一種等離子清潔裝置的制造方法
【專利說(shuō)明】
[技術(shù)領(lǐng)域]
[0001]本實(shí)用新型涉及全貼合領(lǐng)域，具體涉及一種等離子清潔裝置。
[【背景技術(shù)】]
[0002]全貼合主要是將觸摸屏與顯示模組通過(guò)光學(xué)膠或水膠貼合在一起的工藝，貼合前會(huì)先進(jìn)行壓合區(qū)清潔，壓合區(qū)清潔的主要目的是去除玻璃基板表面殘留的固體微粒及有機(jī)物質(zhì)；傳統(tǒng)的方法是通過(guò)粘塵輥或無(wú)塵布+酒精進(jìn)行清潔，但上述方法無(wú)法清除有機(jī)異物；因前端工藝需要，生產(chǎn)過(guò)程中的有機(jī)物較多，常見(jiàn)的主要有灌液晶過(guò)程中液晶的殘留、UV膠等，如果不能有效去除這些有機(jī)物，就會(huì)產(chǎn)生壓合異物、貼合氣泡等不良現(xiàn)象。
[
【發(fā)明內(nèi)容】
]
[0003]針對(duì)上述缺陷，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種等離子清潔方法及裝置，解決了傳統(tǒng)清潔方法無(wú)法清理有機(jī)異物的問(wèn)題，進(jìn)而減少了貼合成品的異物不良及氣泡不良。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0005]一種等離子清潔裝置，包括等離子清潔模組、位于所述等離子清潔模組下方的用于放置工件并帶動(dòng)工件移動(dòng)的工件移動(dòng)平臺(tái)、用于調(diào)節(jié)所述等離子清潔模組與工件間距的間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、與所述等離子清潔模組、工件移動(dòng)平臺(tái)、間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)連接的電氣控制裝置。
[0006]本實(shí)用新型的等離子清潔裝置中，工件固定于所述工件移動(dòng)平臺(tái)上并在工件移動(dòng)平臺(tái)的帶動(dòng)下進(jìn)給；工作時(shí)，先通過(guò)間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)等離子清潔模組與工件的間距，工件固定于工件移動(dòng)平臺(tái)上從等離子清潔模組下方均速通過(guò)，達(dá)到清除工件表面有機(jī)異物的目的，解決了傳統(tǒng)清潔方法無(wú)法清理有機(jī)異物的問(wèn)題，進(jìn)而減少了貼合成品的異物不良及氣泡不良。
[【附圖說(shuō)明】]
[0007]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0008]圖2為本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
[【具體實(shí)施方式】]
[0009]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)闡述。
[0010]如圖1至圖2所示，本實(shí)用新型的等離子清潔裝置，包括等離子清潔模組2、位于所述等離子清潔模組2下方的用于放置工件3并帶動(dòng)工件3移動(dòng)的工件移動(dòng)平臺(tái)4、用于調(diào)節(jié)所述等離子清潔模組2與工件間距的間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)1、與所述等離子清潔模組2、工件移動(dòng)平臺(tái)4、間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)I連接的電氣控制裝置11 ;
[0011]本實(shí)用新型的等離子清潔裝置中，工件3固定于所述工件移動(dòng)平臺(tái)4上并在工件移動(dòng)平臺(tái)4的帶動(dòng)下進(jìn)給；工作時(shí)，先通過(guò)間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)I調(diào)節(jié)等離子清潔模組2與工件3的間距，工件3固定于工件移動(dòng)平臺(tái)I上從等離子清潔模組2下方均速通過(guò)，達(dá)到清除工件3表面有機(jī)異物的目的，解決了傳統(tǒng)清潔方法無(wú)法清理有機(jī)異物的問(wèn)題，進(jìn)而減少了貼合成品的異物不良及氣泡不良。
[0012]優(yōu)選的，所述等離子清潔模組2包括用于產(chǎn)生正負(fù)離子的正極板7、負(fù)極板8、與所述正極板7和負(fù)極板8連接的電源12，以及用于產(chǎn)生吹送正負(fù)離子的惰性氣體氣流的惰性氣體供給裝置5、進(jìn)氣閥6 ;工作時(shí)，惰性氣體供給裝置5中的惰性氣體通過(guò)送氣閥6進(jìn)入等離子發(fā)生部，當(dāng)惰性氣體進(jìn)入等離子發(fā)生部預(yù)定時(shí)間后，電源12驅(qū)動(dòng)正極板7、負(fù)極板8產(chǎn)生等離子體，等離子體在惰性氣體氣流的帶動(dòng)下高速撞擊工件3表面，通過(guò)離子打破工件3表面有機(jī)異物脆弱的化學(xué)鍵，并使有機(jī)異物脫離工件3表面，達(dá)到去除工件3表面有機(jī)異物的目的，通過(guò)上述方法，可有效降低全貼合時(shí)氣泡不良；
[0013]優(yōu)選的，所述等離子清潔模組2內(nèi)還設(shè)有用于監(jiān)控溫度的溫控器13，用于監(jiān)測(cè)和控制等離子清潔模組2中離子發(fā)生部的溫度，使其工作于適宜的溫度下，以保證使用安全和工作效率；
[0014]進(jìn)一步的，本實(shí)用新型的等離子清潔裝置還包括與所述等離子清潔模組2對(duì)接的風(fēng)機(jī)9和廢氣處理裝置10，產(chǎn)生的廢氣會(huì)通過(guò)風(fēng)機(jī)9排送到廢氣處理裝置10進(jìn)行處理，使用更加環(huán)保；
[0015]優(yōu)選的，所述工件移動(dòng)平臺(tái)4為一真空吸附平臺(tái)，便于工件3的取放。
[0016]以上所述的本發(fā)明實(shí)施方式，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限定。任何在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的權(quán)利要求保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種等離子清潔裝置，其特征在于:包括等離子清潔模組、位于所述等離子清潔模組下方的用于放置工件并帶動(dòng)工件移動(dòng)的工件移動(dòng)平臺(tái)、用于調(diào)節(jié)所述等離子清潔模組與工件間距的間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、與所述等離子清潔模組、工件移動(dòng)平臺(tái)、間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)連接的電氣控制裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔裝置，其特征在于:所述等離子清潔模組包括用于產(chǎn)生正負(fù)離子的正極板、負(fù)極板、與所述正極板和負(fù)極板連接的電源，以及用于產(chǎn)生吹送正負(fù)離子的惰性氣體氣流的惰性氣體供給裝置、進(jìn)氣閥。
3.如權(quán)利要求1或2所述的等離子清潔裝置，其特征在于:所述等離子清潔模組內(nèi)還設(shè)有用于監(jiān)控溫度的溫控器。
4.如權(quán)利要求2所述的等離子清潔裝置，其特征在于:還包括與所述等離子清潔模組對(duì)接的風(fēng)機(jī)和廢氣處理裝置。
5.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔裝置，其特征在于:所述工件移動(dòng)平臺(tái)為一真空吸附平臺(tái)。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種等離子清潔裝置，包括等離子清潔模組、位于所述等離子清潔模組下方的用于放置工件并帶動(dòng)工件移動(dòng)的工件移動(dòng)平臺(tái)、用于調(diào)節(jié)所述等離子清潔模組與工件間距的間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、與所述等離子清潔模組、工件移動(dòng)平臺(tái)、間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)連接的電氣控制裝置。本實(shí)用新型的等離子清潔裝置中，工件固定于所述工件移動(dòng)平臺(tái)上并在工件移動(dòng)平臺(tái)的帶動(dòng)下進(jìn)給；工作時(shí)，先通過(guò)間距調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)等離子清潔模組與工件的間距，工件固定于工件移動(dòng)平臺(tái)上從等離子清潔模組下方均速通過(guò)，達(dá)到清除工件表面有機(jī)異物的目的，解決了傳統(tǒng)清潔方法無(wú)法清理有機(jī)異物的問(wèn)題，進(jìn)而減少了貼合成品的異物不良及氣泡不良。
【IPC分類】B08B7-00
【公開(kāi)號(hào)】CN204353149
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420821238
【發(fā)明人】高軍鵬
【申請(qǐng)人】深圳市易天自動(dòng)化設(shè)備有限公司
【公開(kāi)日】2015年5月27日
【申請(qǐng)日】2014年12月22日