專利名稱:一種高濃度金屬離子吸附裝置的制造方法
【專利摘要】本案為一種高濃度金屬離子吸附裝置，包括：底座，其下四個(gè)角裝有滑輪；支架，其通過支架固定腳4固定設(shè)于所述底座上；層析柱，其為直徑為2cm?10cm的圓柱形，其通過試管夾固定在所述支架上，其內(nèi)裝有含有金屬離子的液體和吸附劑，其底端出液處設(shè)有閥門；接液容器，其位于所述層析柱下方；其中，所述吸附劑為含取代基丙硫醇改性硅膠，所述吸附劑的在層析柱中的高度與所述層析柱的直徑比為10：1?12：1。本案的裝置可高效、選擇地吸附溶液中的金屬離子，結(jié)構(gòu)簡單、成本低、底座滑輪的設(shè)計(jì)比較實(shí)用，吸附劑高度與層析柱直徑的比例為10：1?12：1，適用于含金屬離子量高的溶液，金屬吸附率高、環(huán)境友好。
【專利說明】
一種高濃度金屬離子吸附裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及吸附裝置，特別是涉及一種高濃度金屬離子吸附裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]貴金屬主要是指金、銀和鉑族金屬六個(gè)元素(鉑、鈀、釕、銠、銥和鋨)，作為稀有資源，貴金屬有“工業(yè)維生素”之稱，廣泛應(yīng)用在醫(yī)藥、化工、電鍍、電子、國防軍工等領(lǐng)域。在這些工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中，不可避免的會(huì)有一定含量的金屬殘留物被遺留在產(chǎn)品中，或者被大量排放到工業(yè)廢液中。一方面，由于資源稀有，回收這些流失的貴金屬具有重要經(jīng)濟(jì)意義;另一方面，殘留在工業(yè)廢液中的貴金屬會(huì)造成環(huán)境污染，遺留在藥品中的貴金屬對人類的健康不利。因此，貴金屬的清除、吸附和回收處理在經(jīng)濟(jì)、健康以及環(huán)境保護(hù)方面都是非常重要的工業(yè)環(huán)節(jié)，而金屬吸附劑具有高效、穩(wěn)定、低成本、工藝簡單等優(yōu)勢，是最有前景的方法?，F(xiàn)在回收通常采用的手段是將溶劑蒸干成為固體殘?jiān)蠓贌詈蠹友趸詮?qiáng)酸溶解后，再精制得到純金屬，該蒸干設(shè)備雖然方法簡單，易于實(shí)現(xiàn)，但生產(chǎn)周期長，污染嚴(yán)重，能耗高，貴金屬流失大，且回收設(shè)備的成本很高。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種高濃度金屬離子吸附裝置，可高效、選擇地吸附溶液中的金屬離子，結(jié)構(gòu)簡單、成本低、金屬吸附率高、環(huán)境友好。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0005]—種高濃度金屬離子吸附裝置，包括:
[0006]底座I，其下四個(gè)角裝有滑輪2;
[0007]支架3，其通過支架固定腳4固定設(shè)于所述底座上；
[0008]層析柱5，其為直徑為2cm-10cm的圓柱形，其通過試管夾7固定在所述支架上，其內(nèi)裝有含有金屬離子的液體9和吸附劑1，其底端出液處設(shè)有閥門8;
[0009]接液容器6，其位于所述層析柱下方；
[0010]其中，所述吸附劑為含取代基丙硫醇改性硅膠，所述吸附劑的在層析柱中的高度與所述層析柱的直徑比為10:1-12:1。
[0011]優(yōu)選的是，所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其中，所述層析柱高度為120cm-200cmo
[0012]優(yōu)選的是，所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其中，所述支架固定腳為輪廓為三角形的三根支架。
[0013]優(yōu)選的是，所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其中，所述金屬離子包括鉑族金屬離子和金尚子。
[0014]優(yōu)選的是，所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其中，所述溶液為水溶液、有機(jī)物溶液或混合溶液中的一種。
[0015]本實(shí)用新型的有益效果:本案的裝置可高效、選擇地吸附溶液中的金屬離子，結(jié)構(gòu)簡單、成本低、底座滑輪的設(shè)計(jì)比較實(shí)用，吸附劑高度與層析柱直徑的比例為10:1-12:1，適用于含金屬離子量高的溶液，金屬吸附率高、環(huán)境友好。
【附圖說明】

[0016]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例所述的高濃度金屬離子吸附裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]其中，1-底座，2-滑輪，3-支架，4-支架固定腳，5-試管，6_接液容器，7_試管夾，8_閥門，9-液體，I O-吸附劑。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實(shí)施。
[0019]—種高濃度金屬離子吸附裝置，請參閱附圖1，包括:
[0020]底座I，其下四個(gè)角裝有滑輪2;
[0021 ]支架3，其通過支架固定腳4固定設(shè)于所述底座上；
[0022]層析柱5，其為直徑為2cm-10cm的圓柱形，其通過試管夾7固定在所述支架上，其內(nèi)裝有含有金屬離子的液體9和吸附劑1，其底端出液處設(shè)有閥門8;
[0023]接液容器6，其位于所述層析柱下方；
[0024]其中，所述吸附劑為含取代基丙硫醇改性硅膠，所述吸附劑的在層析柱中的高度與所述層析柱的直徑比為10:1-12:1。該裝置將溶液中的金屬離子吸附在吸附劑上，再通過洗脫將金屬離子進(jìn)行分離和回收。
[0025]進(jìn)一步的，所述層析柱高度為120cm-200cm。
[0026]進(jìn)一步的，所述支架固定腳為輪廓為三角形的三根支架。
[0027]進(jìn)一步的，所述金屬離子包括鉑族金屬離子和金離子。
[0028]進(jìn)一步的，所述溶液為水溶液、有機(jī)物溶液或混合溶液中的一種。
[0029]盡管本實(shí)用新型的實(shí)施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本實(shí)用新型的領(lǐng)域，對于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實(shí)用新型并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高濃度金屬離子吸附裝置，其特征在于，包括: 底座(I)，其下四個(gè)角裝有滑輪(2); 支架(3)，其通過支架固定腳4固定設(shè)于所述底座上； 層析柱(5)，其為直徑為2cm-10cm的圓柱形，其通過試管夾(7)固定在所述支架上，其內(nèi)裝有含有金屬離子的液體(9)和吸附劑(10)，其底端出液處設(shè)有閥門(8); 接液容器(6)，其位于所述層析柱下方； 其中，所述吸附劑為含取代基丙硫醇改性硅膠，所述吸附劑的在層析柱中的高度與所述層析柱的直徑比為10:1-12:1。2.如權(quán)利要求1所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其特征在于，所述層析柱高度為120cm-200cm。3.如權(quán)利要求2所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其特征在于，所述支架固定腳為輪廓為三角形的三根支架。4.如權(quán)利要求3所述的高濃度金屬離子吸附裝置，其特征在于，所述液體為水溶液、有機(jī)物溶液中的一種。
【文檔編號】B01D15/10GK205699581SQ201620142965
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年2月26日
【發(fā)明人】王勝國
【申請人】蘇州鼎馳金屬材料有限公司