一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法，清洗裝置包括：第一清洗槽體處于保護(hù)腔體中的第一空間，第二清洗槽體處于保護(hù)腔體中的第二空間；第一清洗槽體與第二清洗槽體由隔離裝置隔離；隔離裝置包括隔離物與隔離容器，其中：隔離物一端置于隔離容器中，隔離物另一端固定于保護(hù)腔體頂部，在隔離容器中有隔離液體時，隔離物將第一空間與第二空間隔離。清洗時：在第一清洗槽體清洗完畢后取出并放置于隔離容器中，并將欲清洗物品從隔離容器處于第一空間的一側(cè)傳送到處于第二空間的一側(cè)；將欲清洗物品從隔離容器中取出并放置于第二清洗槽體。本發(fā)明解決了在清洗過程中清洗液之間的相互交叉污染問題和安全問題；能夠連續(xù)清洗，提高清洗效率。
【專利說明】
一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及電子元器件清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著制造技術(shù)的發(fā)展，特別是太陽能電池、半導(dǎo)體、光學(xué)器件、精密儀器等的發(fā)展，對物品表面清潔度的要求越來越高，這就要求在清洗過程中確保清洗溶液的潔凈度，而有些清洗溶液容易揮發(fā)，相鄰的不同類型清洗溶液的揮發(fā)汽就會發(fā)生相互反應(yīng)，導(dǎo)致清洗溶液被污染。目前在半導(dǎo)體行業(yè)普遍采用的是1965年由Kern和Puotinen等人在N.J.Princeton的RCA實驗室首創(chuàng)并由此而得名的RCA清洗，RCA清洗過程中會用到氨水、雙氧水、硝酸、氫氟酸、硫酸、硝酸等清洗溶液，其中部分溶液易揮發(fā)，而揮發(fā)汽相互混合不僅會產(chǎn)生新的雜質(zhì)，還會有很大的安全隱患，因此各溶液之間的隔離顯得非常重要。
[0003 ]常規(guī)的清洗裝置有單槽清洗裝置、開放式清洗裝置。
[0004]圖1為單槽清洗裝置示意圖，如圖所示，單槽清洗裝置中的每個槽體都有一個保護(hù)腔體，在圖中，一號槽、二號槽、三號槽分別對應(yīng)三個單獨的保護(hù)腔體，使用單槽清洗裝置進(jìn)行清洗的方法是:
[0005]機(jī)械臂每次將清洗物品從一號槽清洗之后取出放到保護(hù)腔體外，放置到另一個保護(hù)腔體中的二號槽，二號槽沖洗之后取出再放到保護(hù)腔體外，然后再放到另一個保護(hù)腔體中的三號槽，三號槽清洗后再取出，清洗順序可以作調(diào)整但是只能一個槽出來之后放到保護(hù)腔體外，然后再進(jìn)入另一個保護(hù)腔體中的其他槽位進(jìn)行清洗，這樣清洗可以很好的避免相鄰溶液的污染。
[0006]圖2為開放式清洗裝置示意圖，如圖所示，開放式清洗裝置中多個槽體共用同一個保護(hù)腔體，在圖中，一號槽、二號槽、三號槽共用一個單獨的保護(hù)腔體，清洗物品從保護(hù)腔體的一端進(jìn)入清洗線，并從保護(hù)腔體的另一端取出，清洗方法是:機(jī)械臂每次將清洗物品從清洗線一端放入一號槽，清洗之后通過機(jī)械臂從一號槽取出依次放入到二號槽、三號槽，這樣清洗可以實現(xiàn)連續(xù)清洗作業(yè)。
[0007]現(xiàn)有技術(shù)的不足在于:單槽清洗裝置無法進(jìn)行連續(xù)性清洗，大大降低了清洗效率，而開放式清洗裝置無法避免因清洗溶液的揮發(fā)性汽體及蒸汽，溶液相互混合之后還會反應(yīng)生成新的化學(xué)物質(zhì)，有的甚至?xí)a(chǎn)生有毒、易燃、易爆的物質(zhì)，給安全生產(chǎn)帶來隱患，同時溶液交叉污染會降低清洗效果，溶液被污染之后只能進(jìn)行換液，增加了清洗成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明提供了一種清洗裝置及采用該裝置的清洗方法，用以在進(jìn)行連續(xù)清洗時，避免相鄰清洗槽之間因揮發(fā)性汽體、溶液噴濺造成的交叉污染以及產(chǎn)生的安全隱患。
[0009]本發(fā)明實施例中提供了一種清洗裝置，包括:保護(hù)腔體、第一清洗槽體、第二清洗槽體以及隔離裝置，其中:
[0010]所述第一清洗槽體、所述第二清洗槽體以及所述隔離裝置置于保護(hù)腔體中，所述第一清洗槽體處于所述保護(hù)腔體中的第一空間，所述第二清洗槽體處于所述保護(hù)腔體中的第二空間；
[0011]所述隔離裝置包括隔離物與隔離容器，其中:
[0012]所述隔離物一端置于所述隔離容器中，所述隔離物另一端固定于所述保護(hù)腔體頂部，在所述隔離容器中有隔離液體時，所述隔離物將所述第一空間與所述第二空間隔離。
[0013]較佳地，進(jìn)一步包括:傳送裝置，所述傳送裝置在所述隔離容器的底部，用于將所述隔離容器中的物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)傳送到處于所述第二空間的一側(cè)。
[0014]較佳地，所述傳送裝置為以下一種或者其組合的裝置:傳送皮帶、傳送鏈條、傳送板。
[0015]較佳地，所述隔離容器的寬度與所述保護(hù)腔體的寬度相同，所述隔離物的寬度與所述保護(hù)腔體的寬度相同。
[0016]較佳地，所述隔離容器的寬度小于所述保護(hù)腔體的寬度，所述隔離物包括第一部分與第二部分，其中，第一部分固定在所述保護(hù)腔體兩側(cè)側(cè)壁，該部分的高度與所述保護(hù)腔體的高度相同，該部分的寬度為所述保護(hù)腔體側(cè)壁到所述隔離容器側(cè)壁的距離;第二部分固定在所述保護(hù)腔體頂端，該部分的下端浸入隔離液體中，該部分的兩側(cè)卡合在第一部分的側(cè)面。
[0017]較佳地，所述隔離物為伸縮式或者折疊式的板狀結(jié)構(gòu)。
[0018]較佳地，所述保護(hù)腔體為方形。
[0019]本發(fā)明實施例中還提供了一種采用上述的清洗裝置的清洗方法，包括:
[0020]將欲清洗物品放置于所述第一清洗槽體；
[0021]在所述第一清洗槽體清洗完畢后取出并放置于所述隔離容器中，并將所述欲清洗物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)通過所述隔離物后傳送到處于所述第二空間的一側(cè)；
[0022]將所述欲清洗物品從所述隔離容器中取出并放置于所述第二清洗槽體。
[0023]較佳地，將所述欲清洗物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)通過所述隔離物后傳送到處于所述第二空間的一側(cè)是通過所述傳送裝置傳送的。
[0024]較佳地，所述欲清洗物品是晶硅電池用硅片、半導(dǎo)體晶圓或光學(xué)透光材料。
[0025]本發(fā)明有益效果如下:
[0026]在本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案中，第一清洗槽體與第二清洗槽體由隔離裝置隔離;隔離裝置中包括隔離物與隔離容器，隔離物一端置于隔離容器中，在隔離容器中有隔離液體時，隔離物將處于保護(hù)腔體中第一空間的第一清洗槽體與處于保護(hù)腔體第二空間的第二清洗槽體隔離。
[0027]在清洗時，在第一清洗槽體清洗完畢后取出并放置于隔離容器中，并將欲清洗物品從隔離容器處于第一空間的一側(cè)傳送到處于第二空間的一側(cè)后，即可將欲清洗物品取出并放置于第二清洗槽體進(jìn)行清洗。
[0028]由于在隔離容器中有隔離液體時，隔離物與隔離容器一起配合使用起到了隔離作用，因此隔離物可以將處于保護(hù)腔體中第一空間的第一清洗槽體與處于保護(hù)腔體第二空間的第二清洗槽體隔離，而位于第一清洗槽體中的第一清洗溶液與位于第二清洗槽體中的第二清洗溶液揮發(fā)后分別位于第一空間與第二空間，并不會產(chǎn)生交叉污染和/或相互反應(yīng);并且，欲清洗物品可以通過隔離容器從第一空間進(jìn)入第二空間，也即實現(xiàn)了在隔離狀態(tài)下由第一清洗槽體進(jìn)入第二清洗槽體。
[0029]所以，在本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案中，通過隔離裝置的隔離作用能夠避免不同易揮發(fā)清洗液的揮發(fā)汽體、蒸汽之間的混合反應(yīng)，解決了在清洗過程中清洗液之間的相互交叉污染問題和安全問題;同時能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)清洗作業(yè)，提高清洗效率。
【附圖說明】
[0030]此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:[0031 ]圖1為【背景技術(shù)】中的單槽清洗裝置示意圖；
[0032]圖2為【背景技術(shù)】中的開放式清洗裝置示意圖；
[0033]圖3為本發(fā)明實施例中清洗裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖4為本發(fā)明實施例中采用清洗裝置的清洗方法實施流程示意圖；
[0035]圖5為本發(fā)明實施例中隔離容器的寬度與保護(hù)腔體的寬度相同時的關(guān)系示意圖；
[0036]圖6為本發(fā)明實施例中隔離容器的寬度小于保護(hù)腔體的寬度相同時的關(guān)系示意圖。
【具體實施方式】
[0037]本發(fā)明實施例中將提供一種清洗裝置以及采用該裝置進(jìn)行清洗的方法，該清洗裝置能夠解決在清洗過程中清洗液之間的相互交叉污染問題和安全問題，避免易揮發(fā)清洗液的揮發(fā)汽體、蒸汽之間的混合反應(yīng)；同時能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)清洗作業(yè)，提高清洗效率。下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】進(jìn)行說明。
[0038]在說明過程中，將首先說明清洗裝置的方案，然后說明采用清洗裝置進(jìn)行清洗的方案，最后在對二者的結(jié)構(gòu)及使用之間的實施進(jìn)行說明。
[0039]圖3為清洗裝置結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，包括:保護(hù)腔體301、第一清洗槽體302、第二清洗槽體303以及隔離裝置304，圖中隔離裝置是以虛線框出示意的，清洗裝置中:
[0040]第一清洗槽體、第二清洗槽體以及隔離裝置置于保護(hù)腔體中，第一清洗槽體處于保護(hù)腔體中的第一空間，第二清洗槽體處于保護(hù)腔體中的第二空間；第一清洗槽體與第二清洗槽體由隔離裝置隔離；
[0041]隔離裝置包括隔離物3041與隔離容器3042，其中:
[0042]隔離物一端置于隔離容器中，所述隔離物另一端固定于所述保護(hù)腔體頂部，在隔離容器中有隔離液體時，隔離物將第一空間與第二空間隔離。
[0043]圖4為采用清洗裝置的清洗方法實施流程示意圖，如圖所示，可以包括:
[0044]步驟401、將欲清洗物品放置于第一清洗槽體；
[0045]步驟402、在第一清洗槽體清洗完畢后取出并放置于隔離容器中，并將欲清洗物品從隔離容器處于第一空間的一側(cè)通過隔離物后傳送到處于第二空間的一側(cè)；
[0046]步驟403、將欲清洗物品從隔離容器中取出并放置于第二清洗槽體。
[0047]實施中，具體在圖3中示意時，隔離裝置中的隔離物是以隔離擋板示意的，此種實施方式下的圖3中，第一空間也即隔離擋板右側(cè)包含了第一清洗槽體的空間，第二空間也即隔離擋板左側(cè)包含了第二清洗槽體的空間。當(dāng)然，在實施中隔離物以隔離擋板為例因為這是一種較為簡單的、容易實現(xiàn)的方式，所以這里以隔離擋板為例;但是，用其它的隔離物或者方式也是可以的，只要其一部分置于隔離容器中，在隔離容器中有隔離液體時，能夠?qū)⒌谝豢臻g與第二空間隔離開即可，也即，實施中隔離物可以為伸縮式或者折疊式的結(jié)構(gòu)，如軟簾、非板狀結(jié)構(gòu)的物體等，隔離擋板僅用于教導(dǎo)本領(lǐng)域技術(shù)人員具體如何實施本發(fā)明，但不意味僅能使用這一種方式，實施過程中可以結(jié)合實踐需要來確定相應(yīng)的物品。同時，下面也將以隔離物為板狀結(jié)構(gòu)的物體為例進(jìn)行具體實施說明。
[0048]由上述實施可見，隔離裝置包括:隔離物與隔離容器，當(dāng)隔離物為板狀結(jié)構(gòu)的隔離擋板時，具體實施中可以將其一端固定在保護(hù)腔體的頂端，另一端浸入隔離容器的隔離液體中(即下述實施例中的第三清洗溶液)下方，隔離擋板與隔離容器一起配合使用后便實現(xiàn)了隔離作用。
[0049]實施中，隔離容器主要用于設(shè)置于有交叉污染或清洗溶液揮發(fā)汽體會相互反應(yīng)的槽體之間，從隔離容器的一側(cè)放入欲清洗物品，欲清洗物品通過隔離擋板底部便可傳送到隔離容器的另一側(cè)。也即，在第一清洗槽體中放入的第一清洗溶液與在第二清洗槽體中放入的第二清洗溶液是會產(chǎn)生交叉污染和/或在揮發(fā)后會相互反應(yīng)的清洗溶液。
[0050]具體的，以清洗太陽能電池硅片為例，應(yīng)用在堿槽和酸槽之間，通過隔離容器與隔離擋板的配合防止酸堿之間相互噴濺和酸堿蒸汽造成的污染。在晶硅電池特別是單晶電池行業(yè)堿部分相對潔凈度較差，酸洗部分潔凈度很高，如果不解決對酸部分的污染問題將會大大降低酸洗的效果，會增加換液的頻次，提升成本。
[0051]從上可知，在清洗裝置中通過設(shè)置隔離裝置即可達(dá)到隔離效果，防止清洗溶液揮發(fā)導(dǎo)致的交叉污染。
[0052]實施中，保護(hù)腔體形成了有效清洗空間，作用是隔絕清洗槽體與外界，不僅防止清洗溶液、揮發(fā)汽體外泄，還能夠防止外部顆粒、灰塵等污染物進(jìn)入清洗槽體中。考慮到對環(huán)境安全與人員安全，當(dāng)清洗液為無危害類型時，保護(hù)腔體可以為半封閉或開放式，反之為封閉式。保護(hù)腔體的體積可以根據(jù)工藝需求進(jìn)行相適應(yīng)的擴(kuò)展，以滿足不同清洗對象的清洗需求。
[0053]實施中，清洗槽體可以包括多個具有不同清洗功能的槽體，實施中清洗槽體將主要以第一清洗槽體、第二清洗槽體為例進(jìn)行說明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員容易知曉可以根據(jù)需要按同樣的結(jié)構(gòu)布置多個清洗槽體。每個清洗槽體可以為一面未封閉的盛液容器，包括清洗槽、沖水槽等。其中，清洗槽用來盛放各種清洗溶液并清洗物品，如酸性清洗槽、堿性清洗槽，清洗槽的數(shù)量根據(jù)工藝需要來設(shè)定，至少為兩個。沖水槽用于沖洗酸性溶液或者堿性溶液，使被清洗物品表面無雜質(zhì)溶液。清洗液為用來清洗物品的液體，例如RCA清洗中的SCl(雙氧水與氨水的混合液)、SC2(鹽酸與雙氧水的混合液)等。被清洗的物品可以包括:晶圓，硅片，玻璃，透鏡等。
[0054]實施中，隔離容器設(shè)置于相鄰兩個需要隔離的清洗槽體之間(即實施例中的第一清洗槽體、第二清洗槽體)，用于兩個槽體之間清洗物品的傳送，隔離容器的數(shù)量和位置可以依據(jù)工藝條件進(jìn)行設(shè)置。具體實施中，隔離容器的尺寸中寬度要求可以小于或者等于清洗腔室的寬度。隔離裝置主要起到輸送和隔離的作用，因此，在隔離容器中放入的第三清洗溶液可以使用無污染和/或不易揮發(fā)的隔離液體，也即對清洗液無污染且不易揮發(fā)的液體，如純水。
[0055]實施中，隔離擋板在為板狀結(jié)構(gòu)時，其尺寸可以與隔離容器的尺寸相匹配，至少可以以下述兩種方式來實施，實施說明中，為便于理解，以保護(hù)腔體為方形進(jìn)行說明。
[0056]一種方式為:隔離容器的寬度Wl與保護(hù)腔體的寬度W2相同，所述隔離物的寬度W3與所述保護(hù)腔體的寬度相同。具體的，圖5為隔離容器的寬度與的寬度相同時的關(guān)系示意圖，圖中隔離容器的寬度W1、保護(hù)腔體的寬度W2、隔離擋板的寬度W3相同，如圖所示，當(dāng)隔離容器的寬度Wl與保護(hù)腔室W2的寬度相同時，隔離擋板的寬度W3設(shè)置可以與保護(hù)腔體W2的寬度相同，且隔離擋板的上端固定在清洗腔室的頂端，固定方式可以為活動的形式，也可以為固定的形式，隔離擋板的下端浸入隔離容器的隔離液體中，防止左右兩側(cè)蒸汽、揮發(fā)性汽體、噴濺出的液體相互污染。
[0057]另一種方式為:所述隔離容器的寬度Wl小于所述保護(hù)腔體的寬度W2，所述隔離物包括第一部分與第二部分，其中，第一部分固定在所述保護(hù)腔體兩側(cè)側(cè)壁，該部分高度Hl與所述保護(hù)腔體的高度H2相同，寬度為所述保護(hù)腔體側(cè)壁到所述隔離容器側(cè)壁的距離;第二部分固定在所述保護(hù)腔體頂端，該部分的下端浸入隔離液體中，兩側(cè)卡合在第一部分的側(cè)面。具體的，圖6為隔離容器的寬度小于保護(hù)腔體的寬度相同時的關(guān)系示意圖，圖中網(wǎng)格區(qū)域為隔離物的第一部分，點狀區(qū)域為隔離物的第二部分，如圖所示，當(dāng)隔離容器的寬度小于清洗腔室的寬度時，隔離擋板可以分為兩部分，一部分是固定在保護(hù)腔體兩側(cè)側(cè)壁的擋板，該部分擋板的高度與保護(hù)腔體的高度相同，寬度為保護(hù)腔體側(cè)壁到隔離容器側(cè)壁的距離，且該部分擋板的頂端固定在保護(hù)腔體的頂端，側(cè)端固定在保護(hù)腔體的側(cè)壁上，另一部分擋板是固定在保護(hù)腔體頂端的擋板，該部分擋板的下端浸入隔離液體中，兩側(cè)可卡合在上述擋板的側(cè)面，即該部分擋板的寬度為隔離容器的寬度。隔離擋板的材質(zhì)可以為抗腐蝕的材質(zhì)。
[0058]實施中，清洗裝置中還可以進(jìn)一步包括:
[0059]傳送裝置，用于將隔離容器中的物品從隔離容器處于第一空間的一側(cè)傳送到處于第二空間的一側(cè)。
[0060]具體的，傳送裝置可以設(shè)置于隔離容器的內(nèi)底部，用于將欲清洗物品從隔離容器的一側(cè)傳送到另一側(cè)。
[0061]實施中，傳送裝置可以為以下一種或者其組合的裝置:傳送皮帶、傳送鏈條、傳送板。例如:具體實施中，傳送裝置可以為傳送帶，可以將傳送帶鋪設(shè)在隔離容器的內(nèi)底部，或在傳送帶上設(shè)置一個載物臺，欲清洗物品或承載物放到傳送帶或載物臺上，傳送帶轉(zhuǎn)動帶動欲清洗物品或承載物在隔離液體中進(jìn)行傳送，避免了揮發(fā)汽對清洗物品的污染，也避免了清洗物品暴露在空汽中被氧化。
[0062]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種清洗裝置，其特征在于，包括:保護(hù)腔體、第一清洗槽體、第二清洗槽體以及隔離裝置，其中: 所述第一清洗槽體、所述第二清洗槽體以及所述隔離裝置置于保護(hù)腔體中，所述第一清洗槽體處于所述保護(hù)腔體中的第一空間，所述第二清洗槽體處于所述保護(hù)腔體中的第二空間； 所述隔離裝置包括隔離物與隔離容器，其中: 所述隔離物一端置于所述隔離容器中，所述隔離物另一端固定于所述保護(hù)腔體頂部，在所述隔離容器中有隔離液體時，所述隔離物將所述第一空間與所述第二空間隔離。2.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括: 傳送裝置，所述傳送裝置在所述隔離容器的底部，用于將所述隔離容器中的物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)傳送到處于所述第二空間的一側(cè)。3.如權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述傳送裝置為以下一種或者其組合的裝置:傳送皮帶、傳送鏈條、傳送板。4.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述隔離容器的寬度與所述保護(hù)腔體的寬度相同，所述隔離物的寬度與所述保護(hù)腔體的寬度相同。5.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述隔離容器的寬度小于所述保護(hù)腔體的寬度，所述隔離物包括第一部分與第二部分，其中，所述第一部分固定在所述保護(hù)腔體兩側(cè)側(cè)壁，該部分的高度與所述保護(hù)腔體的高度相同，該部分的寬度為所述保護(hù)腔體側(cè)壁到所述隔離容器側(cè)壁的距離;所述第二部分固定在所述保護(hù)腔體頂端，該部分的下端浸入所述隔離液體中，該部分的兩側(cè)卡合在所述第一部分的側(cè)面。6.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述隔離物為伸縮式或折疊式的板狀結(jié)構(gòu)。7.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述保護(hù)腔體為方形。8.一種采用如權(quán)利要求1-7所述的清洗裝置的清洗方法，其特征在于，包括: 將欲清洗物品放置于所述第一清洗槽體； 在所述第一清洗槽體清洗完畢后取出并放置于所述隔離容器中，并將所述欲清洗物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)通過所述隔離物后傳送到處于所述第二空間的一側(cè)； 將所述欲清洗物品從所述隔離容器中取出并放置于所述第二清洗槽體。9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，將所述欲清洗物品從所述隔離容器處于所述第一空間的一側(cè)通過所述隔離物后傳送到處于所述第二空間的一側(cè)是通過所述傳送裝置傳送的。10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述欲清洗物品是晶硅電池用硅片、半導(dǎo)體晶圓或光學(xué)透光材料。
【文檔編號】H01L21/67GK105935674SQ201610427020
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2016年6月16日
【發(fā)明人】侯洪濤, 田小讓, 谷士斌, 張 林, 趙冠超, 徐湛, 楊榮, 李立偉, 郭鐵
【申請人】新奧光伏能源有限公司