本技術(shù)涉及污水處理，更具體的說(shuō)是涉及一種高效泥水分離沉淀裝置。

背景技術(shù)：

1、在污水處理過(guò)程中需要將污泥和處理水分離開(kāi)來(lái),防止污泥流失或者攔截水中大量懸浮物,以使得后續(xù)處理污水懸浮物達(dá)到國(guó)家相應(yīng)排放要求。

2、目前現(xiàn)有的混凝沉淀裝置均采用方形池體結(jié)構(gòu)，進(jìn)水采用一端底部進(jìn)水，經(jīng)斜板沉淀區(qū)域后，從頂端出水的結(jié)構(gòu)形式。廢水在混凝/絮凝反應(yīng)區(qū)反應(yīng)完全后進(jìn)入布水區(qū)域，而后由布水區(qū)域底端進(jìn)入沉淀區(qū)，在沉淀區(qū)內(nèi)隨著廢水流態(tài)呈斜向上趨勢(shì)推流流動(dòng)，最終從遠(yuǎn)離布水端一側(cè)出水。

3、上述沉淀過(guò)程中由于廢水呈斜向上推流流動(dòng)，會(huì)造成靠近進(jìn)水布水端的斜板沉淀區(qū)域負(fù)荷大，而遠(yuǎn)離進(jìn)水布水端的斜板沉淀區(qū)域負(fù)荷小，絮體大部分集中在進(jìn)水端斜板區(qū)，甚至造成進(jìn)水端斜板區(qū)絮體溢出斜板的情況。其次，在沉淀過(guò)程中廢水自沉淀區(qū)底端自下而上，上升流速會(huì)逐漸加快，不利于絮體的沉淀，因此需要設(shè)置斜板及設(shè)計(jì)較小的表面負(fù)荷來(lái)保證絮體的沉淀完全。絮體自上而下沉淀需克服廢水的上升流速?zèng)_擊，沉淀速度較慢，且部分絮體容易附著于斜板上面，對(duì)沉淀效果影響很大，清洗斜板時(shí)需排空沉淀池，清洗完重新進(jìn)水運(yùn)行時(shí)對(duì)于沉淀區(qū)的沖擊也較大，沉淀效果得不到保證。再者，絮體沉積于沉淀池底部，排泥時(shí)污泥區(qū)與清水區(qū)較難界定，容易出現(xiàn)排泥不完全或?qū)⑶逅徊⑴欧盼勰喑氐那闆r，不利于系統(tǒng)運(yùn)行。

4、因此，提供一種布水均勻，沉淀效果好的高效泥水分離沉淀裝置，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種布水均勻，絮體的沉降效率高，精準(zhǔn)控制排泥量的高效泥水分離沉淀裝置。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案，主要包括：

3、一種高效泥水分離沉淀裝置，包括有絮凝區(qū)域、沉淀區(qū)域、進(jìn)水口、布水導(dǎo)流筒、清洗裝置、出水口和排泥口，所述絮凝區(qū)域一側(cè)底部設(shè)有進(jìn)水口，所述絮凝區(qū)域遠(yuǎn)離進(jìn)水口一側(cè)設(shè)有沉淀區(qū)域，所述沉淀區(qū)域內(nèi)設(shè)有布水導(dǎo)流筒，所述絮凝區(qū)域與布水導(dǎo)流筒聯(lián)通，所述沉淀區(qū)域遠(yuǎn)離絮凝區(qū)域一側(cè)頂部設(shè)有出水口，所述沉淀區(qū)域底部設(shè)有排泥口，所述沉淀區(qū)域內(nèi)部設(shè)有清洗裝置。

4、優(yōu)選的，所述絮凝區(qū)域包括有絮凝反應(yīng)池、隔水擋板和攪拌器，所述隔水擋板將絮凝反應(yīng)池分隔成絮凝池和布水槽，所述絮凝池內(nèi)部設(shè)有攪拌器，所述絮凝池一側(cè)底部設(shè)有進(jìn)水口，所述絮凝池底部設(shè)有排空口，所述布水槽靠近沉淀池一側(cè)與布水導(dǎo)流筒聯(lián)通。

5、優(yōu)選的，沉淀區(qū)域包括有沉淀池、反射擋板、布水孔板、單向長(zhǎng)柄水帽、斜板填料層和溢流堰，所述沉淀池內(nèi)設(shè)有布水導(dǎo)流筒，所述布水導(dǎo)流筒底部安裝有反射擋板，所述沉淀池內(nèi)安裝有布水孔板，所述布水孔板上安裝有若干個(gè)單向長(zhǎng)柄水帽，所述沉淀池上方設(shè)有斜板填料層，所述斜板填料層上方設(shè)有溢流堰，所述沉淀池與溢流堰同水平的池壁上設(shè)有出水口。

6、優(yōu)選的，所述清洗裝置包括清洗進(jìn)水口和清洗布水管，所述布水孔板與斜板填料層之間的池壁上設(shè)有清洗進(jìn)水口，所述布水孔板與斜板填料層之間設(shè)有清洗布水管，所述清洗布水管與清洗進(jìn)水口聯(lián)通。

7、優(yōu)選的，所述沉淀池底部為倒梯形結(jié)構(gòu)，所述布水孔板設(shè)于倒梯形長(zhǎng)邊上。

8、優(yōu)選的，所述布水導(dǎo)流筒為“t”字形。

9、優(yōu)選的，所述絮凝反應(yīng)池和沉淀池底部安裝有支架。

10、經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，

11、本專(zhuān)利采用中心導(dǎo)流筒及布水孔板的布水形式，確保混凝/絮凝后的廢水在沉淀區(qū)布水均勻；

12、本專(zhuān)利采用布水孔板及安裝在孔板的單向長(zhǎng)柄水帽作為中間隔擋，來(lái)降低廢水進(jìn)入沉淀池后的上升流速，從而提高沉淀池內(nèi)絮體的沉降效率；

13、本專(zhuān)利采用布水孔板及安裝在孔板的單向長(zhǎng)柄水帽來(lái)實(shí)現(xiàn)沉淀內(nèi)的上下分層，廢水只能自下而上流動(dòng)，排泥時(shí)只需排空下層泥斗部分，從而實(shí)現(xiàn)排泥量的精準(zhǔn)控制；

14、本專(zhuān)利采用布水孔板及安裝在孔板的單向長(zhǎng)柄水帽來(lái)實(shí)現(xiàn)沉淀內(nèi)的上下分層，排泥和重新進(jìn)水時(shí)對(duì)上層清液不會(huì)產(chǎn)生擾動(dòng)影響，從而確保出水水質(zhì)的穩(wěn)定；

15、本專(zhuān)利采用沖洗布水管的形式對(duì)斜板進(jìn)行清洗，清洗斜板時(shí)無(wú)須排空沉淀池，隨著清洗水位的升高，清洗廢水由中心導(dǎo)流筒頂端進(jìn)入沉淀池下層后通過(guò)排泥口外排，大大節(jié)省斜板沖洗時(shí)間。

技術(shù)特征：

1.一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，包括有絮凝區(qū)域、沉淀區(qū)域、進(jìn)水口、布水導(dǎo)流筒、清洗裝置、出水口和排泥口，所述絮凝區(qū)域一側(cè)底部設(shè)有進(jìn)水口，所述絮凝區(qū)域遠(yuǎn)離進(jìn)水口一側(cè)設(shè)有沉淀區(qū)域，所述沉淀區(qū)域內(nèi)設(shè)有布水導(dǎo)流筒，所述絮凝區(qū)域與布水導(dǎo)流筒聯(lián)通，所述沉淀區(qū)域遠(yuǎn)離絮凝區(qū)域一側(cè)頂部設(shè)有出水口，所述沉淀區(qū)域底部設(shè)有排泥口，所述沉淀區(qū)域內(nèi)部設(shè)有清洗裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，所述絮凝區(qū)域包括有絮凝反應(yīng)池、隔水擋板和攪拌器，所述隔水擋板將絮凝反應(yīng)池分隔成絮凝池和布水槽，所述絮凝池內(nèi)部設(shè)有攪拌器，所述絮凝池一側(cè)底部設(shè)有進(jìn)水口，所述絮凝池底部設(shè)有排空口，所述布水槽靠近沉淀池一側(cè)與布水導(dǎo)流筒聯(lián)通。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，沉淀區(qū)域包括有沉淀池、反射擋板、布水孔板、單向長(zhǎng)柄水帽、斜板填料層和溢流堰，所述沉淀池內(nèi)設(shè)有布水導(dǎo)流筒，所述布水導(dǎo)流筒底部安裝有反射擋板，所述沉淀池內(nèi)安裝有布水孔板，所述布水孔板上安裝有若干個(gè)單向長(zhǎng)柄水帽，所述沉淀池上方設(shè)有斜板填料層，所述斜板填料層上方設(shè)有溢流堰，所述沉淀池與溢流堰同水平的池壁上設(shè)有出水口。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括清洗進(jìn)水口和清洗布水管，所述布水孔板與斜板填料層之間的池壁上設(shè)有清洗進(jìn)水口，所述布水孔板與斜板填料層之間設(shè)有清洗布水管，所述清洗布水管與清洗進(jìn)水口聯(lián)通。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，所述沉淀池底部為倒梯形結(jié)構(gòu)，所述布水孔板設(shè)于倒梯形長(zhǎng)邊上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，所述布水導(dǎo)流筒為“t”字形。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高效泥水分離沉淀裝置，其特征在于，所述絮凝反應(yīng)池和沉淀池底部安裝有支架。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說(shuō)是涉及一種高效泥水分離沉淀裝置。一種高效泥水分離沉淀裝置，包括有絮凝區(qū)域、沉淀區(qū)域、進(jìn)水口、布水導(dǎo)流筒、清洗裝置、出水口和排泥口，所述絮凝區(qū)域一側(cè)底部設(shè)有進(jìn)水口，所述絮凝區(qū)域遠(yuǎn)離進(jìn)水口一側(cè)設(shè)有沉淀區(qū)域，所述沉淀區(qū)域內(nèi)設(shè)有布水導(dǎo)流筒，所述絮凝區(qū)域與布水導(dǎo)流筒聯(lián)通，所述沉淀區(qū)域遠(yuǎn)離絮凝區(qū)域一側(cè)頂部設(shè)有出水口，所述沉淀區(qū)域底部設(shè)有排泥口，所述沉淀區(qū)域內(nèi)部設(shè)有清洗裝置。本技術(shù)采用中心導(dǎo)流筒及布水孔板的布水形式，確?；炷?絮凝后的廢水在沉淀區(qū)布水均勻；排泥時(shí)只需排空下層泥斗部分，從而實(shí)現(xiàn)排泥量的精準(zhǔn)控制。

技術(shù)研發(fā)人員：張耀家,趙英武,王信,楊俊,鐘俊權(quán),徐譽(yù)楊,趙福詳,范承華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海宏微環(huán)境科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240510
技術(shù)公布日：2025/1/6