晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于電子器件檢測裝置領(lǐng)域，具體涉及一種晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]在電子技術(shù)領(lǐng)域的產(chǎn)品生產(chǎn)過程中，經(jīng)常要用到一種原材料一晶體振蕩器，簡稱晶振，產(chǎn)品生產(chǎn)完成后，如果晶振不起振將會影響設(shè)計功能的實現(xiàn)，但是，在生產(chǎn)過程中逐個測量晶振頻率所花費的人力物力較大，因此人們設(shè)計有晶振檢測儀。現(xiàn)有晶振檢測儀是由振動盤、晶體軌道以及晶體軌道上的檢測機構(gòu)組合而成，然而現(xiàn)有晶振檢測儀還未有在檢測的同時實現(xiàn)功率清洗的功能，不能滿足生產(chǎn)需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題便是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，它既能夠?qū)崿F(xiàn)對晶振進行檢測，同時還可對其進行功率清洗，使晶振銀面分布更為均勻，加大了功率信號，使產(chǎn)品質(zhì)量更為穩(wěn)定。
[0004]本實用新型所采用的技術(shù)方案是:一種晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，包括傾斜設(shè)置的晶體軌道，所述晶體軌道上設(shè)置有供單個晶振依次通行的晶振通槽，所述晶體軌道一側(cè)設(shè)置有固定座，該固定座上設(shè)置有活動連接的清洗裝置和檢測裝置，所述清洗裝置對應(yīng)所述晶振通槽一端設(shè)置有功率清洗頭，該功率清洗頭與外部的晶體功率清洗器電連，所述檢測裝置對應(yīng)所述晶振通槽一端設(shè)置有檢測頭，該檢測頭與外部的晶體檢測器電連。
[0005]作為優(yōu)選，所述固定座沿所述晶體軌道長度方向設(shè)置，且固定座上開設(shè)有分別與所述晶體軌道平行的左定位槽和右定位槽，所述清洗裝置通過其底部的第一定位螺桿活動連接在上述左定位槽內(nèi)，所述檢測裝置通過其底部的第二定位螺桿活動連接在上述右定位槽內(nèi)，所述第一定位螺桿和第二定位螺桿分別貫穿上述左定位槽和右定位槽后由定位螺母緊固。
[0006]作為優(yōu)選，所述第一定位螺桿的長度大于所述第二定位螺桿的長度與所述檢測裝置的厚度之和。
[0007]本實用新型的有益效果在于:由于本實用新型在晶體軌道上設(shè)置有清洗裝置，其可對晶振進行功率清洗，使晶振銀面分布更為均勻，加大了晶振的功率信號，使產(chǎn)品質(zhì)量更為穩(wěn)定；同時清洗裝置和檢測裝置均是活動連接在固定座上的，因此可以根據(jù)需要調(diào)節(jié)其位置和先后順序，即可以根據(jù)需要和檢測儀適應(yīng)進行先清洗后檢測或者先檢測后清洗的操作，可以有效提高工作效率。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0009]圖2為本實用新型的清洗裝置與固定座連接剖視圖。
[0010]圖中:1、晶體軌道；2、晶振通槽；3、固定座；4、清洗裝置；5、檢測裝置；6、功率清洗頭；7、檢測頭；8、左定位槽；9、右定位槽；10、第一定位螺桿；11、第二定位螺桿；12、定位螺母。
【具體實施方式】
[0011]下面將結(jié)合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步詳細說明。
[0012]如圖1所示，一種晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，包括傾斜設(shè)置的晶體軌道1，所述晶體軌道I上設(shè)置有供單個晶振依次通行的晶振通槽2，所述晶體軌道I 一側(cè)設(shè)置有固定座3，該固定座3上設(shè)置有活動連接的清洗裝置4和檢測裝置5，清洗裝置4對應(yīng)所述晶振通槽2 一端設(shè)置有功率清洗頭6，該功率清洗頭6與外部的晶體功率清洗器電連，用于對晶振進行功率清洗，所述檢測裝置5對應(yīng)所述晶振通槽2 —端設(shè)置有檢測頭7，該檢測頭7與外部的晶體檢測器電連，用于檢測晶振頻率。
[0013]由于本實用新型在晶體軌道I上設(shè)置有清洗裝置4，其可對晶振進行功率清洗，使晶振銀面分布更為均勻，加大了晶振的功率信號，使產(chǎn)品質(zhì)量更為穩(wěn)定。
[0014]如圖1和圖2所示，所述固定座3沿所述晶體軌道I長度方向設(shè)置，且固定座3上開設(shè)有分別與所述晶體軌道I平行的左定位槽8和右定位槽9，所述清洗裝置4通過其底部的第一定位螺桿10活動連接在上述左定位槽8內(nèi)，所述檢測裝置5通過其底部的第二定位螺桿11活動連接在上述右定位槽9內(nèi)，所述第一定位螺桿10和第二定位螺桿11分別貫穿上述左定位槽8和右定位槽9后由定位螺母12緊固。當(dāng)需要調(diào)節(jié)清洗裝置4和檢測裝置5的位置時，可以松開相應(yīng)的定位螺母12，并移動相應(yīng)定位螺桿在相應(yīng)定位槽中的位置，最后再擰緊定位螺母12即可，方便快捷，可以方便地調(diào)整清洗裝置4和檢測裝置5的前后順序。同時第一定位螺桿10的長度大于第二定位螺桿11的長度與檢測裝置5的厚度之和。
[0015]本實用新型的清洗裝置4和檢測裝置5均是活動連接在固定座3上的，因此可以根據(jù)需要調(diào)節(jié)其位置和先后順序，即可以根據(jù)需要和檢測儀適應(yīng)進行先清洗后檢測或者先檢測后清洗的操作，可以有效提高工作效率。而且本實用新型也可以根據(jù)需要對清洗裝置4和檢測裝置5進行選配安裝，靈活度高，適應(yīng)范圍廣。
[0016]以上所述，僅為本實用新型較佳實施例而已，故不能以此限定本實用新型實施的范圍，即依本實用新型申請專利范圍及說明書內(nèi)容所作的等效變化與修飾，皆應(yīng)仍屬本實用新型專利涵蓋的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，包括傾斜設(shè)置的晶體軌道(1)，所述晶體軌道(I)上設(shè)置有供單個晶振依次通行的晶振通槽(2)，其特征在于:所述晶體軌道(I) 一側(cè)設(shè)置有固定座(3)，該固定座(3)上設(shè)置有活動連接的清洗裝置(4)和檢測裝置(5)，所述清洗裝置(4)對應(yīng)所述晶振通槽(2) —端設(shè)置有功率清洗頭(6)，該功率清洗頭(6)與外部的晶體功率清洗器電連，所述檢測裝置(5)對應(yīng)所述晶振通槽(2) —端設(shè)置有檢測頭(7)，該檢測頭(7)與外部的晶體檢測器電連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，其特征在于:所述固定座(3)沿所述晶體軌道(I)長度方向設(shè)置，且固定座(3)上開設(shè)有分別與所述晶體軌道(I)平行的左定位槽(8 )和右定位槽(9 )，所述清洗裝置(4 )通過其底部的第一定位螺桿(10 )活動連接在上述左定位槽(8 )內(nèi)，所述檢測裝置(5 )通過其底部的第二定位螺桿(11)活動連接在上述右定位槽(9)內(nèi)，所述第一定位螺桿(10)和第二定位螺桿(11)分別貫穿上述左定位槽(8)和右定位槽(9)后由定位螺母(12)緊固。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，其特征在于:所述第一定位螺桿(10)的長度大于所述第二定位螺桿(11)的長度與所述檢測裝置(5)的厚度之和。
【專利摘要】本實用新型公開一種晶振檢測儀功率清洗機構(gòu)，包括傾斜設(shè)置的晶體軌道，所述晶體軌道上設(shè)置有供單個晶振依次通行的晶振通槽，所述晶體軌道一側(cè)設(shè)置有固定座，該固定座上設(shè)置有活動連接的清洗裝置和檢測裝置，所述清洗裝置對應(yīng)所述晶振通槽一端設(shè)置有功率清洗頭，該功率清洗頭與外部的晶體功率清洗器電連，所述檢測裝置對應(yīng)所述晶振通槽一端設(shè)置有檢測頭，該檢測頭與外部的晶體檢測器電連。由于本實用新型在晶體軌道上設(shè)置有清洗裝置，其可對晶振進行功率清洗，使晶振銀面分布更為均勻，加大了晶振的功率信號，使產(chǎn)品質(zhì)量更為穩(wěn)定。
【IPC分類】B08B1-00, G01R1-04, G01R23-02
【公開號】CN204523619
【申請?zhí)枴緾N201520225279
【發(fā)明人】楊啟付, 林東國, 趙樂平
【申請人】福建省將樂縣長興電子有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請日】2015年4月15日