專利名稱:立式全封閉砂磨機(jī)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種立式全封閉砂磨機(jī)，用于研磨高黏度物料，包括底座、設(shè)置在底座上的研磨筒和設(shè)置在研磨筒頂部的頂蓋，研磨筒內(nèi)設(shè)有分散軸，所述分散軸下端貫穿底座并具有入料口，分散軸上端還具有動態(tài)分離器，動態(tài)分離器外接出料口，動態(tài)分離器包括環(huán)繞設(shè)置在分散軸上部的環(huán)形篩網(wǎng)，分散軸上周向間隔均布有圓形分散盤，研磨筒下端具有進(jìn)水口、上端具有出水口，研磨筒內(nèi)壁內(nèi)盤繞設(shè)有連接進(jìn)水口和出水口的冷卻水水管，研磨筒頂部具有軸封裝置，研磨筒底部則具有放砂口。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，密封性好，溶劑不易揮發(fā)，生產(chǎn)損耗小，環(huán)形篩網(wǎng)設(shè)置在頂部，相較于傳統(tǒng)設(shè)置的篩網(wǎng)，更加方便拆卸清洗。
【專利說明】
立式全封閉砂磨機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及涂料加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種立式全封閉砂磨機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]砂磨機(jī)又稱珠磨機(jī)，主要用于化工液體產(chǎn)品的濕法研磨，研磨腔狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合高性能的冷卻系統(tǒng)和自動控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，極大的提高了生產(chǎn)效率。砂磨機(jī)根據(jù)使用性能大體可分為臥式砂磨機(jī)、籃式砂磨機(jī)、立式砂磨機(jī)等。目前的立式砂磨機(jī)，大多為開啟式砂磨機(jī)，溶劑易揮發(fā)，生產(chǎn)過程中損耗較大，清洗工作量大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是:克服現(xiàn)有技術(shù)中之不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單，密封性好，溶劑不易揮發(fā)，生產(chǎn)損耗小，易清洗的立式全封閉砂磨機(jī)。
[0004]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種立式全封閉砂磨機(jī)，用于研磨高黏度物料，包括底座、設(shè)置在底座上的研磨筒和設(shè)置在研磨筒頂部的頂蓋，研磨筒內(nèi)設(shè)有分散軸，所述分散軸下端貫穿底座并具有入料口，所述分散軸上端還具有動態(tài)分離器，所述動態(tài)分離器外接出料口，所述的動態(tài)分離器包括環(huán)繞設(shè)置在分散軸上部的環(huán)形篩網(wǎng)，所述分散軸上周向間隔均布有圓形分散盤，所述的研磨筒下端具有進(jìn)水口、上端具有出水口，研磨筒內(nèi)壁內(nèi)盤繞設(shè)有連接進(jìn)水口和出水口的冷卻水水管，所述的研磨筒頂部具有軸封裝置，研磨筒底部則具有放砂口。
[0005]進(jìn)一步的，軸封裝置包括設(shè)置研磨筒頂部、頂蓋下部的軸封和設(shè)置在頂蓋上的軸承座。
[0006]進(jìn)一步的，圓形分散盤包括環(huán)繞分散軸上下間隔設(shè)置的上分散片和下分散片，所述的上分散片和下分散片之間連接有環(huán)繞分散軸的隔環(huán)。
[0007]更進(jìn)一步的，上分散片和下分散片分別周向間隔對稱設(shè)有分散葉，上分散片的分散葉朝向下方，下分散片的分散葉朝向上方。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型提供的立式全封閉砂磨機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，通過全封閉的研磨筒和軸封裝置結(jié)合，密封性好，溶劑不易揮發(fā)，生產(chǎn)損耗小，環(huán)形篩網(wǎng)設(shè)置在頂部，相較于傳統(tǒng)設(shè)置的篩網(wǎng)，更加方便拆卸清洗。
【附圖說明】

[0009]下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0010]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中1.底座2.研磨筒3.頂蓋4.分散軸5.入料口6.動態(tài)分離器7.出料口 8.環(huán)形篩網(wǎng)9.進(jìn)水口 10.出水口 11.放砂口 12.軸封13.軸承座14.上分散片15.下分散片16.隔環(huán)17.分散葉
【具體實(shí)施方式】
[0012]現(xiàn)在結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。這些附圖均為簡化的示意圖僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0013]如圖1所示的一種立式全封閉砂磨機(jī)，用于研磨高黏度物料，包括底座1、設(shè)置在底座I上的研磨筒2和設(shè)置在研磨筒2頂部的頂蓋3，研磨筒2底部則具有放砂口 U。研磨筒2內(nèi)設(shè)有分散軸4，所述分散軸4下端貫穿底座I并具有入料口 5，所述分散軸4上端還具有動態(tài)分尚器6。所述動態(tài)分尚器6外接出料口 7。所述的動態(tài)分尚器6包括環(huán)繞設(shè)置在分散軸4上部的環(huán)形篩網(wǎng)8。環(huán)形篩網(wǎng)8面積相對于普通磨砂機(jī)，面積減小，且篩定不易結(jié)皮，易清潔，減少生產(chǎn)過程中的清潔工作量。
[0014]分散軸4上周向間隔均布有圓形分散盤。圓形分散盤包括環(huán)繞分散軸4上下間隔設(shè)置的上分散片14和下分散片15，所述的上分散片14和下分散片15之間連接有環(huán)繞分散軸4的隔環(huán)16。上分散片14和下分散片15分別周向間隔對稱設(shè)有分散葉17，上分散片14的分散葉17朝向下方，下分散片15的分散葉17朝向上方。所述的研磨筒2下端具有進(jìn)水口 9、上端具有出水口 10，研磨筒2內(nèi)壁內(nèi)盤繞設(shè)有連接進(jìn)水口 9和出水口 1的冷卻水水管，所述的研磨筒2頂部具有軸封12裝置，軸封12裝置包括設(shè)置研磨筒2頂部、頂蓋3下部的軸封12和設(shè)置在頂蓋3上的軸承座13。
[0015]由于本實(shí)用新型提供的砂磨機(jī)，具有軸封12裝置，研磨筒2可在一定壓力下工作。采用全封閉結(jié)構(gòu)，則可有效減少研磨過程中溶劑揮發(fā)，減少研磨過程中溶劑揮發(fā)造成的環(huán)境污染，不僅生產(chǎn)損耗小且能保護(hù)環(huán)境，具有良好的社會效益。
[0016]上述實(shí)施方式只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種立式全封閉砂磨機(jī)，用于研磨高黏度物料，包括底座(1)、設(shè)置在底座(I)上的研磨筒(2)和設(shè)置在研磨筒(2)頂部的頂蓋(3)，其特征是:所述的研磨筒(2)內(nèi)設(shè)有分散軸(4)，所述分散軸(4)下端貫穿底座(I)并具有入料口(5)，所述分散軸(4)上端還具有動態(tài)分離器(6)，所述動態(tài)分離器(6)外接出料口(7)，所述的動態(tài)分離器(6)包括環(huán)繞設(shè)置在分散軸(4)上部的環(huán)形篩網(wǎng)(8)，所述分散軸(4)上周向間隔均布有圓形分散盤，所述的研磨筒(2)下端具有進(jìn)水口( 9)、上端具有出水口(10)，研磨筒(2)內(nèi)壁內(nèi)盤繞設(shè)有連接進(jìn)水口(9)和出水口( 1)的冷卻水水管，所述的研磨筒(2)頂部具有軸封裝置，研磨筒(2)底部則具有放砂口(11)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式全封閉砂磨機(jī)，其特征是:所述的軸封裝置包括設(shè)置研磨筒(2)頂部、頂蓋(3)下部的軸封(12)和設(shè)置在頂蓋(3)上的軸承座(13)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式全封閉砂磨機(jī)，其特征是:所述的圓形分散盤包括環(huán)繞分散軸(4)上下間隔設(shè)置的上分散片(14)和下分散片(15)，所述的上分散片(14)和下分散片(15)之間連接有環(huán)繞分散軸(4)的隔環(huán)(16)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式全封閉砂磨機(jī)，其特征是:所述的上分散片(14)和下分散片(15)分別周向間隔對稱設(shè)有分散葉(17)，上分散片(14)的分散葉(17)朝向下方，下分散片(15)的分散葉(17)朝向上方。
【文檔編號】B02C17/18GK205700836SQ201620321561
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年4月15日
【發(fā)明人】王素琴
【申請人】常州市天安特種涂料有限公司