本技術(shù)涉及晶圓清洗的,尤其涉及一種快排清洗槽。
背景技術(shù):
1、晶圓在經(jīng)歷酸堿溶液后,酸堿液殘留可能導(dǎo)致設(shè)備部件的腐蝕,尤其是當(dāng)液體殘留在設(shè)備表面或通道中時,可能縮短設(shè)備的壽命,增加維護成本,酸堿液殘留可能導(dǎo)致表面產(chǎn)生污染或化學(xué)反應(yīng),影響晶圓的表面質(zhì)量,因此,針對上述問題,提出一種超聲水浴加熱槽。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供了如下技術(shù)方案:一種快排清洗槽,包括水槽,所述水槽前后兩側(cè)面設(shè)置固定支架,所述水槽上方沿所述水槽中心對稱設(shè)置噴淋裝置,所述噴淋裝置包括噴淋管、固定板,兩個所述噴淋管分別設(shè)置在所述水槽前后側(cè)壁上方,所述噴淋管兩端設(shè)置固定板,兩個所述固定板分別固定設(shè)置在所述水槽左右兩側(cè)面上,所述噴淋管開設(shè)多個噴淋孔;所述水槽左側(cè)面設(shè)置水阻箱,所述水阻箱內(nèi)設(shè)置水阻計;所述水槽內(nèi)設(shè)置過濾板并通過固定柱固定在所述水槽底面上,所述水槽左側(cè)面下方前后兩端分別設(shè)置進水管,所述水槽底面設(shè)置兩個排水閥。
2、進一步地,所述水槽底面上設(shè)置兩個均流板,兩個所述均流板與兩個所述進水管相連通,所述均流板側(cè)面排列設(shè)置多個均流孔。
3、進一步地,所述均流孔的高度低于所述過濾板的高度。
4、進一步地,所述水槽四壁上表面均設(shè)置溢流口,所述溢流口為錐形并排列設(shè)置在所述水槽四壁上表面,使所述水槽四壁上端呈鋸齒形。
5、進一步地,所述水阻箱上表面與所述水槽上表面處于同一水平面。
6、進一步地,所述噴淋管上設(shè)置調(diào)節(jié)閥,兩個所述調(diào)節(jié)閥分別設(shè)置在兩端所述噴淋孔兩側(cè)。
7、本實用新型具有如下有益效果:
8、本實用新型中,噴淋管能夠在較短的時間內(nèi)對晶圓表面進行清洗,也能夠確保噴撒的溶液均勻覆蓋整個晶圓表面,使得清洗更加徹底;均流板和均流孔使水能夠均勻的流入水槽內(nèi),不會對晶圓直沖使晶圓發(fā)生碰撞。
1.一種快排清洗槽,其特征在于:包括水槽(1),所述水槽(1)前后兩側(cè)面設(shè)置固定支架(2),所述水槽(1)上方沿所述水槽(1)中心對稱設(shè)置噴淋裝置(3),所述噴淋裝置(3)包括噴淋管(31)、固定板(32),兩個所述噴淋管(31)分別設(shè)置在所述水槽(1)前后側(cè)壁上方,所述噴淋管(31)兩端設(shè)置固定板(32),兩個所述固定板(32)分別固定設(shè)置在所述水槽(1)左右兩側(cè)面上,所述噴淋管(31)開設(shè)多個噴淋孔(33);所述水槽(1)左側(cè)面設(shè)置水阻箱(4),所述水阻箱(4)內(nèi)設(shè)置水阻計(5);所述水槽(1)內(nèi)設(shè)置過濾板(6)并通過固定柱(7)固定在所述水槽(1)底面上,所述水槽(1)左側(cè)面下方前后兩端分別設(shè)置進水管(8),所述水槽(1)底面設(shè)置兩個排水閥(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種快排清洗槽,其特征在于:所述水槽(1)底面上設(shè)置兩個均流板(11),兩個所述均流板(11)與兩個所述進水管(8)相連通,所述均流板(11)側(cè)面排列設(shè)置多個均流孔(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種快排清洗槽,其特征在于:所述均流孔(12)的高度低于所述過濾板(6)的高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種快排清洗槽,其特征在于:所述水槽(1)四壁上表面均設(shè)置溢流口(13),所述溢流口(13)為錐形并排列設(shè)置在所述水槽(1)四壁上表面,使所述水槽(1)四壁上端呈鋸齒形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種快排清洗槽,其特征在于:所述水阻箱(4)上表面與所述水槽(1)上表面處于同一水平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種快排清洗槽,其特征在于:所述噴淋管(31)上設(shè)置調(diào)節(jié)閥(34),兩個所述調(diào)節(jié)閥(34)分別設(shè)置在兩端所述噴淋孔(33)兩側(cè)。