專利名稱：流化床裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種流化床(fluidized bed)裝置及微粒的除電方法等，所述流化床裝置可不受靜電影響地進(jìn)行醫(yī)藥品、食品等的顆粒、粉體等微粒的包衣(coating)、造粒、混合及干燥等。
背景技術(shù)：
在粉體或顆粒等微粒的包衣、造粒、混合、干燥中，經(jīng)常使用流化床裝置。作為流化床裝置，例如有專利文獻(xiàn)1公開的Wurster型包衣裝置。使用圖2說明一般的Wurster型包衣裝置的結(jié)構(gòu)。在流化釜50的底面51的上方配置有圓筒狀的通氣管52，底面51的下方配置有供氣單元58。從供氣單元58輸送的氣體通過設(shè)置在底面51上的多個供氣孔導(dǎo)入通氣管52的內(nèi)部，并通過通氣管52的內(nèi)部。之后，氣體通過配置在流化釜50的上部的袋式過濾器53排放到排氣單元54中，排到裝置的外部。另外，在底面51的中央部，面向通氣管52的內(nèi)側(cè)配置噴槍55。填充到流化釜50內(nèi)部的微粒被從供氣孔輸送的氣體導(dǎo)入到通氣管52內(nèi)部。導(dǎo)入通氣管52內(nèi)的微粒的表面涂布有從噴槍55噴射的包衣液等噴射液56。被涂布的微粒由氣體載帶被吹到通氣管52的上方之后，失速掉到通氣管52的外側(cè)。之后，掉下的微粒群被再次導(dǎo)入通氣管52內(nèi)。
已知在流化床裝置中，由于流化床裝置內(nèi)微粒的摩擦等易產(chǎn)生靜電。因靜電產(chǎn)生而導(dǎo)致的微粒的附著易發(fā)生在流化釜的壁面、通氣管外壁面、袋式過濾器的表面。特別是，在包衣帶電性非常高的腸溶性材料等時，大量產(chǎn)生的附著物阻礙微粒流動，有時微粒陷入完全不流動的狀態(tài)。由于微粒的靜電而導(dǎo)致的附著、凝集、橋接等問題，在實(shí)現(xiàn)確保制品的均勻性、制備工序的穩(wěn)定運(yùn)行·效率化、制備工序的自動化中成為較大的障礙。作為消除此靜電問題的方法(除電方法)，目前最常使用的是對制備區(qū)域或制備機(jī)器內(nèi)加濕。在此方法中，通過確保相對濕度在55～60％以上，能夠抑制靜電問題。另外，作為一般的除靜電方法，已知有通過電暈放電進(jìn)行的除電方法。
專利文獻(xiàn)1特開2003-1090號公報發(fā)明內(nèi)容但是，加濕的方法存在下述問題，即不適用于可被吸濕性大的藥物或因水分促進(jìn)分解的藥物。另外，近年人們對醫(yī)藥品的微生物污染的關(guān)心逐漸升高，從制備中由菌所致的制品污染、制品含水量上升導(dǎo)致的制品保管中微生物增殖的觀點(diǎn)來看，制備區(qū)域的加濕存在嚴(yán)重缺陷。并且，加濕時，由于包衣后微粒的水分含量增加，所以之后的干燥工序需要占用額外的時間，因此也不利于成本。在上述狀況下，人們強(qiáng)烈地希望找到通過加濕以外的方法防止醫(yī)藥品制備工序的靜電問題的方法。
另一方面，電暈放電型的除電器在醫(yī)藥品制備工序、特別是處理微粒的工序中除電效果不充分。另外，電暈放電式的除電器的電極暴露，從在使粉塵流動的工序或使用有機(jī)溶劑的工序中的爆炸性的觀點(diǎn)來看，也存在使用困難的缺點(diǎn)。另外，還存在微粒附著在電極上，從而導(dǎo)致除電效果逐漸減弱的問題。
本發(fā)明的目的在于提供一種防止靜電問題的方法，所述方法也可適用于醫(yī)藥品制備工序等中的吸濕性高的藥物或不耐水分的化合物，無微生物污染的危險，也可用于使用爆炸性高的有機(jī)溶劑的工序。
本發(fā)明的流化床裝置設(shè)置有對流化床容器內(nèi)的被處理對象的微粒照射X射線的X射線照射裝置。通過此結(jié)構(gòu)，照射了X射線的微粒發(fā)揮除電效果，因此能夠防止靜電問題。
作為在本申請發(fā)明的流化床裝置中處理的微粒，只要為易產(chǎn)生靜電的微粒即可，與其種類無關(guān)，例如可以使用醫(yī)藥品、化妝品、食品、化學(xué)品等的微粒。微粒的粒徑在10～1600μm的范圍內(nèi)、優(yōu)選20～1500μm、更優(yōu)選40～1400μm的范圍內(nèi)。
作為本申請發(fā)明中使用的X射線，只要具有除電效果即可，并不限定其能量(波長)，但優(yōu)選使用X射線中的軟X射線。所謂軟X射線是指3～9.5keV左右的微弱的X射線。作為產(chǎn)生軟X射線的裝置(軟X射線照射裝置)，可以使用市售的裝置，例如可以舉出Photoionizer(濱松Photonics公司制)等。
優(yōu)選下述方案流化床裝置還設(shè)置有供氣裝置，該供氣裝置將氣體導(dǎo)入流化床容器內(nèi)，通過此氣體使微粒懸浮，X射線照射裝置對流化床容器內(nèi)懸浮狀態(tài)的微粒照射X射線。
X射線照射裝置優(yōu)選設(shè)置在偏離流化床容器內(nèi)懸浮狀態(tài)的微粒的流動路線的位置。
較優(yōu)選下述方案供氣裝置從流化床容器內(nèi)的下方導(dǎo)入氣體，X射線照射裝置從上方及側(cè)方中的至少一方對懸浮狀態(tài)的微粒照射X射線。
優(yōu)選下述方案流化床裝置還設(shè)置有筒狀的通氣管(draft tube)，該通氣管設(shè)置在流化床容器內(nèi)，氣體及微粒從下方向上方通過其內(nèi)部，在通氣管的上方空間內(nèi)，存在由X射線照射裝置產(chǎn)生的X射線的照射區(qū)域。
X射線照射裝置的照射口優(yōu)選距離通氣管的上端300～2000mm。
流化床裝置優(yōu)選進(jìn)一步在通氣管內(nèi)部配置噴霧噴射液的噴槍。
噴槍的噴射口較優(yōu)選位于通氣管的內(nèi)部，噴槍從噴射口向上方噴霧噴射液。
流化床裝置優(yōu)選還設(shè)置有協(xié)調(diào)控制供氣裝置、X射線照射裝置及噴槍的控制裝置。
流化床裝置優(yōu)選為Wurster型包衣機(jī)、流化床型包衣機(jī)、攪拌流動型包衣機(jī)、轉(zhuǎn)動流化床型包衣機(jī)及振動流化床型包衣機(jī)中的任意一種。流化床裝置較優(yōu)選為Wurster型包衣機(jī)。
另外，從其他觀點(diǎn)來看，本發(fā)明如下所示。
即，本發(fā)明的其他流化床裝置還設(shè)置有除電裝置，所述除電裝置設(shè)置在流化床容器內(nèi)，除去其內(nèi)部的被處理對象的微粒所產(chǎn)生的靜電。
本發(fā)明的微粒的處理方法為在流化床裝置的流化床容器內(nèi)對吹起狀態(tài)的微粒照射X射線。
本發(fā)明的微粒的除電方法為在流化床裝置的流化床容器內(nèi)對吹起狀態(tài)的微粒照射X射線。
本發(fā)明的微粒的包衣、造粒方法為在流化床裝置的流化床容器內(nèi)對吹起狀態(tài)的微粒照射X射線。
本申請發(fā)明的流化床裝置是在醫(yī)藥品制備工序、化妝品制備工序、食品制備工序、化學(xué)品裝備工序等中將微粒作為流化床進(jìn)行處理的流化床裝置，所述流化床裝置設(shè)置有對被氣體吹起的微粒照射軟X射線的軟X射線照射裝置。本申請發(fā)明通過在處理微粒的流化床裝置中直接·間接地對微粒照射軟X射線，或透過樹脂制膜進(jìn)行照射，防止上述由帶電產(chǎn)生的問題。
此方法即使在低濕度環(huán)境下也有除電效果，也可適用于吸濕性高的藥物或不耐水分的藥物。另外，由于在低濕度條件下、高濕度條件下均發(fā)揮除電效果，所以從防止微生物污染的觀點(diǎn)來看十分有利。
另一方面，因?yàn)檐沊射線照射裝置與電暈放電型除電器不同，電極未暴露出來，所以從防止爆炸的觀點(diǎn)來看非常有利。并且，能夠透過樹脂制膜等進(jìn)行照射，因此也能完全地將裝置從爆炸環(huán)境中分離。
如上所述，通過有效運(yùn)用軟X射線的特性，能夠防止在醫(yī)藥制備工序中采用現(xiàn)有的方法不能防止的各種靜電問題、或不適用現(xiàn)有方法的靜電問題。


圖1為表示本申請發(fā)明流化床裝置構(gòu)成的說明圖。
圖2為表示現(xiàn)有流化床裝置構(gòu)成的說明圖。
圖3為表示本申請發(fā)明流化床裝置其他例的說明圖。
圖4為表示本申請發(fā)明流化床裝置其他例的說明圖。
圖5為表示一般流化床裝置構(gòu)成的說明圖。
具體實(shí)施例方式
以下，說明用于實(shí)施本申請發(fā)明的最佳方案。
本申請發(fā)明的流化床裝置如果是例如圖5所示的裝置，即通過使用從形成網(wǎng)眼狀的流化釜底面4向上部噴出的氣體，吹起流化床裝置內(nèi)部的微粒(粉體、顆粒等)，使微粒流動化，進(jìn)行包衣、造粒等，則對其種類沒有限制。流化床裝置除了圖5所示的從設(shè)置在流化床上方的噴槍6向下方噴霧包衣液的一般流化床型包衣裝置之外，還可分成如下幾類特征為在流化釜內(nèi)具有通氣管且在通氣管內(nèi)進(jìn)行噴射的Wurster型包衣機(jī)；在流化釜底面具有攪拌翼的攪拌流化床型包衣機(jī)；流化釜底面旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動流化床型包衣機(jī)；流化釜底面通過振動器振動的振動流化床型包衣機(jī)等。但是，流化床裝置只要是在流化床狀態(tài)下處理微粒的裝置即可，沒有特殊限制。
此處，以Wurster型包衣機(jī)為例進(jìn)行說明。圖1是表示本申請發(fā)明的流化床裝置(Wurster型包衣機(jī))一例的說明圖。圖1所示的流化床裝置構(gòu)成如下進(jìn)行包衣、造粒等的流化釜(流化床容器)1、配置在流化釜1下部的向流化釜內(nèi)部供給氣體的供氣單元2、及配置在流化釜上部的排出流化釜內(nèi)部氣體的排氣單元3。
調(diào)至規(guī)定的溫度、濕度的氣體通過供氣單元2從圖中未示出的鼓風(fēng)機(jī)供給到流化釜1的內(nèi)部。作為氣體通常使用空氣，但處理易發(fā)生氧化等化學(xué)變化的藥物時，也可以使用減少了氧氣的空氣、氮?dú)?、氦氣等惰性氣體。即，由圖中未示出的鼓風(fēng)機(jī)及供氣單元2構(gòu)成將氣體導(dǎo)入流化釜1內(nèi)的供氣裝置。通常包衣時的氣體溫度為10～90℃左右，濕度為5～95％左右。
流化釜1由具有多個供氣孔的圓形流化釜底面4、及從流化釜底面4的周邊向上伸出設(shè)置到排氣單元3的流化釜側(cè)壁5構(gòu)成。圖1所示的流化釜側(cè)壁5具有下段為圓筒狀、中段為圓錐筒狀、上段為圓筒狀的形狀。但是，流化釜側(cè)壁5的形狀也可以整體為圓筒狀或圓錐筒狀，另外，也可以上段為圓筒狀、下段為圓錐筒狀。流化釜的大小沒有特殊限制，通常為100φ×500H～3000φ×8000H(mm)，優(yōu)選200φ×1000H～2500φ×7000H(mm)，更優(yōu)選300φ×1500H(mm)～2000φ×6000H(mm)左右。
流化釜底面4上設(shè)置多個供氣孔，用于將從供氣單元2供給的氣體導(dǎo)入流化釜1內(nèi)部。在流化釜側(cè)面的大約中央處，設(shè)置有噴槍設(shè)置孔，用于使后述的噴槍6貫通。流化釜底面4的大約中央處的上方，配置了筒狀的通氣管7。流化釜底面4的供氣孔被設(shè)置成大量分布在通氣管7的下方，從供氣單元2輸送的氣體穿過供氣孔優(yōu)先導(dǎo)入通氣管7的內(nèi)部。此供氣孔的大小沒有特殊限制，通常為90～2900mmφ，優(yōu)選180～2400mmφ，更優(yōu)選270～1800mmφ左右。通氣管7為筒狀，在其內(nèi)側(cè)的空間內(nèi)形成噴射區(qū)8，用于向微粒涂布包衣液。圖1所示的通氣管上部為圓筒狀，下部為下端開口增大的圓錐筒狀。但是，通氣管7只要為筒狀即可，其形狀無限定，整體可以為圓筒狀，也可以為圓錐筒狀。流化釜1內(nèi)部填充的微粒被從供氣單元2供給的氣體載帶，從通氣管7的下端開口導(dǎo)入通氣管內(nèi)后，被吹到通氣管7的上方，處于懸浮狀態(tài)。處于懸浮狀態(tài)的微粒隨后失速掉落到通氣管7的外側(cè)，其后被再次導(dǎo)入通氣管7內(nèi)進(jìn)一步包衣。如上所述，流化釜1內(nèi)的微?？梢酝ㄟ^從供氣裝置供給的氣體進(jìn)行循環(huán)。懸浮狀態(tài)的微粒流動的循環(huán)流路主要由通氣管7內(nèi)的內(nèi)部空間、通氣管7的上方空間和通氣管7的外周面與流化釜側(cè)壁5的內(nèi)壁面之間的側(cè)面空間構(gòu)成。然后，后述的軟X射線照射裝置12設(shè)置在偏離此循環(huán)流路的位置上，不使上升中及下落中的微粒滯留于此。
通過流化釜底面4的大致中央部的噴槍設(shè)置孔設(shè)置噴槍6。噴槍6連接有圖中未示出的包衣液供給管及噴射氣體供給管。由噴槍供給的包衣液與噴射氣體一同從形成在噴槍上端的噴射口9向上方噴霧。配置噴槍6，使其上端的噴射口9位于通氣管7的內(nèi)部(噴射區(qū)8)。導(dǎo)入通氣管內(nèi)的微粒通過噴射區(qū)8時表面被涂布包衣液。
袋式過濾器10設(shè)置在流化釜1的上部。此袋式過濾器10用于分離微粒和氣體，只將氣體排出到排氣單元3。袋式過濾器10的材料可以使用聚酯、芳族聚酰胺、聚酰亞胺、聚丙烯、聚苯硫醚、聚四氟乙烯等。設(shè)置的袋式過濾器的數(shù)量沒有特殊限定，可以根據(jù)流化釜大小、袋式過濾器大小等改變。供給到流化釜內(nèi)部的氣體通過袋式過濾器10，排出到位于流化釜1上方的排氣單元3中后，排到裝置外部。
在圖1所示的流化床裝置中，在通氣管7的上方，安裝軟X射線照射裝置12，使照射口13向下。軟X射線照射裝置12的安裝位置只要是從該裝置照射的軟X射線能夠充分地到達(dá)從通氣管7吹起的微粒群的位置即可，其位置沒有限制。軟X射線照射裝置的照射口13的位置例如可以為與袋式過濾器的下端相同的高度，也可以在比袋式過濾器的下端高的位置，或者比袋式過濾器的下端低的位置。作為軟X射線照射裝置12的安裝方法，可以直接或通過適當(dāng)?shù)陌惭b工具安裝在袋式過濾器10上，另外，也可以安裝在排氣單元3的底面。從軟X射線照射裝置照射的X射線通常到達(dá)距離照射口13約1000mm處，因此可以以照射口13位于距離通氣管上端2000～300mm左右、優(yōu)選1500～500mm左右、最優(yōu)選1000mm左右的上方處的方式設(shè)置軟X射線照射裝置12。
另外，軟X射線由于透過力非常弱，所以在微粒群密度大的區(qū)域(流化釜的底面附近)不能有效地發(fā)揮作用。因此，必須將軟X射線照射裝置設(shè)置成能夠在微粒群密度小、微粒為吹起狀態(tài)的區(qū)域(微粒被吹起而懸浮的區(qū)域)照射軟X射線。但是只要能夠照射到微粒群密度小的區(qū)域即可，對軟X射線照射裝置12的設(shè)置位置沒有限制，除通氣管7的上方之外，也可以設(shè)置在例如圖3所示的流化釜側(cè)壁5上。軟X射線照射裝置12設(shè)置在流化釜側(cè)壁5上時，例如可以在流化釜側(cè)壁5上設(shè)置安裝孔，在該安裝孔上設(shè)置軟X射線照射裝置12使照射口13面向流化釜1的內(nèi)側(cè)。另外，軟X射線由于具有透過PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)、聚酰亞胺、無定形碳等樹脂的性質(zhì)，所以也可以在安裝孔中嵌入可透過上述軟X射線的樹脂，在其外側(cè)設(shè)置軟X射線照射裝置。設(shè)置的軟X射線照射裝置的數(shù)量可以為1個，也可以為如圖4所示的多個。另外，雖圖示省略，但在流化床裝置的流化釜側(cè)壁5上安裝有能夠觀察其內(nèi)部的裝置窗，使得能夠觀察例如軟X射線照射裝置12、微粒的懸浮狀態(tài)、流動狀態(tài)等。
在流化釜1的上方配置有排氣單元3，排氣單元3的內(nèi)部通過袋式過濾器10與流化釜1的內(nèi)部連接。送入流化釜1內(nèi)的氣體通過袋式過濾器10排到排氣單元3中后，排出到裝置外。為了使流化釜內(nèi)的壓力一定，排氣單元優(yōu)選使用具有風(fēng)量控制功能的集塵設(shè)備。
雖圖示省略，但設(shè)置了集中控制流化床裝置的控制裝置?？刂蒲b置協(xié)調(diào)控制供氣裝置(供氣單元2)、排氣單元3、軟X射線照射裝置12及噴槍6等。例如，在驅(qū)動供氣裝置、排氣單元3及噴槍6時，可以使軟X射線照射裝置12定期地照射軟X射線，或者也可以使其長期地照射軟X射線。另外，控制裝置可以在供氣裝置的驅(qū)動開始前，開始軟X射線照射裝置12的驅(qū)動。由此，可以在微粒被吹起之前，使照射區(qū)域成為可除電的區(qū)域，提高除電效果。
(試驗(yàn)例)使用本申請發(fā)明中所用的軟X射線照射裝置，進(jìn)行除電效果比較試驗(yàn)、除電效果確認(rèn)試驗(yàn)、粉塵爆炸試驗(yàn)。
(除電效果比較試驗(yàn))使用因易帶靜電微粒摩擦而引起靜電的系統(tǒng)，對其進(jìn)行通過使用各種除電裝置((1)交流電暈放電式除電器、(2)直流電暈放電式除電器及(3)軟X射線照射裝置)能否除電的試驗(yàn)。
1、在聚乙烯制袋(200×300×0.08mm)中填充10g被覆有腸溶性膜的易帶靜電微粒(粒徑約470μm)。
2、在填充微粒的狀態(tài)下，劇烈上下震蕩混合約30秒，觀察由于產(chǎn)生的靜電導(dǎo)致顆粒附著在聚乙烯袋上的狀態(tài)時，確認(rèn)在聚乙烯袋的整個面上大量附著顆粒。
3、在下述三種狀態(tài)下分別實(shí)施與上述1～2相同的評價(1)在由交流電暈放電式除電器(離子鼓風(fēng)機(jī)5802型Ion Systems公司制)產(chǎn)生的離子化氣體的通風(fēng)下，(2)在由直流電暈放電式除電器(氣槍型除電器、TAS-20G型TRINC公司制)產(chǎn)生的離子化氣體的通風(fēng)下，(3)在照射由軟X射線照射裝置(PhotoIonizer L9490型 濱松Photonics公司制)產(chǎn)生的軟X射線下。
結(jié)果分別如表1所示。


如表1所示，(1)使用交流電暈放電式除電器時未確認(rèn)顆粒附著量降低。(2)使用直流電暈放電式除電器時，雖然確認(rèn)有微弱的除電效果，但在開始除電數(shù)秒后電極大量吸附顆粒，除電效果消失。(3)只在照射軟X射線時確認(rèn)顆粒附著量降低。
(除電效果確認(rèn)試驗(yàn))在聚乙烯制袋(100×200×0.08mm)中放入2.5g被覆有腸溶性膜的微粒(粒徑約470μm)，劇烈振蕩約30秒，使顆粒靜電附著在聚乙烯袋上。然后，倒置聚乙烯袋取出顆粒(自然落下)。從顆粒投入量中減去顆粒取出量，計算由于靜電而附著在聚乙烯袋上的顆粒附著量。
在照射軟X射線時和未照射時進(jìn)行上述試驗(yàn)，評價利用軟X射線除電的有效性。需要說明的是，軟X射線照射裝置使用PhotoIonizer L9490型(濱松Photonics公司制)。結(jié)果如表2所示。


從表2可知，照射軟X射線時附著量顯著降低，可以確認(rèn)由軟X射線產(chǎn)生的微粒除電效果。另外，在從顆粒附著的聚乙烯袋的外部照射軟X射線的狀態(tài)下，將聚乙烯袋的開口向下輕輕地振動，顆粒全部排出。
(粉塵爆炸試驗(yàn))進(jìn)行下述試驗(yàn)在易引起粉塵爆炸的系統(tǒng)中，裝入各種除電裝置((1)交流電暈放電式除電器、(2)直流電暈放電式除電器及(3)軟X射線照射裝置)使其運(yùn)轉(zhuǎn)時，是否引起粉塵爆炸。
在哈脫曼(HARTMANN)型爆炸筒中的分散部裝入500mg微粒(石松子)，用壓縮空氣吹起微粒。在此狀態(tài)下使電極放電或照射軟X射線評價爆炸性。結(jié)果使電極放電時發(fā)生粉塵爆炸，而照射軟X射線時未發(fā)生爆炸。
另一方面，在聚乙烯制袋中將被覆有腸溶性膜的微粒(粒徑約470μm)劇烈振蕩約30秒，使其帶電后，在分散部裝入1g此帶電微粒，進(jìn)而在筒內(nèi)充滿丙烷氣體的狀態(tài)下，使電極放電或照射軟X射線評價爆炸性。結(jié)果使電極放電時發(fā)生粉塵爆炸，而照射軟X射線時未發(fā)生爆炸。
另外，在聚乙烯制袋中將被覆有腸溶性膜的微粒(粒徑約470μm)劇烈振蕩30秒，使其帶電后，在分散部裝入1g此帶電微粒，進(jìn)而在用1ml乙醇使其潤濕的狀態(tài)下，照射軟X射線評價爆炸性。結(jié)果照射軟X射線時未發(fā)生爆炸。
(流化床裝置內(nèi)的除電效果確認(rèn)試驗(yàn))在Wurster型包衣機(jī)(Multiplex MP10型POWREX公司制)中裝入300g各種微粒，在各種條件下使微粒流動15分鐘，確認(rèn)壁面上微粒附著量及微粒流動狀態(tài)。結(jié)果如表3所示。


從表3可知，可以確認(rèn)與未照射軟X射線時相比，在照射軟X射線時能夠防止或抑制微粒的附著滯留。粒徑在200μm以上的微粒通過照射軟X射線能夠不發(fā)生附著。另一方面，雖然不能使200μm以下的微粒不發(fā)生附著，但可確認(rèn)對40μm以上的粒子具有附著抑制效果。
權(quán)利要求
1.一種流化床裝置，其特征為，所述流化床裝置設(shè)置有對流化床容器內(nèi)的被處理對象的微粒照射X射線的X射線照射裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的流化床裝置，其特征為，所述流化床裝置進(jìn)一步設(shè)置有將氣體導(dǎo)入所述流化床容器內(nèi)，通過此氣體使微粒懸浮的供氣裝置，所述X射線照射裝置對所述流化床容器內(nèi)懸浮狀態(tài)的微粒照射X射線。
3.如權(quán)利要求2所述的流化床裝置，其特征為，所述X射線照射裝置設(shè)置在偏離所述流化床容器內(nèi)懸浮狀態(tài)的微粒的流動路線的位置。
4.如權(quán)利要求2或3所述的流化床裝置，其特征為，所述供氣裝置從所述流化床容器內(nèi)的下方導(dǎo)入氣體，所述X射線照射裝置從上方及側(cè)方中的至少一方對懸浮狀態(tài)的微粒照射X射線。
5.如權(quán)利要求4所述的流化床裝置，其特征為，所述流化床裝置還設(shè)置有筒狀的通氣管，所述通氣管設(shè)置在所述流化床容器內(nèi)，氣體及微粒從下方至上方通過其內(nèi)部，在所述通氣管的上方空間內(nèi)，存在由所述X射線照射裝置產(chǎn)生的X射線的照射區(qū)域。
6.如權(quán)利要求5所述的流化床裝置，其中，所述X射線照射裝置的照射口距離所述通氣管的上端為300～2000mm。
7.如權(quán)利要求5或6所述的流化床裝置，其特征為，在所述通氣管的內(nèi)部還設(shè)置有噴霧噴射液的噴槍。
8.如權(quán)利要求7所述的流化床裝置，其中，所述噴槍的噴射口位于所述通氣管的內(nèi)部，所述噴槍從所述噴射口向上方噴霧噴射液。
9.如權(quán)利要求7或8所述的流化床裝置，其特征為，所述流化床裝置還設(shè)置有協(xié)調(diào)控制所述供氣裝置、所述X射線照射裝置及所述噴槍的控制裝置。
10.如權(quán)利要求2～6中任一項(xiàng)所述的流化床裝置，其特征為，所述供氣裝置和所述X射線照射裝置被協(xié)調(diào)控制。
11.如權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的流化床裝置，其特征為，所述X射線照射裝置照射軟X射線作為X射線。
12.如權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的流化床裝置，其特征為，所述流化床裝置為Wurster型包衣機(jī)、流化床型包衣機(jī)、攪拌流動型包衣機(jī)、轉(zhuǎn)動流化床型包衣機(jī)及振動流化床型包衣機(jī)中的任意一種。
13.如權(quán)利要求1～12中任一項(xiàng)所述的流化床裝置，其中，所述流化床裝置為Wurster型包衣機(jī)。
14.一種流化床裝置，其特征為，所述流化床裝置設(shè)置有除電裝置，所述除電裝置設(shè)置在流化床容器中，除去由其內(nèi)部的被處理對象的微粒產(chǎn)生的靜電。
15.一種微粒的處理方法，其特征為，所述方法是在流化床裝置的流化床容器內(nèi)對處于被吹起狀態(tài)的微粒照射X射線。
16.一種微粒的除電方法，其特征為，所述方法是在流化床裝置的流化床容器內(nèi)對處于被吹起狀態(tài)的微粒照射X射線。
17.一種微粒的包衣、造粒方法，其特征為，所述方法是在流化床裝置的流化床容器內(nèi)對處于被吹起狀態(tài)的微粒照射X射線。
全文摘要
本發(fā)明提供一種抑制靜電影響的流化床裝置及使用該裝置的除靜電方法，所述流化床裝置在醫(yī)藥品制備工序、化妝品制備工序、食品制備工序、化學(xué)品制備工序等中將微粒作為流化床進(jìn)行處理。本發(fā)明的流化床裝置設(shè)置有對流化床裝置內(nèi)的微粒照射X射線的X射線照射裝置。
文檔編號B01J2/16GK101080267SQ20058004359
公開日2007年11月28日 申請日期2005年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月21日
發(fā)明者財滿泰弘 申請人:衛(wèi)材R&D管理有限公司