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降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法

文檔序號:4978160閱讀:3631來源:國知局
專利名稱:降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及改進納濾膜分離效果的處理方法,尤其是降低納濾膜對NaCl脫除率的處 理方法。
背景技術(shù)
目前,我國氣堿企業(yè)所用原料氯化鈉大部分為海鹽和鹵水。海鹽和鹵水均含有一定的 硫酸根,在生產(chǎn)系統(tǒng)不斷的積累,對電解槽的運行有副作用。脫除硫酸根離子的先進方法 是利用膜的分離特性將硫酸根離子從鹽水中去除而保留氯化鈉。但是納濾騏在處理氣化鈉和硫酸鈉混合溶液,對硫酸根離子的高截留率的同時,對氯 化鈉的截留率也在10%以上。這種情況對于氯堿行業(yè)來說,在處理硫酸酸根的同時,也處 理了原料氯化鈉,是不合理的,也不經(jīng)濟的。因此,本發(fā)明設(shè)計了一種改進納濾膜分離效果的處理方法,在硫酸鈉濃度1(K70g/L, 氯化鈉濃度50~300g/L的情況下,使納濾膜對硫酸根離子的截留率保持在90%以上的同時, 降低納濾膜對氯化鈉的截留率,達到5%以下。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明目的在于改進納濾膜分離效果的處理方法。降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法本發(fā)明H^改進納濾膜分離效果的處理方法,步驟如下用pH為8~10、濃度為100~5000mg/L的氫氧化鈉溶液對納濾膜室溫浸泡,然后用去 離子水清洗經(jīng);再用100~5000mg/L的過氧化氫水溶液浸泡,浸泡溫度為25'C~40*C,操作 壓力為100psi 500psi,浸泡時間為4~12小時。本發(fā)明的氣氣化鈉溶液的pH優(yōu)選為9~9.5。氫氧化鈉溶液濃度為2000~3000mg/L。所述的納濾膜為聚酰胺材質(zhì)的納濾膜。用于配置所述氨氧化鈉溶液和過氧化氫溶液的方法均為化學(xué)常規(guī)的方法。 本發(fā)明還包括將用上述溶液浸泡納濾膜的步驟,從而改變所述納濾膜的分離效果。
具體實施方式
實施例l將聚酰胺納濾膜用pH為8, 25"的NaOH溶液,在150psi的操作壓力下浸泡6小時, 取出,用20'C的去離子水洧洗,在150psi的操作壓力下再用1000mg/L,溫度為25'C的過 氧化氫溶液浸泡8小時,取出,用20'C的去離子水清洗。將上述處理過的納濾膜放置于膜 性能測試儀上,在220psi的操作壓力下,在25"下,該膜處理1000mg/L, pH為7.5的 NaCl洛液,其賦1截留率為31%;該膜處理NaCl濃度為100g/L, S042鄰度為10g/L,pH為7.1的混合鹽水溶液,操作壓力為360psi,在30*0下,其NaCl截留率為2.6%, S042-截留率為97%,實施例2、實簾例3如下表改變實施例1中的氫氧化鈉溶液的pH值、浸泡液的時間、浸泡時的操作壓力,其他與實施例1相同,得到改進的納濾膜,在不同測試條件下的膜性能測試c實 例處理液NaOH溶H2Qj溶 液pH值液濃度NaCl濃度為1000mg/L, pH值10.1的NaCi溶液2 NaCl濃度為200g^, SO '濃度為20g/L, pH 值10.1的混合鹽水溶液 NaCl濃度為500rag/L, pH值lO.O的NaCl溶液3 NaCl濃度為150g/L, SQ^濃度為30g/L, pH 值10.0的棍合鹽水溶液91010訓(xùn)100010001000浸演條件浸漬時間脫NaCl脫SO卩'檢測條件 5 27溫度為25 "C,壓力為 100psi溫度為25x:,壓力為150psi1.4301.897.896.9溫度為28'C, 壓力為218psi溫度為28t:, 壓力為290psi溫度為28t:, 壓力為220psi溫度為29"C, 壓力為290psi實施例4用聚酰胺納濾腆處理濃度為1000mg/L, pH為7.5的NaCl溶液,在220psi的操作壓力 下,在25t:下,其NaCl截留率為42.m;該膜處理NaCl濃度為200g/L,S(V—濃度為10g/L, 用pH為7.1的棍合鹽水溶液,操作壓力為360psi,在29'C下,其NaCl截留率為10%, SO, 截留率為99%。將上述未使用的NF200400納濾膜用pH為10, 25'C的NaOH溶液浸泡5小時,取出, 用2(TC的去離子水清洗,在150psi的操作壓力下再用500mg/L,溫度為25C的過氧化氫 溶液浸泡8小時,取出,用2(TC的去離子水清洗。將上述處理過的納濾膜放置于膜性能測 試儀上,在22(^)si的操作壓力下,在25'C下,該膜處理1000mg/L, pH為7.5的NaCl溶 液,其NaCl截留率為26.3%;該膜處理NaCl濃度為200g/L, SO^濃度為10g/L, pH為 7.1的混合鹽水溶液,操作壓力為360psi,在30'C下,其NaCl截留率為1.1%, SO^截留 率為98.2%。 實施例5-12,如下表-改變實癱例4中的過氣化氨溶液的濃度、浸泡液的時間、浸泡時的操作壓力、浸泡液 的溫度,其他與實施例4相同,得到改進的納濾膜,在不同測試條件下的膜性能測試實 例處理液NaCl濃度為1000mg/L, 卩11值7.5的^1洧液5 NaCl濃度為200g/L,SO42' 濃度為10g/L, pH值7.1的棍合鹽水溶液 NaCl濃度為1000mg/L, pH值lO.l的NaCl溶液6 NaCl濃度為200g/L,SO42' 濃度為20g/L, pH值lO.l的混合鹽水溶液 NaCl濃度為500mg/L,pH 值lO.O的NaCl自7 NaCl濃度為lSlg/L,S042' 濃度為30g/L, 1 值10.0的泡合勝水溶液H202溶液濃度 500浸漬條件500100010001000薩浸漬時間h 8脫NaCl脫SO, 檢測條件溫度為25"C, 壓力為150psi溫度為25t:, 壓力為100psi溫度為25"C, 壓力為150psi1212101026.31.1220.53230.8698.297.998.2溫度為25"C, 壓力為220psi溫度為30X:, 壓力為360psi溫度為28t:, 壓力為218psi溫度為28X:, 壓力為290psi溫度為28"C, 壓力為220psi溫度為291C, 壓力為290psiNaCl濃度為750mg/L,pH 值10.0的NaCl解液8 NaCl濃度為100g/L,SO^ 濃度為20g/L, pH值9.0的混合鹽水溶液 NaCl濃度為2000mg/L, pH值lO.O的NaCl溶液9 NaCl濃度為100g/L,SO42' 濃度為5每/L, pH值7.8的混合鹽水溶液 NaCl濃鈔1000rag/L, pH值lO.O的Naa溶液10 NaCl濃度為150g/L,SO42-濃度為60g/L, pH值6.2的混合鹽水溶液 NaCl濃度為3000ra /L, 11值10.0的飾01溶液11 NaCl濃度為200g/L,SO42— 濃度為70g/L, pH值8.1的混合鹽水溶液 NaCl濃度為1000n^/L, pH值10.0的Naa溶液12 NaCl濃度為100g/L,SO42' 濃度為70g/L, pH值9.7的混合鹽水溶液3000300030002000250025002500溫度為27'C, 壓力為210psi3000 4溫度為27X:, 壓力為500psi溫度為30C 壓力為160psi42000 7 溫度為37'C, 壓力為180psi72500 6溫度為27t;,壓力為190psi60 21.4 0.4920.4 0.34 19.8 0.2620.5 0.3182.697.497.296.597.4溫度為28'C, 壓力為220psi溫度為3rc,壓力為2卯psi溫度為29'C, 壓力為220psi溫度為25匸, 壓力為2卯psi溫度為29t:, 壓力為210psi溫度為30。C, 壓力為290psi溫度為29匸, 壓力為210psi溫度為29'C, 壓力為270psi溫度為28'C, 壓力為230psi溫度為26X:, 壓力為280psi
權(quán)利要求
1. 一種降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法,其特征是用pH為8~10、濃度為100~5000mg/L的氫氧化鈉溶液對納濾膜室溫浸泡,然后用去離子水清洗經(jīng);再用100~5000mg/L的過氧化氫水溶液浸泡,浸泡溫度為25℃~40℃,操作壓力為100psi~500psi,浸泡時間為4~12小時。
2. 如權(quán)利要求1所述的降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法,其特征是所述的氫氧化鈉溶 液濃度為2000~3000mg/L。
3. 如權(quán)利要求l所述的降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法,其特征是所述的氫氧化鈉溶 液的pH為9^9.5。
4. 如權(quán)利要求l所述的降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法,其特征是所述的納濾膜為聚 酰胺材質(zhì)的納濾膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及改進納濾膜分離效果的處理方法,尤其是降低納濾膜對NaCl脫除率的處理方法。用pH為8~10、濃度為100~5000mg/L的氫氧化鈉溶液對納濾膜室溫浸泡,然后用去離子水清洗;再用100~5000mg/L的過氧化氫水溶液浸泡,浸泡溫度為25℃~40℃,操作壓力為100psi~500psi,浸泡時間為4~12小時。本發(fā)明還包括將用上述溶液浸泡納濾膜的步驟,從而改變所述納濾膜的分離效果。
文檔編號B01D67/00GK101234295SQ20071005670
公開日2008年8月6日 申請日期2007年2月2日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月2日
發(fā)明者明 葉, 鄒劍昆 申請人:天津威德泰科石化科技發(fā)展有限公司
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