專(zhuān)利名稱(chēng)：分配器底板的制作方法
分配器底板
本發(fā)明涉及一種分配器底板，特另lj是噴嘴分配器底板，用于均勻地將過(guò)程 氣體特別是充有固體微粒的過(guò)程氣體必要時(shí)為了形成渦流層弓l入到一個(gè)布置于 分配器底板上方的處理室中，處理室由反應(yīng)器的反應(yīng)器壁構(gòu)成，反應(yīng)器用于對(duì) 給料進(jìn)行冶金處理，特別是熱處理，其中，分配器底板具有大量的孔。
分配器底板用于將過(guò)程氣體受控地弓l入或分配到反應(yīng)器中。這種反應(yīng)器例 如根據(jù)渦流層的原理工作，其中，過(guò)程氣體流多數(shù)將應(yīng)當(dāng)在反應(yīng)器中得到處理 的塊狀材料保持在渦流層中。
在現(xiàn)有技術(shù)中己知，通過(guò)反應(yīng)器中的分配器底板確保過(guò)程氣體的分配。
在運(yùn)行這種反應(yīng)器時(shí)的一個(gè)基本問(wèn)題是在反應(yīng)^HI上或在分配^I底板本身 的區(qū)域中的沉積。它可以由此產(chǎn)生，艮P，存在液化非常少的區(qū)域，這樣，如果 固體易于粘附，那么固體可以在這個(gè)位置形成牢固的附聚物，它也作為粘合物 被公知。這種效應(yīng)一方面減少了反應(yīng)器的可利用容積，另一方面可能妨礙或完 全喪失部件的功能，比如對(duì)于換熱管，其熱傳遞可能大大減小。
從W098/55218中可以獲悉一種用于改善渦流層機(jī)組中的氣流的裝置。然 而，其中的缺點(diǎn)是，通過(guò)所展示的分配器底板不能可靠地避免沉積，特別是在 反應(yīng)器容器范圍內(nèi)的沉積。
以現(xiàn)有技術(shù)為出發(fā)點(diǎn)，本發(fā)明的任務(wù)是，克月艮現(xiàn)有技術(shù)中的缺點(diǎn)并提供一 種在,反應(yīng)器室中在很大程度上避免粘合物的分配器底板。
按照本發(fā)明的任務(wù)將根據(jù)權(quán)利要求1的特征部分來(lái)解決。
粘合物特另提在反應(yīng)器中 臓較小的區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生問(wèn)題，因?yàn)檫@里只是較少 地被液化且因此只有較少的用于中斷固體固體樹(shù)妾的沖力可供4頓。粘附經(jīng)常 出現(xiàn)在反應(yīng)器壁的處分配器底板的區(qū)域中。通過(guò)按照本發(fā)明的分配器底板，壁 附近的孔以這種方式與反應(yīng)器壁間隔開(kāi)地布置，即，其中心距相應(yīng)地最大為孔 直徑的1至10倍，特別是2倍。這里，壁附近可以理解為/A^卜邊緣開(kāi)始測(cè)量， 大概為直徑的5%至20%之間的區(qū)域。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，孔的定位離反應(yīng)器壁明顯更近。因此，確保了即使是在
反應(yīng)器壁的區(qū)域內(nèi)也存在足夠大的 及由此存在足夠的過(guò)程氣體流，這樣， 粘附得以避免。盡量靠近反應(yīng)^M來(lái)布置壁附近的孑L避免形成壁附近流速較小 的渦流層，這種渦流層會(huì)再次導(dǎo)致將在反應(yīng)器中得到處理的塊狀或細(xì)粒狀材料
的沉積。ilil根據(jù)孔的直徑調(diào)節(jié)距離，流動(dòng)狀況可以得到相應(yīng)地影響或調(diào)整。
按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊的實(shí)施方式，壁附近的孔的中軸線(xiàn)與 分配器底板的中軸線(xiàn)之間的距離相對(duì)于分配器底板的半徑的比例為0.9至1。該 特殊的設(shè)計(jì)方案允許產(chǎn)生一種有禾啲連續(xù)流動(dòng)并因此允許形成渦流層。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊的實(shí)施方式，壁附近的孔圓形地 布置在1至5個(gè)、特別是3個(gè)圓中。這種特殊的布置形式特別在具有圓形橫截 面的反應(yīng)器內(nèi)允許過(guò)程氣體到反應(yīng)器中的有利的連續(xù)流動(dòng)或輸入。因此，可以 避免壁附近沒(méi)有孔的分配器底板區(qū)域并排除易于粘附的區(qū)域。每個(gè)圓的孔可以 相應(yīng)地與壁之間以相同的距離布置。每個(gè)圓中的孔的角度位置可以根據(jù)流動(dòng)狀 況的調(diào)節(jié)需要而變化。還可以考慮這樣確定圓中的孔，即，孔各自按照徑向指 向的射束布置。另外還可以考慮的是，為不具有圓形的而是比如帶有棱角的橫 截面的反應(yīng)器設(shè)置這種孔的布置。皿 L的布置與橫截面狀況的匹配也可以可 靠地避免在角落中的沉積。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊的實(shí)施方式，壁附近的孑L與反應(yīng) 器內(nèi)壁平，fi也布置在1至5行、特別是2行中。這禾中設(shè)計(jì)方案特別在具有比如 帶棱角的橫截面的反應(yīng)器中得到應(yīng)用。通過(guò)按照本發(fā)明的布置可以有禾哋調(diào)整 流動(dòng)緣
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種有利的實(shí)施方式，壁附近的孔中的至 少一個(gè)與反應(yīng)器壁中的至少一個(gè)成一直線(xiàn)地布置。壁附近的孔的布置這樣實(shí)現(xiàn)， 即，使 L的軸與最近的反應(yīng)鵬成一直線(xiàn)，也就是說(shuō)，孔的軸至少平行于壁。 通過(guò)這種布置，再結(jié)合孔與反應(yīng)皿之間微小的距離，實(shí)現(xiàn)了反應(yīng)fHI處非常 好的流動(dòng)性。由此可以避免粘附。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊實(shí)施方式，壁附近的孔中的至少 一個(gè)與反應(yīng)器壁中的至少一個(gè)船15。、優(yōu)選±5°的角度。通過(guò)這種布置，流動(dòng)被 相對(duì)地對(duì)準(zhǔn)到壁中的至少一個(gè)上并有禾哋阻止了粘附。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種有利的設(shè)計(jì)方案，孔至少部分地布置 在圓上，其中，至少2個(gè)圓的孑L沿周向彼此錯(cuò)開(kāi)地布置，特別是這種形式，S卩，
下一個(gè)內(nèi)部的圓的孑L布置于外部的圓的孔之間。ilil孔的徑向分布，可以實(shí)現(xiàn)
過(guò)程氣體的更均勻的分配。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種可能的實(shí)施方式，分配器底板邊緣區(qū) 域上單位面積的壁附近的孔的數(shù)量大于分配器底板遠(yuǎn)離壁的區(qū)域上單位面積的 遠(yuǎn)離壁的孔的數(shù)量。通過(guò)反應(yīng)器壁區(qū)域中更大的孔的數(shù)量，可以這樣影響流動(dòng) 狀況，即，能夠有效地避免粘附。特別是在反應(yīng)器中關(guān)鍵的區(qū)域中比如在棱角 處的粘附可以通過(guò)局部更大的孔的數(shù)量相應(yīng)地得到避免并使得局部的流動(dòng)狀況 得以改善。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的另一種可能的實(shí)施方式，壁附近的孔具有
相對(duì)于遠(yuǎn)離壁的孔更大的、優(yōu)選大出10%至50%、特別是20%的直徑，這樣， 可以向壁附近的區(qū)域引入更多的過(guò)程氣體。除了通過(guò)孔的數(shù)量調(diào)整流動(dòng)之外還 可以M直徑^ia行調(diào)整，這樣，可以更好地影響或者說(shuō)適應(yīng)反應(yīng)器中的流動(dòng) 狀況。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊的實(shí)施方式，壁附近的孔中的至
少一個(gè)與反應(yīng)器壁之一平行布置jy或相對(duì)于分配器底板上的法線(xiàn)以一個(gè)土i5。、
tt^士5。的角度傾斜布置。為了引入相對(duì)于過(guò)程氣體的主流動(dòng)方向有針對(duì)性地傾
斜的流動(dòng)，孔相對(duì)于分配器底板上的法線(xiàn)傾斜。另外，通過(guò)這種手段，調(diào)整出 有利的壁附近的流動(dòng)并由此阻止了粘附。在一種特殊的設(shè)計(jì)方案中，傾斜取徑
向方向，這樣，孑L育樹(shù)準(zhǔn)或背離至少其中一個(gè)壁。
孔的直徑、氣壓和從孔流出時(shí)形成的過(guò)程氣體射流的空間位置可以根據(jù)過(guò) 程狀況來(lái)確定。M:附加的橫向流動(dòng)分量，可以更靈活地影響或優(yōu)化流動(dòng)。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特別有利的實(shí)施方式，壁附近的孔中 的至少一個(gè)相對(duì)于反應(yīng)，這樣定向，即，反應(yīng),被在孔處形成的過(guò)程氣體 射流在計(jì)算出的射流射入深度處擊中。本領(lǐng)域的技術(shù)人員把射流射入深度理解
為從噴嘴擴(kuò)散開(kāi)的射流的持續(xù)的氣體空間的射入深度。由Knowlton和Hirsan于 1980年做出的這個(gè)定義可以從很多出版物中獲取，比如"The effect of pressure on jet penetration in semi-cylindrical gas-fluidized beds ，，0
這形成了增強(qiáng)的渦流，它對(duì)于冶金過(guò)程是有利的。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種作為替代方案的有利實(shí)施形式，壁附 近的孔中的至少一個(gè)相對(duì)于反應(yīng)皿這樣定向，即，反應(yīng)自被在孔處形成的
過(guò)程氣體射流在計(jì)算出的射流射入深度的70%至130%、優(yōu)選90%至110%處擊 中。運(yùn)行i力驗(yàn)顯示，在這種具體的過(guò)程控制中達(dá)到了最佳的運(yùn)行狀態(tài)。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種合適的實(shí)施方式，壁附近的孔不同于 遠(yuǎn)離壁的孔定向。由于壁附近的或遠(yuǎn)離壁的孔的不同定向，可以有利地影響反 應(yīng)器壁對(duì)形成的流動(dòng)狀況的影響。尤其是可以如此調(diào)整特殊的流動(dòng)狀況，艮P，
隨后的反應(yīng)器在出現(xiàn)粘附時(shí)也能夠M:相匹配的分配器底板得到改善或優(yōu)化。 一種可能的孔的布置可以為壁附近的孔設(shè)置朝向反應(yīng)^M的定位，而遠(yuǎn)離壁的 噴嘴可以正交于分配器底板定向。
按照本發(fā)明的分配器底板的一種有利的實(shí)施方式，至少其中一個(gè)孔具有可
調(diào)整位置的噴嘴。fflil安裝噴嘴，可以更有利地調(diào)整在孔處的流動(dòng)狀況。通過(guò)
構(gòu)造噴嘴，可以不取決于分配器底板本身確定噴嘴處的流動(dòng)并因此確定在噴嘴 處形成的射流。另外，噴嘴可以由不同于分配器底板的材料制造，因此，它能 夠以更低的成本且與過(guò)程匹配地制成。通過(guò)調(diào)整噴嘴的位置，也就是調(diào)整噴嘴 的軸線(xiàn)相對(duì)于分配器底板的位置，可以有利地調(diào)整流動(dòng)狀況，其中，可以更有 利地確定反應(yīng),上的流動(dòng)并避免噴嘴禾時(shí)管區(qū)域內(nèi)的粘附。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊實(shí)施方式，可調(diào)整位置的噴嘴具
有導(dǎo)管，其中，導(dǎo)管的內(nèi)直徑為最小的噴嘴直徑的1至10倍，{雄2至7倍。 向噴嘴的入流通過(guò)導(dǎo)管變得穩(wěn)定并因此實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步的改進(jìn)。由于導(dǎo)管相對(duì)于 噴嘴更大的尺寸，可以確保非常好的入流禾喊嘴處無(wú)干擾的流動(dòng)。
對(duì)于較厚的分配器底板，M31使用導(dǎo)管可以將高速的區(qū)域通過(guò)使用較短的
噴嘴限制到一個(gè)相對(duì)小的區(qū)域。因此，可以避免粘附。在分配器底板艦行維 修保養(yǎng)時(shí)，比如在更換噴嘴時(shí)，不是直接在分配器底板處而是在導(dǎo)管皿行作 業(yè)，這樣，分配器底板可以獲得更長(zhǎng)的使用壽命。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種作為替代方案的特殊實(shí)施方式，導(dǎo)管
的長(zhǎng)度相當(dāng)于分配器底板厚度的至少70%。導(dǎo)管的長(zhǎng)度可以適應(yīng)，情〗兄，比
如分配器底板結(jié)構(gòu)和必要時(shí)它的支承結(jié)構(gòu)，這樣，就可以調(diào)整出所期望的流動(dòng) 狀況。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種有利的實(shí)施方式，導(dǎo)管由耐火材料制 成，這樣，即使在帶有高熱負(fù)荷的處理過(guò)程中也育詢(xún)多達(dá)到高耐用度。 根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊實(shí)施方式，噴嘴軸線(xiàn)相對(duì)于導(dǎo)管
的軸線(xiàn)和/或相對(duì)于分配器底板中的孔傾斜地布置。這種布置允許一禾中比如過(guò)程 氣體向?qū)Ч苤械闹本€(xiàn)入流。通過(guò)噴嘴軸線(xiàn)相對(duì)于導(dǎo)管軸線(xiàn)的傾斜，可以在相應(yīng) 的噴嘴上調(diào)整流動(dòng)并由此有利地調(diào)整過(guò)程氣體射流的位置。因此，可以調(diào)節(jié)出 任意的流動(dòng)圖。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種作為替代方案的特殊實(shí)施方式，導(dǎo)管 具有一個(gè)彎頭。這種設(shè)計(jì)允許在導(dǎo)管的第一直線(xiàn)部分中使用噴嘴，其中，其它 直線(xiàn)部分的軸線(xiàn)通常正交于分配器底板。另外，可以通過(guò)該手段有利地調(diào)整噴 嘴的空間位置。
按照本發(fā)明的分配器底板的一種有利的實(shí)施方式，噴嘴具有基本為圓柱形 或圓錐形的噴嘴開(kāi)孔。兩種噴嘴形式的突出之處都在于簡(jiǎn)單的皿，因此，其 制造成本低廉。除此之外，這種基本形狀還允許與處理室中的工藝條件相適應(yīng)， 這樣，可以使過(guò)程氣體射流在其形狀和渦流方面并因此在其射流射入深度方面 得到調(diào)節(jié)。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的一種特殊實(shí)施方式，噴嘴由金屬制成。金 屬制成的噴嘴被證明是低成本的和機(jī)械穩(wěn)定的，且它在運(yùn)行試驗(yàn)中經(jīng)受住了考 驗(yàn)。除此之外，它是易加工的。
根據(jù)按照本發(fā)明的分配器底板的另一種特殊實(shí)施方式，噴嘴借助于焊接連 接或ffil法蘭與分配器底板或與導(dǎo)管相連接。這種簡(jiǎn)單的裝配手段允許低成本 地裝備帶有噴嘴的分配器底板或允許進(jìn)行簡(jiǎn)單的保養(yǎng)或維修工作。
下面，借助于附圖詳細(xì)闡述本發(fā)明，其中，附圖只示出了按照本發(fā)明的分 配器底板的可能的設(shè)計(jì)方案且絕對(duì)不代表受限于此。


圖1示意示出了按照本發(fā)明的分配器底板的俯視圖2示出了配有噴嘴的按照本發(fā)明的分配器底板在反應(yīng)器中的視圖3示出了配有噴嘴和導(dǎo)管的按照本發(fā)明的分配器底板在反應(yīng)器中的視圖;
圖4示出了分配器底板在反應(yīng)器中的布置；
圖5示出了按照本發(fā)明的分配器底板的特殊的設(shè)計(jì)方案。
在圖l中以俯視圖示出了一個(gè)分配器底板。分配器底板中的孔5、 6或內(nèi)嵌 的噴嘴和導(dǎo)管只用小圓來(lái)示意表示。反應(yīng)器是圓形的。這里，壁附近的孔5的 布置在圓8上實(shí)現(xiàn)，這樣，所有壁附近的孔5與反應(yīng)HH之間具有相等的距離。 壁附近的孔的布置也可以在多于一個(gè)的圓8上實(shí)現(xiàn)，其中，這些圓各自相對(duì)于反應(yīng)器中心同心地布置。遠(yuǎn)離壁的孔6既可以以另一種模式布置也可以對(duì)遠(yuǎn)離 壁的分配器底板的^^單位面積以另一數(shù)量布置。為了優(yōu)化流動(dòng)，可以將所有 孔的布置與反應(yīng)器或過(guò)程相匹配。
此外，圖l標(biāo)出了壁附近的、圓柱形的噴嘴7的幾何定向，其中，方向
X代表一個(gè)徑向射束。噴嘴的傾斜角度a可以根據(jù)需要調(diào)整。
圖2以剖面圖示出了布置在反應(yīng)器中的按照本發(fā)明的分配器底板。反應(yīng)器 以其反應(yīng),4表示。在分配器底板的上方，渦流層2位于處理室3中，其中， 在分配器底板上示出了噴嘴。M31按照本發(fā)明的分配器底板1的設(shè)計(jì)方案，可 以避免在分配器底板1和反應(yīng) 4上的沉積。噴嘴7可以關(guān)于其軸線(xiàn)傾斜于 或平行于分配器底板1上的法線(xiàn)地裝入。有利的是，按照本發(fā)明布置壁P(傲的 噴嘴，噴嘴還可以指向反應(yīng)鵬4，不過(guò)這在圖2中沒(méi)有進(jìn)一步示出。
在圖3中示出了分配器底板l中帶有導(dǎo)管8的噴嘴7。作為特殊的實(shí)施方式， 示出了帶有彎頭9的導(dǎo)管，這樣，至噴嘴7的入流和過(guò)程氣體射流的方向可以 相應(yīng)地得到調(diào)整。
在圖4中示出了反應(yīng)器10中帶有孔的分配器底板1，其中，分配器底板上 方的反應(yīng)fHl4相對(duì)于分配器底板傾斜地構(gòu)成。
在圖5中示出了分配器底板l的一種特殊的設(shè)計(jì)方案，其中，壁附近的孔5 按行布置。此外，壁附近的孔5布置在以中軸線(xiàn)C為中心、半徑大于X且小于 反應(yīng)器內(nèi)直徑R的區(qū)域內(nèi)。
權(quán)利要求
1.分配器底板(1)，特別是噴嘴分配器底板，用于為了必要時(shí)形成渦流層(2)均勻地將過(guò)程氣體特別是充有固體微粒的過(guò)程氣體引入到布置于分配器底板上方的處理室(3)中，處理室由反應(yīng)器的反應(yīng)器壁(4)構(gòu)成，反應(yīng)器用于對(duì)給料進(jìn)行冶金處理，特別是熱處理，其中，分配器底板(1)具有大量的孔，其特征在于，所述分配器底板具有所謂的壁附近的孔(5)，它們與反應(yīng)器壁(4)間隔開(kāi)布置，使得其中軸線(xiàn)的距離相應(yīng)地最大為孔直徑的1至10倍，特別是2倍，且/或壁附近的孔(5)的中軸線(xiàn)與分配器底板(1)的中軸線(xiàn)之間的距離相對(duì)于分配器底板的半徑的比例為0.9至1.0。
2. 如權(quán)利要求1所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述壁附近的孔(5) 以圓形布置在1至5個(gè)、特別是2個(gè)圓(6)中。
3. 如權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的分配器底板，其特征在于，所述壁附 近的孔與內(nèi)部的反應(yīng)器壁平行地布置在1至5行、特別是2行中。
4. 如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述 壁附近的孔(5)中的至少一個(gè)與反應(yīng)器壁(4)中的至少一個(gè)成一直線(xiàn)地布置。
5. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述壁 附近的孔(5)中的至少一個(gè)與反應(yīng)器壁(4)中的至少一個(gè)成±15°、優(yōu)選±5°的 角度。
6. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述孔 (5)至少部分地布置在圓上，其中，至少2個(gè)圓的孔沿周向相互錯(cuò)開(kāi)地布置，特別是這樣布置，即，下一個(gè)內(nèi)部的圓的孔布置在外部的圓的孔之間。
7. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述分 配器底板邊緣區(qū)域上單位面積的壁附近的孔(5)的數(shù)量大于遠(yuǎn)離壁的區(qū)域上單 位面積的遠(yuǎn)離壁的孔(6)的數(shù)量。
8. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述壁 附近的孔 (5)具有相對(duì)于遠(yuǎn)離壁的孔(6)更大的、優(yōu)選大出10%至50%、特 別是20%的直徑，從而能夠向壁附近的區(qū)域弓l入更多的過(guò)程氣體。
9. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述壁 附近的孔(5)中的至少一個(gè)與反應(yīng)器壁(4)之一平行布置且/或?qū)τ诜峙淦鞯装迳系姆ň€(xiàn)以一個(gè)±15°、優(yōu)選士5°的角度a傾斜布置。
10. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，使所述壁附近的孔(5)中的至少一個(gè)相對(duì)于反應(yīng)器壁(4)定向，使得反應(yīng)器壁(4) 被在孔處形成的過(guò)程氣體射流在計(jì)算出的射流射入深度處擊中。
11. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，使所述壁附近的孔(5)中的至少一個(gè)相對(duì)于反應(yīng)器壁(4)定向，使得反應(yīng)器壁(4) 被在孔處形成的過(guò)程氣體射流在計(jì)算出的射流射入深度的70%至130%、優(yōu)選 90%至110%處擊中。
12. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在一于，所述壁附近的孔(5)不同于遠(yuǎn)離壁的孔(6)定向。
13. 如前述權(quán)禾腰求中任一項(xiàng)所述的分配器底板，其特征在于，所述孔(5、 6)中的至少一個(gè)具有可調(diào)整位置的噴嘴(7)。
14. 如權(quán)利要求13所述的分配器底板(1),其特征在于，所述可調(diào)整位置 的噴嘴(7)包括導(dǎo)管(8)，其中，所述導(dǎo)管(8)的內(nèi)直徑為最小的噴嘴直徑 的l至10倍, 優(yōu)選2至7倍。
15. 如權(quán)禾腰求14所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述導(dǎo)管(8) 的長(zhǎng)度相當(dāng)于分配器底板(1)厚度的至少70%。
16. 如權(quán)利要求14或15中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于， 所述導(dǎo)管(8)由耐火材料制成。
17. 如權(quán)利要求14至16中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于， 噴嘴軸線(xiàn)相對(duì)于導(dǎo)管(8)的軸線(xiàn)和/或相對(duì)于分配器底板中的孔(5、 6)傾斜地 布置。
18. 如權(quán)利要求14至17中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其f寺征在于， 所述導(dǎo)管(8)具有彎頭(9)。
19. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述 噴嘴(7)具有基本為圓柱形或圓錐形的噴嘴開(kāi)孔。
20. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述 噴嘴(7)由金屬制成。
21. 如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配器底板(1)，其特征在于，所述 噴嘴(7)借助于焊接連接或通過(guò)法蘭與分配器底板(1)相連接。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種分配器底板(1)，特別是噴嘴分配器底板，其用于為必要時(shí)形成渦流層均勻地將過(guò)程氣體特別是充有固體微粒的過(guò)程氣體引入到布置于分配器底板上方的處理室(3)中，處理室由反應(yīng)器的反應(yīng)器壁(4)構(gòu)成，反應(yīng)器用于對(duì)給料進(jìn)行冶金處理，特別是熱處理，其中，分配器底板具有大量的孔。通過(guò)在分配器底板中靠近壁來(lái)布置孔，可以避免反應(yīng)器壁上的粘附。特殊的布置涉及噴嘴和導(dǎo)管。
文檔編號(hào)B01J8/44GK101346178SQ200680048647
公開(kāi)日2009年1月14日 申請(qǐng)日期2006年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月23日
發(fā)明者F·豪詹伯格, K·澤赫特鮑爾, 南宮源, 崔洛晙, 李晙赫, 申明均, 趙敏永, 鄭善光, 金倖久 申請(qǐng)人:西門(mén)子Vai金屬科技有限責(zé)任公司;浦項(xiàng)鋼鐵公司