專利名稱:帶有分配翼的轉(zhuǎn)動(dòng)的再生氧化器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及再生氧化器,尤其是再生熱力氧化器和再生催化劑氧化器,在該再生氧化器內(nèi)中安置了一個(gè)分離器,其中,在這種分離器的圓筒中央有一個(gè)所謂轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)動(dòng)著,以便持續(xù)地把廢氣例如揮發(fā)性有機(jī)化合物(V.O.C)和臭氣去除掉。
去除包含揮發(fā)性有機(jī)化合物和臭氣在內(nèi)的廢氣之常規(guī)方法,是物理-化學(xué)方法,即濃縮法、氧化法、吸收法以及濕洗法。最近也發(fā)展出了利用微生物的生物處理方法。但應(yīng)用生物處理方法來處理高濃度的揮發(fā)性有機(jī)化合物和臭氣時(shí),卻有些技術(shù)困難。所以,催化劑氧化法或濕洗法就用得更普遍。
一般來說,再生催化劑氧化器方法用得廣泛,因?yàn)檫@些方法比起直接的熱力氧化器方法能在較低的溫度下去除污染物,因而更節(jié)省能量。但通常所用的再生催化劑氧化器方法,是阻尼型的氧化器方法,它采用定時(shí)器來反復(fù)地吸收和排放揮發(fā)性有機(jī)化合物。
因此,現(xiàn)有技術(shù)的再生催化劑氧化器如圖1a所示,具有處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物的阻尼器D2與D4,它們分別被用作入口與出口,并被安置在再生氧化器的下部部分,而燃燒室30被安置在上部部分中。加熱介質(zhì)層10與催化劑層20,它們是從氧化了的氣體重新獲得熱量的,被安置在再生氧化器之內(nèi)。
在如上所述的再生催化劑氧化器中,揮發(fā)性有機(jī)化合物被穿過阻尼器D2而引入再生氧化器中,在其中,當(dāng)揮發(fā)性有機(jī)化合物穿過加熱介質(zhì)層10和催化劑層20時(shí),就被預(yù)加熱。接著,預(yù)加熱了的揮發(fā)性有機(jī)化合物在燃燒室中被去除。已凈化的高溫氣體穿過安置在再生氧化器另一側(cè)上的催化劑層20和加熱介質(zhì)層10,在催化劑層中經(jīng)受第二次氧化,并被經(jīng)過阻尼器D4而被排放到大氣中,從而熱量就被轉(zhuǎn)移到加熱介質(zhì)層。上述過程是由安置在再生氧化器之內(nèi)的定時(shí)器所控制的,該定時(shí)器根據(jù)固定的時(shí)間間歇而逆轉(zhuǎn)流動(dòng)方向,從而改變流入層和流出層的作用。
換言之,圖1a中所示的阻尼器D2與D4以及D1與D3是周期性地關(guān)閉和打開的。因此,入口就變?yōu)槌隹冢粗嗳?。雖然圖1a只顯示了再生催化劑氧化器,但再生熱力氧化器也是以同樣方式操作的,且也是受定時(shí)器控制的。
然而,當(dāng)在再生熱力氧化器的每個(gè)周期之后開啟阻尼器時(shí),留在加熱介質(zhì)層與已關(guān)閉的阻尼器之間的未經(jīng)處理的殘余揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體,在阻尼器D1打開時(shí),就被排放到大氣中。
另外,在開啟阻尼器時(shí),加熱介質(zhì)層和催化劑層的溫度降低,使得燃燒器再度加熱,達(dá)到合乎要求的必須溫度。另外,揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體,它們還未達(dá)到氧化所要求的溫度,就被未經(jīng)處理地排放到大氣中了。
已經(jīng)有人在這個(gè)領(lǐng)域做了大量研究,以便解決這個(gè)問題。最有代表性的方法,在US 5562442號(hào)和US 5967771號(hào)中說明了。
US 5562442號(hào)公開了一種再生熱力氧化器,它由下方、中央和上方各部分組成,這些部分由壁狀隔板劃分開,其中,在下部部分中安置了轉(zhuǎn)子。該轉(zhuǎn)子由上部板組件、小孔板組件以及下部固定表面構(gòu)成。小孔板轉(zhuǎn)動(dòng)得抵靠著使用輥組件的上部板組件,該輥組件由上部與下部的套筒所固定。
在操作中,閥體部轉(zhuǎn)動(dòng)并接納來自入口的氣體,并經(jīng)過一些小孔而把來自入口的氣體引向氧化器的其余部分。然后,處理過的氣體經(jīng)過小孔而被轉(zhuǎn)動(dòng)的閥體部所接納。轉(zhuǎn)動(dòng)的閥體部在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)由對(duì)應(yīng)于下部固定表面以及上部組件的調(diào)節(jié)組件所支承。
但小孔板組件是對(duì)著組件的底板水平地轉(zhuǎn)動(dòng)的。因此,就需要大的密封覆蓋面積,并涉及復(fù)雜因素,還可能出現(xiàn)機(jī)械故障。所以,就不可能完全密封,并會(huì)增加制造成本。
US 5967771號(hào)公開了一種轉(zhuǎn)動(dòng)的再生氧化器,它包括兩個(gè)以上加熱介質(zhì)層和催化劑層,并包括一件式轉(zhuǎn)動(dòng)元件,該元件豎直地安置在再生氧化器中央,并在內(nèi)部被區(qū)分為3個(gè)包含了區(qū)分板的分離的通道。包括了區(qū)分板的轉(zhuǎn)動(dòng)元件,像一件式流動(dòng)分配器那樣轉(zhuǎn)動(dòng)。
在操作中,氣體從入口經(jīng)過轉(zhuǎn)動(dòng)元件而流入艙室的入口區(qū),并流經(jīng)加熱介質(zhì)層的入口部分。已凈化氣體被推得經(jīng)過加熱介質(zhì)層的另一個(gè)部分,然后去往出口。
在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),由于轉(zhuǎn)動(dòng)元件和區(qū)分板是對(duì)著加熱介質(zhì)層10的支承部分水平地轉(zhuǎn)動(dòng)的,就需要對(duì)3個(gè)分離的通道艙室與一件式轉(zhuǎn)動(dòng)元件之間的區(qū)域,以及對(duì)上部區(qū)分板與加熱介質(zhì)層的底部之間的區(qū)域,進(jìn)行密封。
另外,轉(zhuǎn)動(dòng)元件和3個(gè)分離通道艙室要求大的剖面密封面積,這樣會(huì)導(dǎo)致成本增加,且會(huì)出現(xiàn)如US 5562442號(hào)一樣的密封問題。
按照本發(fā)明的一個(gè)推薦構(gòu)造實(shí)施例而采用的再生氧化器,上述缺點(diǎn)就會(huì)被克服,在其中,一個(gè)分離器被安置在再生氧化器的外殼之內(nèi),從而,該分離器的中央轉(zhuǎn)動(dòng),以便持續(xù)地去除廢氣例如揮發(fā)性有機(jī)化合物和臭氣。
因此,本發(fā)明提供一種新穎的再生熱力氧化器,在該氧化器中,揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體穿過以陶瓷材料包封的加熱介質(zhì)層,并在燃燒室中被氧化。
本發(fā)明還提供一種新穎的再生催化劑氧化器,在該氧化器中,催化劑層被添加到上面提到的再生熱力氧化器的加熱介質(zhì)層上,能使揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體以較低的溫度被氧化。
現(xiàn)在,以舉例的方式,參照
本發(fā)明,在這些附圖中圖2是本發(fā)明的再生氧化器的筒略透視圖;圖3是沿著圖2中線段A-A截取繪成的簡(jiǎn)略剖視圖;圖4是分離器和轉(zhuǎn)子的簡(jiǎn)略透視圖;圖5a與5b是分別沿著圖3中線段B-B與C-C繪成的簡(jiǎn)略剖視圖;圖6a與6b顯示裝配了彈簧裝置和O形環(huán)以便防止流入與流出的氣體混合的分配區(qū)。
在各幅圖紙中,各個(gè)標(biāo)號(hào)所代表的是1為再生氧化器、1a為入口管子、1b為出口管子、2為入口室、3為出口室、10為加熱介質(zhì)層、20為催化劑層、30為燃燒室、31為燃燒器、100為分離器、101為外壁、110為分配圓筒、111為圓筒孔、112為上軸承、113為下軸承、120為隔離板、200為轉(zhuǎn)子、210為分配翼、220為轉(zhuǎn)子圓筒、221為上出口孔、222為下出口孔、230為上軸、240為下軸、250為轉(zhuǎn)子罩、251為出口開口、252為豎直隔板、253為清洗區(qū)段、300為驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、301為齒輪電動(dòng)機(jī)、302為減速器、303為齒輪、510為清洗氣體供應(yīng)管路、520為彈簧裝置、530為新鮮空氣清洗器、540為密封裝置(O形環(huán))以及550為分離器內(nèi)壁。
雖然對(duì)再生催化劑氧化器和再生熱力氧化器都適用,但為了方便起見,所說明的各個(gè)實(shí)施例還是以再生催化劑氧化器為基礎(chǔ)。
因此,在整個(gè)本說明書中,術(shù)語(yǔ)“再生氧化器”指的是再生熱力氧化器和/或再生催化劑氧化器。
圖2所示筒狀再生氧化器1,包括管子1a,它作為入口用以處理廢氣例如揮發(fā)性有機(jī)化合物和臭氣的;加熱介質(zhì)層10,它環(huán)繞地安置在再生氧化器1的外殼之內(nèi);催化劑層20,它環(huán)繞地安置在加熱介質(zhì)層上方;燃燒室30,它裝配了使氣體在那兒發(fā)生燃燒的燃燒器31或電加熱器;分配圓筒110,它安置在外殼中央;以及分離器100,它具有圓筒孔111,該孔圍繞著帶有隔離板120的分配圓筒,這些隔離板防止廢氣與已凈化氣體混合。
加熱介質(zhì)層中的載體,可以由一種或多種陶瓷材料(蜂巢狀的或鞍狀的)、金屬模板即金屬板構(gòu)成,這要依特定用途而定。
催化劑層可以填充上一種催化劑例如Pt/TiO2、錳、氧化鉻、堿金屬、鋁、精密的金屬或者其合成物。
圖4中所示的分離器100,包括與氧化器的內(nèi)壁相配合的筒狀外壁101,以及被隔離板120按相同間隔而隔成的多個(gè)小艙。分離器中的小艙具有扇形形狀,因?yàn)橥鈭A筒的圓周與分配圓筒110的圓周有差別。分離器的上部部分與加熱介質(zhì)層相接觸,且下部部分被入口室2及出口室3所隔離。
圓筒孔111根據(jù)轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)動(dòng)位置用作入口或出口,且它在與轉(zhuǎn)子200的上軸230相連接的內(nèi)部中央中具有上軸承112。也就是說,上軸承112連接著轉(zhuǎn)子200的上軸230,且下軸240在出口室3的底部連接著下軸承(圖中未顯示),以便能用驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)300而轉(zhuǎn)動(dòng)。
轉(zhuǎn)子200安置在分配圓筒110之內(nèi),該轉(zhuǎn)子包括下列部件轉(zhuǎn)子圓筒220,它具有多個(gè)分配翼210,這些分配翼圍著周邊的間隔是相等的;轉(zhuǎn)子罩250,它圍著那些分配翼,并具有一個(gè)收集已凈化氣體的孔;出口孔222,它連接著出口管子1b;以及驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)300,它使轉(zhuǎn)子按特定速度轉(zhuǎn)動(dòng)。
轉(zhuǎn)子200由分配翼210、上出口孔221以及下出口孔222構(gòu)成。轉(zhuǎn)子罩250豎直地罩著那些分配翼210的大約一半,同時(shí)罩著分配翼210的底下的那一半。換言之,轉(zhuǎn)子罩250罩著那些分配翼210的周邊的約1/4。分配翼210頂上的那一半被安置在分配圓筒110之內(nèi)。因此,具有分配翼的下部部分,就成了供廢氣所用的入口,而上出口孔221則成了已凈化氣體所用的出口。
分配翼210在轉(zhuǎn)子的上部部分上沿著周邊被安置得間隔相等,且如上文所提到的那樣,轉(zhuǎn)子罩210罩著分配翼的大約一半。一塊下部的板(圖中未顯示),用作密封件,被定位得在轉(zhuǎn)子的下部部分中與轉(zhuǎn)子圓筒相垂直。因此,就能防止廢氣與已凈化氣體相混合。
出口開口251位于轉(zhuǎn)子罩250中,它與分離器100交迭而使已凈化氣體可以按常規(guī)排放,并防止廢氣與已凈化氣體在穿過上出口孔221之前混合起來。廢氣被引導(dǎo)處的分離器100的下部部分,被密封裝置540分隔地密封,以便與轉(zhuǎn)子罩250完全密封開。
在圖5b所示的出口開口251的另一側(cè)上,有著轉(zhuǎn)子罩的一塊豎直隔板252,它防止廢氣與已凈化氣體在圓筒孔111中混合,同時(shí),廢氣與已凈化氣體被持續(xù)地引入和排出。豎直隔板252比分配圓筒中周邊上打穿的圓筒孔的寬度要寬闊一些。該隔板根據(jù)轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)動(dòng)而打開和關(guān)閉圓筒孔。
在一個(gè)推薦實(shí)施例中,有一個(gè)清洗區(qū)段253,該區(qū)段被安置在流入分配區(qū)和流出區(qū)之間的轉(zhuǎn)子之內(nèi)。
在另一個(gè)推薦實(shí)施例中,可采用物理的、氣動(dòng)的或液動(dòng)的裝置,對(duì)分離器內(nèi)壁550的表面與分配翼210之間的間隙加以密封,以防止廢氣與已凈化氣體混合,如圖6所示那樣。密封材料例如高張力的特氟綸(Teflon),以及彈簧裝置,均可安裝在如圖6a所示的這個(gè)間隙中。為了加強(qiáng)對(duì)轉(zhuǎn)子200和分離器110的內(nèi)表面的密封,也可采用一個(gè)密封裝置540,例如采用O形環(huán)。如圖6b所示,該O形環(huán)被安裝在轉(zhuǎn)子200的上部部分、轉(zhuǎn)子罩250的下部部分以及出口開口251的底部中。
驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)300由齒輪303和減速器302構(gòu)成,從而轉(zhuǎn)子與該驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)之間的連接裝置就可以是傳動(dòng)鏈或傳動(dòng)帶。
在操作中,以及按照?qǐng)D3,廢氣被經(jīng)由入口管子1a而引入。這些氣體流入安置在再生氧化器1的轉(zhuǎn)子200中,并被分配翼210分配給分離器100。
因此,大約一半的分配翼就成了入口,而另一半則成了出口。通過轉(zhuǎn)子200的轉(zhuǎn)動(dòng),被安置在分離器100中央的圓筒孔111,就依據(jù)轉(zhuǎn)動(dòng)位置而充當(dāng)了廢氣所用的入口或者已凈化氣體所用的出口。
被引入分配翼中而未被轉(zhuǎn)子罩罩住的廢氣,逐步穿過分離器100、加熱介質(zhì)層10以及催化劑層20,并最終在燃燒室中被氧化。已凈化氣體在氧化器的相反的一側(cè),逐步穿過催化劑層20、加熱介質(zhì)層10以及分離器100。然后,已凈化氣體穿過轉(zhuǎn)子200的出口開口251以及上出口孔221,并被引向轉(zhuǎn)子圓筒220的內(nèi)部部分。這些氣體穿過下出口孔222,并經(jīng)由出口管子1b而被排放到大氣中。
包含揮發(fā)性有機(jī)化合物和臭氣的廢氣,流經(jīng)安置在分離器100中央的分配圓筒110的筒狀孔111,并被分配到被分離器100所劃分的那個(gè)區(qū)域里。然后,這些氣體流向加熱介質(zhì)層10和催化劑層20。流入的氣體吸收來自已凈化氣體的熱量,并穿過預(yù)加熱了的加熱介質(zhì)層10和催化劑層20,然后,被燃燒器31或電加熱器在200-400℃的溫度下以最小的熱量而氧化。
在沒有催化劑層,例如在再生熱力氧化器的情況下,燃燒室的溫度可以保持為760-850℃。
已凈化氣體由于加熱介質(zhì)層10散熱而穿過該層,從而升高了加熱介質(zhì)層的溫度。這些氣體經(jīng)過圓筒孔111以及安置在轉(zhuǎn)子圓筒220中的上出口孔221和下出口孔222。然后,已凈化氣體流向出口室3,并通過出口管子1b而被排放。
轉(zhuǎn)子200被借助于控制裝置例如變極器而被齒輪電動(dòng)機(jī)301和調(diào)節(jié)器302以某種速度驅(qū)動(dòng)。如上所述,氣體的流入和流出,由轉(zhuǎn)子調(diào)節(jié),且加熱介質(zhì)層和催化劑層的功能是根據(jù)轉(zhuǎn)子的位置而逆轉(zhuǎn)的。因此,針對(duì)每一種定位的加熱介質(zhì)層和催化劑層的恒定溫度就能保持,使得廢氣能被預(yù)加熱,且能以最小的熱量被氧化。
圖5a所示出口開口251的每一側(cè)上的轉(zhuǎn)子罩250的豎直隔板部分252,防止廢氣與已凈化氣體相混合,同時(shí),廢氣與已凈化氣體被持續(xù)地引入和排放。
由于豎直隔板部分252比分配圓筒的周邊中穿成的圓筒孔的寬度更寬闊,該部分就根據(jù)轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)動(dòng)而打開和關(guān)閉圓筒孔。如果廢氣被引入由隔離板所劃分的分離器的小艙中,且已凈化氣體被從鄰接的小艙中排放出來,那么,就會(huì)防止圓筒孔被這兩種小艙分享。當(dāng)氣體的引入或排放完成時(shí),處理過程就繼續(xù)到下一個(gè)步驟,因而就避免了廢氣與已凈化氣體相混合。
根據(jù)顯示了入口室2的剖面的圖5b來看,廢氣流入而經(jīng)過分配翼210,但并不被轉(zhuǎn)子罩250罩住,且被引入轉(zhuǎn)子圓筒220的上出口孔221中的已凈化氣體,是在轉(zhuǎn)子圓筒220之內(nèi)流動(dòng)的和經(jīng)過下排放孔222排放的。這些氣體經(jīng)過安置在排放室3中的出口管子而被排放到大氣中。
另外,使轉(zhuǎn)子罩250與轉(zhuǎn)子圓筒220相隔離的下隔離板(圖5b中未顯示),防止了廢氣與已凈化氣體相混合。
如圖5所示,本發(fā)明是根據(jù)轉(zhuǎn)子罩250而加以說明的,該轉(zhuǎn)子罩里面具有分配翼210,但轉(zhuǎn)子罩250沒有分配翼也能以相似方式起作用。
考慮到轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)動(dòng)方向,在豎直隔板252的另一側(cè)安置了一個(gè)清洗區(qū)段253。當(dāng)廢氣被根據(jù)轉(zhuǎn)子200的轉(zhuǎn)動(dòng)而引入由隔離板120所劃分的扇形類型分離器小艙時(shí),且已凈化氣體正在經(jīng)過分離器的同一側(cè)時(shí),停留在加熱介質(zhì)層10和催化劑層20中的廢氣,就能與已凈化氣體一起經(jīng)過圓筒孔111而被排放進(jìn)大氣中。為了防止這種情況,就要有一個(gè)清洗器用于這個(gè)迭交區(qū)段。
一條清洗氣體供應(yīng)管路510加裝到了圖6所示的分配翼210中。周圍空氣或已凈化氣體能被用作清洗氣體,由這種扇形小艙供應(yīng)。采用清洗氣體的目的,是為了把加熱介質(zhì)層10和催化劑層20中未經(jīng)處理的廢氣向下吹往燃燒室30,同時(shí)轉(zhuǎn)子200也規(guī)則地轉(zhuǎn)動(dòng)。然后,清洗氣體被作為已凈化氣體經(jīng)過出口分配板而排放。
盡管廢氣反復(fù)流入及已凈化氣體反復(fù)排放是由轉(zhuǎn)子200和分配翼210的轉(zhuǎn)動(dòng)所執(zhí)行的,但流入?yún)^(qū)和流出區(qū)卻在圓筒孔111處重疊,導(dǎo)致氣體混合。這樣,豎直隔板252就被用來避免這種混合。
對(duì)于分離器內(nèi)壁的表面與分配翼210之間的間隙,可以如圖6所示那樣進(jìn)行密封,以便防止廢氣與已凈化氣體相混合。密封位置顯示于圖6a與6b中了。
如上所述,本發(fā)明提供一種新穎的再生氧化器,它具有安置在外殼中的轉(zhuǎn)子,能使廢氣完全被凈化,且能進(jìn)行持續(xù)而有效率的操作。另外,通過控制廢氣的流動(dòng)方向,所利用的轉(zhuǎn)子的恒定溫度,就能在加熱介質(zhì)層和催化劑層中得到保持,因而節(jié)省能量。
權(quán)利要求
1.一種用于從廢氣中去除污染物的再生氧化器,包括長(zhǎng)的外殼,它具有入口管子和出口管子;加熱介質(zhì)層,它沿著周邊安置在外殼之內(nèi);裝配了燃燒器或電加熱器的燃燒室;分配圓筒,它安置在外殼中央;分離器,它與加熱介質(zhì)層以及被入口室所隔離的下部部分相接觸;以及安置在分配圓筒之內(nèi)的轉(zhuǎn)子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再生氧化器,其特征在于催化劑層被沿著周邊安置在加熱介質(zhì)層上方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再生氧化器,其特征在于分離器包括一層圓筒外壁,該外壁與外殼的內(nèi)壁相配合,并被隔離板劃分成多個(gè)小艙。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再生氧化器,其特征在于轉(zhuǎn)子包括具有多個(gè)分配翼的轉(zhuǎn)子圓筒、圍繞著分配翼的轉(zhuǎn)子罩以及與出口管子相連接的出口孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的再生氧化器,其特征在于具有上出口孔與下出口孔的分配翼,被安置得在轉(zhuǎn)子的上部部分中沿著周邊間隔相等,且大約一半上述分配翼被轉(zhuǎn)子罩罩住。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再生氧化器,其特征在于一個(gè)分離清洗部分被安置在流入分配區(qū)與流出區(qū)之間的轉(zhuǎn)子之內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再生氧化器,其特征在于一塊豎直隔板被安置在清洗部分另一側(cè)上的轉(zhuǎn)子之內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再生氧化器,其特征在于分離器內(nèi)壁的表面與分配翼之間的間隙,被以物理的、氣動(dòng)的或液動(dòng)的裝置密封。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的再生氧化器,其特征在于密封裝置是特氟隆、彈簧裝置或O形環(huán)。
10.一種把廢氣中的污染物去除的方法,包括下列步驟(a)提供一種再生氧化器,它具有帶了入口管子和出口管子長(zhǎng)的外殼;沿著周邊安置在外殼之內(nèi)的加熱介質(zhì)層;裝配了燃燒器或電加熱器的燃燒室;安置在外殼中央的分配圓筒;與加熱介質(zhì)層以及被入口室所隔離的下部部分相接觸的分離器;以及安置在分配圓筒之內(nèi)的轉(zhuǎn)子;(b)使流入的廢氣經(jīng)由入口管子流入轉(zhuǎn)子中,并被分配翼分配給分離器;(c)使流入的廢氣朝上流經(jīng)加熱介質(zhì)層,并在燃燒室中被處理;(d)使已凈化氣體朝下流經(jīng)加熱介質(zhì)層;(e)使已凈化氣體穿過轉(zhuǎn)子,并去往轉(zhuǎn)子圓筒的內(nèi)部部分;(f)使已凈化氣體穿過轉(zhuǎn)子的下出口孔,并經(jīng)由出口管子而排放到大氣中。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的從廢氣中去除污染物的方法,其特征在于催化劑層被沿著周邊安置在加熱介質(zhì)層上方。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的從廢氣中去除污染物的方法,其特征在于分離清洗部分被安置在流入分配區(qū)與流出區(qū)之間的轉(zhuǎn)子之內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的從廢氣中去除污染物的方法,其特征在于豎直隔板部分被安置在轉(zhuǎn)子之內(nèi)的清洗部分的相反一側(cè)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種再生氧化器,在該氧化器的外殼內(nèi)安置了一個(gè)分離器,從而在該分離器中央的轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)動(dòng),以便持續(xù)地去除廢氣所含的揮發(fā)性有機(jī)化合物和臭氣。廢氣的流動(dòng)方向被該轉(zhuǎn)子控制,因此,就能使加熱介質(zhì)層和催化劑層中的溫度保持恒定。
文檔編號(hào)B01D53/74GK1380955SQ01801312
公開日2002年11月20日 申請(qǐng)日期2001年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2000年5月17日
發(fā)明者白志煥 申請(qǐng)人:大洋環(huán)境株式會(huì)社