清理件的待清理區(qū)上被溶解的待清理膠，擦拭模塊可以對(duì)待清理區(qū)進(jìn)行擦拭，以保證待清理件表面的潔凈度。通過承載平臺(tái)、施涂機(jī)構(gòu)、吹氣模塊和擦拭模塊之間的相互配合，實(shí)現(xiàn)對(duì)待清理件上的待清理膠的自動(dòng)化清理，清理效率較高，還可以避免現(xiàn)有技術(shù)中采用人工清理導(dǎo)致的破片的情況，從而保證產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)特征：

1.一種清理設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述施涂機(jī)構(gòu)(200)包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述吹氣模塊(310)的出口與所述第一腔室(331)的進(jìn)口之間設(shè)置有氣壓調(diào)節(jié)件(311)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述擦拭件(321)可拆卸連接于所述第二腔室(332)的出口處。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述擦拭模塊(320)還包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述擦拭模塊(320)還包括夾持件(323)，所述夾持件(323)包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述清理設(shè)備還包括承載治具(500)，所述承載治具(500)設(shè)置于所述承載平臺(tái)(100)上，且所述承載治具(500)上設(shè)置有能吸附所述待清理件的吸附結(jié)構(gòu)(501)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清理設(shè)備，其特征在于，所述承載治具(500)的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述承載治具(500)的長(zhǎng)度和/或?qū)挾炔欢枷嗤?，且所述承載治具(500)可拆卸地連接于所述承載平臺(tái)(100)上。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及顯示裝置加工技術(shù)領(lǐng)域，公開一種清理設(shè)備。該清理設(shè)備包括承載平臺(tái)、施涂機(jī)構(gòu)和清理機(jī)構(gòu)，承載平臺(tái)被配置為承載待清理件，待清理件上設(shè)置有待清理區(qū)；施涂機(jī)構(gòu)可活動(dòng)地設(shè)置于承載平臺(tái)的上方，施涂機(jī)構(gòu)被配置為向承載平臺(tái)上承載的待清理件的待清理區(qū)涂抹去除液，以溶解其上的待清理膠；清理機(jī)構(gòu)可活動(dòng)地設(shè)置于承載平臺(tái)的上方，清理機(jī)構(gòu)包括吹氣模塊和擦拭模塊，吹氣模塊能向待清理件的待清理區(qū)吹氣，以清除被溶解的待清理膠，擦拭模塊能對(duì)所述待清理區(qū)進(jìn)行擦拭。所述清理設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電膠的自動(dòng)化清理作業(yè)，清理效率較高，還能降低破片率，保證產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：楊勇
受保護(hù)的技術(shù)使用者：昆山龍騰光電股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240322
技術(shù)公布日：2025/1/9