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氣體處理裝置及氣體處理方法

文檔序號(hào):5023300閱讀:307來(lái)源:國(guó)知局

專(zhuān)利名稱(chēng)::氣體處理裝置及氣體處理方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及對(duì)含有對(duì)人體有害的氣體、使地球變暖的氣體、臭氧層破壞氣體的氣體,特別是從半導(dǎo)體、液晶等的制造工藝中排出的氣體進(jìn)行分解處理的裝置及其方法。
背景技術(shù)
:在半導(dǎo)體、液晶等的制造工藝中,使用各種氟化合物氣體作為清潔氣、蝕刻氣體等。這種氟化合物被稱(chēng)作"PFCs等",其代表性例子,可以舉出CF4、C2F"C3F8、C4F8、CsF8等全氟烴,CHF3等氫氟烴及SF6、NF3等無(wú)機(jī)含氟化合物等。而且,半導(dǎo)體、液晶等的制造工藝中使用的各種PFCs等,與用作載氣、凈化氣體等的N2、Ar或用作添加氣體的02、H2、冊(cè)3、C仏等一起作為排氣被排出。其中,上述排氣中PFCs等所占的比例與N2、Ar等其他氣體相比很少,但該P(yáng)FCs等的地球變暖系數(shù)(GWP)與C02相比非常大,為數(shù)千~數(shù)萬(wàn)倍,大氣壽命與CO,相比,也長(zhǎng)達(dá)數(shù)千數(shù)萬(wàn)年,即使向大氣中少量排放,其影響甚大。另外,以C仏、(^6為代表的全氟烴,已知由于C-F鍵穩(wěn)定(鍵能大到130kcal/mol),不易分解。因此,進(jìn)行了從排氣中除去使用過(guò)的PFCs等的各種技術(shù)的開(kāi)發(fā)。作為釆用熱分解對(duì)含有這種難分解性PFCs等的氣體(下面簡(jiǎn)稱(chēng)"處理對(duì)象氣體")除害的技術(shù),如圖9所示,提出了在等離子體焰炬l的電極la、lb之間送給工作氣體G,同時(shí)在電極la、lb之間外加放電電壓從而向反應(yīng)器2內(nèi)噴出大氣壓等離子體P,向該大氣壓等離子體P供給處理對(duì)象氣體F從而使處理對(duì)象氣體F熱分解的等離子體分解機(jī)3(例如,參見(jiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。對(duì)于該采用了大氣壓等離子體P的等離子體分解機(jī)3,通過(guò)使用氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏wG,大氣壓等離子體P的溫度達(dá)到約為數(shù)千~數(shù)萬(wàn)。C左右(這種情況下,大氣壓等離子體P的氣氛溫度也達(dá)到數(shù)千匸)的超高溫,能夠瞬時(shí)將處理對(duì)象氣體,特別是全氟烴等難分解性處理對(duì)象氣體F熱分解而除害。而且,含有從等離子體分解機(jī)3排出的熱分解后的處理對(duì)象氣體F和工作氣體G的高溫排氣R,通過(guò)在等離子體分解機(jī)3后緊接著的濕式滌氣器(未圖示)中接受水的噴射,在除去排氣R中含有的粉粒的同時(shí),利用該水的蒸發(fā)潛熱等進(jìn)行排氣R的冷卻。[專(zhuān)利文獻(xiàn)l]特開(kāi)2000-334294號(hào)公報(bào)(圖2)
發(fā)明內(nèi)容但是,對(duì)于上述現(xiàn)有技術(shù),用作工作氣體的氮與排氣中的氧結(jié)合,產(chǎn)生稱(chēng)作熱NOx的氮氧化物(N0x)。特別是使來(lái)自等離子體分解機(jī)3的排氣R在高溫下直接通入濕式滌氣器時(shí),由于排氣R具有的熱,噴射至排氣R的水被分解為氫與氧,進(jìn)而該氧與作為工作氣體G的氮反應(yīng),產(chǎn)生氮氧化物。當(dāng)然,如果高溫的工作氣體G與供給大氣壓等離子體P之前處理對(duì)象氣體F中含有的氧(水中含有的氧也同樣)接觸,則與全部氮氧化物的產(chǎn)生有關(guān),但通過(guò)如上所述通過(guò)濕式滌氣器,存在排氣R中的氧濃度快速上升,氮氧化物的產(chǎn)生量變得極多的問(wèn)題。因此,對(duì)于該現(xiàn)有技術(shù),在后工序中必須將氮氧化物進(jìn)一步從排氣R中除去,效率非常差。本發(fā)明針對(duì)該現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題點(diǎn)進(jìn)行開(kāi)發(fā)。因此,本發(fā)明的課題在于提供使用以氮作為工作氣體的等離子體焰炬,不副產(chǎn)氮氧化物,并且與現(xiàn)有例相比能夠高效地將處理對(duì)象氣體熱分解的氣體處理裝置。權(quán)利要求1中記載的發(fā)明涉及氣體處理裝置10,其具備圍繞大氣壓等離子體P及向大氣壓等離子體P供給的處理對(duì)象氣體F,其內(nèi)部具有進(jìn)行處理對(duì)象氣體F的熱分解的反應(yīng)器22,使用氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏wG的等離子體分解機(jī)12;以及在含有從等離子體分解機(jī)12排出的熱分解后的處理對(duì)象氣體F與工作氣體G的排氣R中不混入氧或水分的狀態(tài)下,將排氣R冷卻到至少不生成氮氧化物的溫度的冷卻部14。在本發(fā)明中,含有有害氣體、可燃?xì)怏w、地球變暖氣體、臭氧層破壞氣體等的處理對(duì)象氣體F,在等離子體分解機(jī)12中被工作氣體G(氮?dú)?的高溫等離子體流熱分解。另外,含有從等離子體分解機(jī)12排出的熱分解后的處理對(duì)象氣體F與工作氣體G的高溫排氣R,從等離子體分解機(jī)12排出后,在不與氧或水分接觸的情況下,被冷卻部14冷卻至不生成氮氧化物的溫度。(應(yīng)予說(shuō)明,上述"氧或水分,,不包括在將處理對(duì)象氣體F供給等離子體分解機(jī)12前處理對(duì)象氣體F本身含有的氧或水分,或處理對(duì)象氣體F被供給大氣壓等離子體P前添加至處理對(duì)象氣體F中的氧或水分)。因此,能夠使溫度高的氮與氧接觸的機(jī)會(huì)顯著降低,使氮氧化物的副產(chǎn)極小化。權(quán)利要求2中記載的發(fā)明,其特征在于,在權(quán)利要求l中記載的氣體處理裝置10中,冷卻部14具有熱交換器72。應(yīng)予說(shuō)明,在本說(shuō)明書(shū)中,所謂"熱交換器",是指低溫側(cè)介質(zhì)與高溫側(cè)介質(zhì)不直接接觸的形式的熱交換器。權(quán)利要求3中記載的發(fā)明,其特征在于,在權(quán)利要求1或2記載的氣體處理裝置10中,反應(yīng)器22具有由外管46及內(nèi)管48構(gòu)成的雙重管結(jié)構(gòu),大氣壓等離子體P在內(nèi)管48的內(nèi)側(cè)形成,外管46設(shè)置有將處理對(duì)象氣體F導(dǎo)入外管46與內(nèi)管48之間的空間S的處理對(duì)象氣體導(dǎo)入口50,內(nèi)管48設(shè)置有將通過(guò)空間S后的處理對(duì)象氣體F向大氣壓等離子體P吹入的處理對(duì)象氣體送給口52。在本發(fā)明中,反應(yīng)器22具有雙重管結(jié)構(gòu),同時(shí)處理對(duì)象氣體F通過(guò)外管46及內(nèi)管48之間的空間S后,送給大氣壓等離子體P。因此,能夠介由內(nèi)管48向通過(guò)空間S的處理對(duì)象氣體F供給反應(yīng)器22內(nèi)部的熱,能夠?qū)⑺徒o大氣壓等離子體P的處理對(duì)象氣體F進(jìn)行預(yù)熱。另外,能夠在高溫的排氣R與比排氣R低溫的處理對(duì)象氣體F之間進(jìn)行熱交換,將送給大氣壓等離子體P的處理對(duì)象氣體F的預(yù)熱與排氣R的冷卻同時(shí)進(jìn)行。權(quán)利要求4中記載的發(fā)明,其特征在于,在權(quán)利要求3記載的氣體處理裝置10中,還具有噴嘴60,該噴嘴60向空間S、或處理對(duì)象氣體送給口52至少供給水分、氬或氨的任一種。在本發(fā)明中,向外管46及內(nèi)管48之間的空間S、或處理對(duì)象氣體送給口52供給作為分解助劑A的水分、氬或氨的任何一種。因此,當(dāng)供給水分時(shí),能夠在處理對(duì)象氣體F與高溫的工作氣體G混合前將水分混合到處理對(duì)象氣體F中,使水分產(chǎn)生的處理對(duì)象氣體F的分解反應(yīng)在處理對(duì)象氣體F與工作氣體G混合前開(kāi)始,能夠抑制氮氧化物的副產(chǎn),同時(shí)提高處理對(duì)象氣體F的分解效率。另外,將作為分解助劑A的氫或氨向預(yù)熱過(guò)的處理對(duì)象氣體F供給時(shí),沒(méi)有將成為氮氧化物產(chǎn)生原因的氧導(dǎo)入反應(yīng)器,故不用擔(dān)心助長(zhǎng)氮氧化物的副產(chǎn),能夠提高處理對(duì)象氣體F的分解效率。權(quán)利要求5中記載的發(fā)明,其特征在于,在權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)記栽的氣體處理裝置10中,反應(yīng)器22設(shè)置有檢測(cè)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度的溫度檢測(cè)裝置58,等離子體分解機(jī)12設(shè)置有質(zhì)量流量控制裝置38,其根據(jù)溫度檢測(cè)裝置58檢測(cè)的溫度檢測(cè)值來(lái)控制送給大氣壓等離子體P的工作氣體G的量。大氣壓等離子體P,通過(guò)改變工作氣體G的送給量,可以調(diào)節(jié)其輸出(具體地是噴出量、溫度)。因此,本發(fā)明中,因設(shè)置有檢測(cè)反應(yīng)器22內(nèi)溫度的溫度檢測(cè)裝置58,同時(shí)設(shè)置有質(zhì)量流量控制裝置38,其根據(jù)溫度檢測(cè)裝置58的溫度檢測(cè)值來(lái)增減送給大氣壓等離子體P的工作氣體G的量,故能夠控制大氣壓等離子體P的輸出以使反應(yīng)器22內(nèi)的溫度達(dá)到規(guī)定值。即,當(dāng)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度高于規(guī)定值時(shí),能夠降低工作氣體G的送給量從而使大氣壓等離子體P的輸出降低,反之,當(dāng)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度低于規(guī)定值時(shí),能夠增加工作氣體G的送給量,使大氣壓等離子體P的輸出上升。因此,例如,當(dāng)進(jìn)行設(shè)定使反應(yīng)器22內(nèi)的溫度達(dá)到難分解性全氟烴容易熱分解的規(guī)定溫度(約1300r以上的溫度)時(shí),根據(jù)用溫度檢測(cè)裝置58檢測(cè)的反應(yīng)器22內(nèi)的溫度,質(zhì)量流量控制裝置38工作,使送給大氣壓等離子體P的工作氣體G的量增減,調(diào)節(jié)大氣壓等離子體P的輸出。其結(jié)果,反應(yīng)器22內(nèi)的溫度長(zhǎng)時(shí)間被保持在設(shè)定溫度,能夠在反應(yīng)器22內(nèi)確實(shí)地對(duì)處理對(duì)象氣體F除害。另外,由于沒(méi)有恒定地將反應(yīng)器22暴露于當(dāng)大氣壓等離子體P的輸出極大化時(shí)產(chǎn)生的超高溫的熱,故能夠極力延遲這些部件因超高溫的熱而損傷。根據(jù)權(quán)利要求1所涉及的發(fā)明,含有工作氣體與熱分解后的處理對(duì)象氣體的高溫排氣,從等離子體分解機(jī)排出后,在冷卻部在不與氧或水分接觸的狀態(tài)下被冷卻至不生成氮氧化物的溫度,故能夠使溫度高的氮與氧接觸的機(jī)會(huì)顯著降低,使氮氧化物的副產(chǎn)極小化。另外,根據(jù)權(quán)利要求3所涉及的發(fā)明,反應(yīng)器由雙重管構(gòu)成,在排氣R與處理對(duì)象氣體F之間進(jìn)行熱交換,故可以將送給大氣壓等離子體的處理對(duì)象氣體充分預(yù)熱,同時(shí)能夠冷卻熱分解后的高溫排氣。因此,能夠降低大氣壓等離子體的輸出,同時(shí)能夠確實(shí)且高效地?zé)岱纸獯罅髁康奶幚韺?duì)象氣體而除害,另外,能夠降低熱分解后的排氣在冷卻部的冷卻負(fù)擔(dān)。另夕卜,根據(jù)權(quán)利要求4所涉及的發(fā)明,能夠抑制氮氧化物的產(chǎn)生,同時(shí)促進(jìn)處理對(duì)象氣體的分解。此外,根據(jù)權(quán)利要求5所涉及的發(fā)明,能夠確實(shí)地分解處理對(duì)象氣體而除害,同時(shí)能夠長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)。如上所述,根據(jù)本發(fā)明,能夠提供使氮氧化物的副產(chǎn)降低至極小,而且能夠分解處理對(duì)象氣體的氣體處理裝置。圖l是表示本發(fā)明中一實(shí)施例的氣體處理裝置的構(gòu)成圖。圖2是表示本發(fā)明中一實(shí)施例的電源單元的電路圖。圖3是表示本發(fā)明中一實(shí)施例的質(zhì)量流量控制裝置的構(gòu)成圖。圖4是表示本發(fā)明中一實(shí)施例的等離子體分解機(jī)的構(gòu)成圖。圖5是圖4中V-V線斷面圖。圖6是表示本發(fā)明中一實(shí)施例的熱交換器主體的構(gòu)成圖(部分?jǐn)嗝鎴D)。圖7是表示具有電力控制裝置的實(shí)施例的圖。圖8是表示本發(fā)明中一實(shí)施例的電力控制裝置的構(gòu)成圖。圖9是表示現(xiàn)有的等離子體分解機(jī)的圖。[符號(hào)說(shuō)明〗A:分解助劑C:冷卻水F:處理對(duì)象氣體G:工作氣體Ll:流量設(shè)定信號(hào)L2:溫度檢測(cè)信號(hào)P:大氣壓等離子體R:排氣S:空間10:氣體處理裝置12:等離子體分解機(jī)14:冷卻部16:等離子體焰炬16a:焰炬體16b:陽(yáng)極(電極)16c:陰極(電極)16d:等離子體發(fā)生室16e:等離子體噴出孔16f:工作氣體送給口18:電源單元20:工作氣體送給單元20a:貯藏罐20b:工作氣體送給配管22:反應(yīng)器23:分解助劑送給單元24:后流電源26:整流器28:直流濾波器30:變流器32:變壓器34:整流器36:直流濾波器38:質(zhì)量流量控制裝置40:流量傳感器42:控制閥44:比較控制電路46:外管48:內(nèi)管50:處理對(duì)象氣體導(dǎo)入口52:處理對(duì)象氣體送給口54:臺(tái)階部56:耐火壁58:溫度檢測(cè)裝置58a:熱電偶58b:控制器62:配管64:流量計(jì)66:流量調(diào)節(jié)閥68:停止閥70:排氣導(dǎo)入導(dǎo)管72:熱交換器74:排氣排出管76:耐火材料77:箱78:傳熱管80:板82:冷卻水入口孔84:冷卻水導(dǎo)入管86:冷卻水出口孑L88:冷卻水排出管90:耐火材料92:電力控制裝置94:電流檢測(cè)器96:電流設(shè)定裝置98:標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出裝置100:比較放大器具體實(shí)施方式下面,按照?qǐng)D示實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明。圖l是表示本實(shí)施例所涉及的氣體處理裝置10的概略情況的構(gòu)成圖。如該圖所示,本實(shí)施例的氣體處理裝置10大體上由等離子體分解機(jī)12與冷卻部14構(gòu)成。等離子體分解機(jī)12采用高溫的大氣壓等離子體將處理對(duì)象氣體F熱分解,由等離子體焰炬16、電源單元18、工作氣體送給單元20、反應(yīng)器22及分解助劑送給單元23等構(gòu)成。等離子體焰炬16生成高溫的大氣壓等離子體P,具有由黃銅等金屬材料構(gòu)成、上下兩面開(kāi)口的短筒狀焰炬體16a。在該焰炬體16a的頂端連接設(shè)置有陽(yáng)極16b,在其內(nèi)部安裝了棒狀的陰極16c。陽(yáng)極16b由銅或鵠等具有高導(dǎo)電性的高熔點(diǎn)金屬構(gòu)成,為內(nèi)部凹設(shè)有等離子體發(fā)生室16d的圓筒狀噴嘴。在該陽(yáng)極16b的下面中心部貫穿設(shè)置有等離子體噴出孔16e,其使等離子體發(fā)生室16d內(nèi)生成的大氣壓等離子體P噴出,在陽(yáng)極16b側(cè)面的上部設(shè)置了工作氣體送給口16f。陰極16c為棒狀構(gòu)件,其由銅等具有高導(dǎo)電性的高熔點(diǎn)金屬構(gòu)成的主體部、和由混入了釷或鑭的鎢構(gòu)成并且其外徑向頂端縮徑成紡錘狀的頂端部構(gòu)成。該陰極16c的頂端部分配設(shè)于凹設(shè)于陽(yáng)極16b內(nèi)的等離子體發(fā)生室16d。再者,在陽(yáng)極16b與陰極16c之間,介由焰炬體16a,安裝四氟乙烯樹(shù)脂、陶瓷等絕緣材料(未圖示),使在其間不通電(短路)。另外,在陽(yáng)極16b及陰極16c的內(nèi)部設(shè)置有冷卻水流通路(未圖示),冷卻這些構(gòu)件。然后,在上述構(gòu)成的陽(yáng)極16b及陰極16c上連接外加規(guī)定的放電電壓從而在陽(yáng)極16b與陰極16c之間產(chǎn)生電弧的電源單元18。電源單元18,在上述陽(yáng)極16b及陰極16c上外加規(guī)定的放電電壓而生成等離子體電弧,具體如圖2所示,交流電源24用整流器26進(jìn)行全波整流,用平滑電抗線圏28a及平滑電容器28b構(gòu)成的直流濾波器28進(jìn)行平滑加以直流化后,釆用用IGBT、晶體管等轉(zhuǎn)換元件使其高頻轉(zhuǎn)換的變流器30,將該直流變換成高頻交流,將該高頻交流用變壓器32變壓至規(guī)定的電壓后,再用整流器34進(jìn)行整流,用由平滑電抗器36a及平滑電容器36b構(gòu)成的直流濾波器36進(jìn)行平滑,供給直流,該所謂轉(zhuǎn)換方式的直流電源裝置是優(yōu)選的。工作氣體送給單元20(參見(jiàn)圖1),將作為工作氣體G使用的氮?dú)馑徒o到陽(yáng)極16b的等離子體發(fā)生室16d內(nèi),具有貯藏工作氣體G的貯藏罐20a和將該貯藏罐20a與設(shè)置在陽(yáng)極16b的工作氣體送給口16f連通的工作氣體送給配管20b。在本實(shí)施例的等離子體分解機(jī)12中,在工作氣體送給配管20b上安裝了質(zhì)量流量控制裝置38。該質(zhì)量流量控制裝置38,控制通過(guò)工作氣體送給配管2Ob送給到等離子體發(fā)生室16d內(nèi)的工作氣體G的量。具體如圖3所示,具有測(cè)定流過(guò)傳感器管路(未圖示)內(nèi)的工作氣體G的質(zhì)量流量,將其測(cè)定值作為流量信號(hào)輸出的流量傳感器40;由控制工作氣體送給配管20b內(nèi)工作氣體G的流通量的電磁閥構(gòu)成的控制閥42;將流量傳感器40的流量信號(hào)與后述的溫度檢測(cè)裝置58輸出的流量設(shè)定信號(hào)Ll進(jìn)行比較,對(duì)控制閥42輸出控制電流以使兩者達(dá)到相等的比較控制電路44。反應(yīng)器22,具有由具備外管46及內(nèi)管48的雙重管構(gòu)成的主體22a(參見(jiàn)圖4)。構(gòu)成該主體22a的外管46及內(nèi)管48,是由SUS304、乂、久^口4(注冊(cè)商標(biāo))等具有耐腐蝕性的金屬材料形成的直管型構(gòu)件,通過(guò)將它們的長(zhǎng)度方向兩端部互相連接,在外管46及內(nèi)管48之間形成規(guī)定的空間S。再者,構(gòu)成主體22a的材料,當(dāng)考慮內(nèi)管48的內(nèi)面與空間S之間的熱傳導(dǎo)性時(shí),如上所述金屬材料是適合的,例如,當(dāng)處理對(duì)象氣體F的腐蝕性極強(qiáng)、對(duì)耐腐蝕性的金屬材料也腐蝕時(shí),主體22a可由可澆鑄的材料(castable)、陶瓷等材料構(gòu)成。即,構(gòu)成主體22a的材料并不限于金屬材料。另外,在外管46的下部(即離等離子體焰炬16最遠(yuǎn)的端部),貫穿設(shè)置處理對(duì)象氣體導(dǎo)入口50,其用于將從半導(dǎo)體制造裝置等排出的處理對(duì)象氣體F導(dǎo)入空間S,在內(nèi)管48的上部(即離等離子體焰炬16最近的端部),貫穿設(shè)置多個(gè)處理對(duì)象氣體送給口52(參見(jiàn)圖5),其用來(lái)將導(dǎo)入空間S內(nèi)的處理對(duì)象氣體F向大氣壓等離子體P以螺旋狀吹入。因此,處理對(duì)象氣體F,在外管46及內(nèi)管48之間的空間S從下向上(即從大氣壓等離子體P的下游側(cè)向上游側(cè))通過(guò)后,送給到大氣壓等離子體P。然后,在主體22a上,在與向內(nèi)部噴出的大氣壓等離子體P的下游側(cè)前端對(duì)應(yīng)的位置上設(shè)置臺(tái)階部54,通過(guò)臺(tái)階部54使與上側(cè)的大氣壓等離子體P對(duì)面部分L中的外管46及內(nèi)管48的直徑擴(kuò)大,同時(shí)在該擴(kuò)徑部分L中的內(nèi)管48的內(nèi)面,可更換地嵌插有由可澆鑄的材料構(gòu)成、具有與擴(kuò)徑部分L中的內(nèi)管48的內(nèi)徑大致相等的外徑的圓筒狀耐火壁56。該反應(yīng)器22,上端連接在等離子體焰炬16的大氣壓等離子體P噴出側(cè),下端設(shè)置的開(kāi)口22b成為了包含在反應(yīng)器22內(nèi)被分解處理的處理對(duì)象氣體F與工作氣體G的排氣R的排出端。另外,在圍繞大氣壓等離子體P及處理對(duì)象氣體F的該反應(yīng)器22中,其內(nèi)部空間形成被高溫的大氣壓等離子體P加熱的高溫區(qū)域。而且,在本實(shí)施例中,在該反應(yīng)器22中安裝了檢測(cè)反應(yīng)器22內(nèi)溫度的溫度檢測(cè)裝置58。溫度檢測(cè)裝置58,如圖l所示,由以下部件構(gòu)成連通反應(yīng)器22的內(nèi)表面?zhèn)扰c外表面?zhèn)榷惭b的,檢測(cè)反應(yīng)器22的內(nèi)面與大氣壓等離子體P的間隙(即上述高溫區(qū)域)溫度的1個(gè)或多個(gè)熱電偶58a;對(duì)熱電偶58a及質(zhì)量流量控制裝置38加以電連接,向質(zhì)量流量控制裝置38輸出規(guī)定的信號(hào)(本實(shí)施例中為"流量設(shè)定信號(hào)L1")以使從熱電偶58a輸入的溫度檢測(cè)信號(hào)L2與預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度一致的控制器58b。分解助劑送給單元23,如圖4所示,是用于將水分、氬及氨等處理對(duì)象氣體F的分解助劑A送給反應(yīng)器22的單元,由以下部件構(gòu)成安裝在外管46的內(nèi)面并向空間S開(kāi)口的、由SUS304等金屬形成的噴嘴60;向噴嘴60導(dǎo)入分解助劑A的配管62;安裝在配管62上的流量計(jì)64;安裝在噴嘴60與流量計(jì)64之間的配管上的流量調(diào)節(jié)閥66及停止閥68。由此,將分解助劑A導(dǎo)入配管62,使停止閥68全開(kāi)后,邊觀察流量計(jì)64邊操作流量調(diào)節(jié)閥66,從而能夠?qū)⒁?guī)定流量的分解助劑A送給到空間S。冷卻部14,如圖l所示,接受從反應(yīng)器22的開(kāi)口22b排出的高溫的排氣R,奪取排氣R具有的熱,將排氣R冷卻到至少不生成氮氧化物的溫度,在本實(shí)施例中,大體上由排氣導(dǎo)入導(dǎo)管70、熱交換器72與排氣排出導(dǎo)管74構(gòu)成。排氣導(dǎo)入導(dǎo)管70,是一端與反應(yīng)器22的開(kāi)口22b連接,另一端與熱交換器72連接的導(dǎo)管,內(nèi)面由耐火材料76作襯里。當(dāng)然,耐火材料76也可以是耐火材料與隔熱材料的層合材料。另外,耐火材料等的材質(zhì),根據(jù)排氣R的性質(zhì)來(lái)選擇耐熱性、耐磨耗性?xún)?yōu)異的材質(zhì)。熱交換器72,如圖6所示,具有近似長(zhǎng)方體狀的箱77;為使設(shè)置在箱77具有的l個(gè)面(圖6中的左側(cè)面)上的多個(gè)開(kāi)口O與對(duì)著該面的另一面(圖6中的右側(cè)面)上設(shè)置的開(kāi)口O連通而在箱77的內(nèi)部安裝的多個(gè)傳熱管78;在與傳熱管78正交的方向上將箱77的內(nèi)側(cè)分隔的多個(gè)板80;在箱77(本實(shí)施例中為圖6中的上面)上設(shè)置的、與用于將冷卻水C導(dǎo)入箱77內(nèi)部的冷卻水入口孔82連接的冷卻水導(dǎo)入管84;與用于將冷卻水C從箱77內(nèi)部排出的冷卻水出口孔86連接的冷卻水排出管88。另外,多塊板80,如圖6所示,以一端與箱77內(nèi)部的上面連接,另一端從箱77內(nèi)部的下面分離的狀態(tài)安裝,以及以一端與箱77內(nèi)部的上面分離,另一端與箱77內(nèi)部的下面連接的狀態(tài)安裝,這樣地交替配置。再者,在本實(shí)施例中,考慮到耐腐蝕性,傳熱管78使用〃久f口4(注冊(cè)商標(biāo)),但只要是具有適應(yīng)于排氣R性質(zhì)的耐腐蝕性及耐熱性的材質(zhì),也可以使用其他材質(zhì)。另外,熱交換器72的能力,只要將規(guī)定的排氣R冷卻至比作為氮氧化物生成溫度下限的約500'C低的溫度即可。此時(shí),優(yōu)選用盡量短的時(shí)間冷卻排氣R的溫度(即急冷)。排氣排出導(dǎo)管74,如圖1所示,是一端與熱交換器72連接,另一端與未圖示的另一排氣處理裝置等連接的導(dǎo)管。再者,在本實(shí)施例中,排氣排出導(dǎo)管74的內(nèi)面用耐火材料90作為襯里,耐火材料等的材質(zhì),可根據(jù)從熱交換器72排出的排氣R的溫度設(shè)定、排氣R的性質(zhì),選擇耐熱性、耐磨耗性?xún)?yōu)異的材質(zhì)。另外,當(dāng)排氣R的溫度充分低時(shí),也可以省略耐火材料90作為襯里。因此,冷卻部14,在氧或水分不接觸從等離子體分解機(jī)12排出的排氣R的情況下,能夠?qū)⑴艢釸冷卻至不生成氮氧化物的溫度。(應(yīng)予說(shuō)明,上述"氧或水分",不包括在將處理對(duì)象氣體F供給到等離子體分解機(jī)12前處理對(duì)象氣體F本身含有的氧或水分、或?qū)⑻幚韺?duì)象氣體F給予大氣壓等離子體P前對(duì)處理對(duì)象氣體F添加的氧或水分。例如,從噴嘴60添加至處理對(duì)象氣體F的水分不包括在上述"氧或水分"中)。其次,采用本實(shí)施例涉及的氣體處理裝置IO對(duì)處理對(duì)象氣體F除害時(shí),首先,打開(kāi)未圖示的等離子體分解機(jī)12的電源,使溫度檢測(cè)裝置58工作,將溫度檢測(cè)裝置58的控制器58b的設(shè)定溫度設(shè)定在處理對(duì)象氣體F容易熱分解的規(guī)定溫度,同時(shí)使質(zhì)量流量控制裝置38工作,將工作氣體G送給到等離子體發(fā)生室16d內(nèi)。另外,向熱交換器72開(kāi)始供給冷卻水C。接著,使電源單元18工作,同時(shí)打開(kāi)等離子體分解機(jī)12的大氣壓等離子體點(diǎn)火開(kāi)關(guān)(未圖示),在等離子體焰炬16的電極16b、16c之間外加電壓,從等離子體噴出孔16e噴出大氣壓等離子體P。其中,如大氣壓等離子體P剛噴出后那樣,當(dāng)用熱電偶58a測(cè)定的反應(yīng)器22內(nèi)的溫度低于設(shè)定溫度時(shí),從溫度檢測(cè)裝置58的控制器58b對(duì)質(zhì)量流量控制裝置38的比較控制電路44給予使工作氣體G的送給量增加的規(guī)定的流量設(shè)定信號(hào)Ll。于是,在比較控制電路44中將該流量設(shè)定信號(hào)Ll與流量傳感器40的流量信號(hào)進(jìn)行比較,從該比較控制電路44對(duì)控制閥42給予規(guī)定的控制電流以使兩者相等(具體地說(shuō),如增加工作氣體G的送給量那樣)。其結(jié)果,打開(kāi)控制閥42,向等離子體發(fā)生室16d內(nèi)增加工作氣體G的送給量,大氣壓等離子體P的輸出上升,反應(yīng)器22內(nèi)急速升溫。接著,當(dāng)溫度檢測(cè)裝置58檢測(cè)的反應(yīng)器22內(nèi)的溫度達(dá)到規(guī)定的設(shè)定溫度時(shí),圍繞大氣壓等離子體P以螺旋狀供給處理對(duì)象氣體F。另外,同時(shí)將分解助劑A從噴嘴60供給到空間S,開(kāi)始處理對(duì)象氣體F的分解。含有在內(nèi)管48的內(nèi)側(cè)分解的處理對(duì)象氣體F與工作氣體G的排氣R,從反應(yīng)器22的開(kāi)口22b排出后,流過(guò)冷卻部14的排氣導(dǎo)入導(dǎo)管70,從熱交換器72的側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口O導(dǎo)入傳熱管78的內(nèi)部。然后,排氣R通過(guò)傳熱管78的內(nèi)部時(shí),排氣R具有的熱通過(guò)傳熱管78而給予冷卻水C。此時(shí),從冷卻水入口孔82導(dǎo)入的冷卻水C,在被板80分隔的箱77的內(nèi)部蛇行,流過(guò)后從冷卻水出口孔86排出。因此,采用本實(shí)施例的熱交換器72,冷卻水C與傳熱管78的接觸機(jī)會(huì)增大,因此能高效地冷卻排氣R。如上所述,排氣R被冷卻到至少不生成氮氧化物的溫度后,從熱交換器72排出,通過(guò)排氣排出導(dǎo)管74,被給予未圖示的另一排氣處理裝置等。因此,含有從等離子體分解機(jī)12排出的處理對(duì)象氣體F及工作氣體G的高溫排氣R,從等離子體分解機(jī)12排出后,在不與氧及水分接觸的情況下,在冷卻部14中被冷卻至不生成氮氧化物的溫度。因此,不存在溫度高的氮與氧結(jié)合的機(jī)會(huì),在沒(méi)有副產(chǎn)氮氧化物的情況下能夠?qū)⑻幚韺?duì)象氣體F熱分解。另外,按照本實(shí)施例,反應(yīng)器22由雙重管構(gòu)成,同時(shí)在外管46的下部設(shè)置處理對(duì)象氣體導(dǎo)入口50,在內(nèi)管48的上部設(shè)置處理對(duì)象氣體送給口52,故處理對(duì)象氣體F在外管46與內(nèi)管48之間的空間S從下向上流過(guò)后,送給到大氣壓等離子體P。此時(shí),反應(yīng)器22內(nèi)部的熱介由內(nèi)管48被給予流過(guò)空間S的處理對(duì)象氣體F,將送給大氣壓等離子體P的處理對(duì)象氣體F預(yù)熱。具體地說(shuō),使反應(yīng)器22內(nèi)的設(shè)定溫度為IIO(TC~1300'C范圍的規(guī)定溫度時(shí),能夠使通過(guò)空間S從處理對(duì)象氣體送給口52向大氣壓等離子體P送給的處理對(duì)象氣體F的溫度升溫至約800-IOOO'C左右。再者,處理對(duì)象氣體導(dǎo)入口50與處理對(duì)象氣體送給口52的位置關(guān)系,只要能使處理對(duì)象氣體F流過(guò)空間S而充分預(yù)熱,并不限于本實(shí)施例的方案,其他方案也可。另外,在反應(yīng)器22內(nèi)面的與大氣壓等離子體P對(duì)面的位置設(shè)置由可澆鑄的材料構(gòu)成的耐火壁56,因此能夠防止大氣壓等離子體P引起的反應(yīng)器22的熱老化,提高反應(yīng)器22的耐久性,同時(shí)在反應(yīng)器22的耐火壁56的下游側(cè),高溫的排氣R與低溫的處理對(duì)象氣體F之間能夠充分地?zé)峤粨Q。另外,通過(guò)在反應(yīng)器22設(shè)置臺(tái)階部54,能夠使通過(guò)外管46與內(nèi)管48之間的空間S的處理對(duì)象氣體F的流動(dòng)產(chǎn)生湍流,在空間S的滯留時(shí)間延長(zhǎng),因此能夠更有效地對(duì)送給大氣壓等離子體P的處理對(duì)象氣體F進(jìn)行預(yù)熱。另外,由于安裝了可更換的耐火壁56,即使因大氣壓等離子體P的熱而使耐火壁56發(fā)生熱老化,可以只將該部分更換,能夠縮短維修保養(yǎng)時(shí)的停止時(shí)間,提高氣體處理裝置10的工作效率。另外,由于高溫的排氣R與低溫的處理對(duì)象氣體F之間進(jìn)行熱交換,故能夠使送給大氣壓等離子體P的處理對(duì)象氣體F的預(yù)熱與排氣R的冷卻同時(shí)進(jìn)行。因此,也可以降低后段的冷卻部14承擔(dān)的排氣R的冷卻負(fù)擔(dān)。另外,將如上所述預(yù)熱的處理對(duì)象氣體F從處理對(duì)象氣體送給口52導(dǎo)入至內(nèi)管48的內(nèi)側(cè)前,將從噴嘴60供給的分解助劑A添加到處理對(duì)象氣體F中。即,當(dāng)添加水分作為分解助劑A時(shí),產(chǎn)生如下的反應(yīng)。CF4+2H20—C02+4HF[化2]SF6+3H20—S03+6HF其中,向外管46與內(nèi)管48之間的空間S、或處理對(duì)象氣體送給口52供給作為分解助劑A的水分,因此在處理對(duì)象氣體F與高溫的工作氣體G混合前能夠?qū)⑺只旌系教幚韺?duì)象氣體F中。借此,能夠使水分引起的處理對(duì)象氣體F的分解反應(yīng)在處理對(duì)象氣體F與工作氣體G混合前開(kāi)始,能夠在抑制氮氧化物的副產(chǎn)的同時(shí)提高處理對(duì)象氣體F的分解效率。即,處理對(duì)象氣體F,通過(guò)在外管46與內(nèi)管48之間的空間S流過(guò),接受反應(yīng)器22內(nèi)部的熱而被預(yù)熱。當(dāng)對(duì)該預(yù)熱過(guò)的處理對(duì)象氣體F添加作為分解助劑A的水分時(shí),[化l]、[化2]所示的分解反應(yīng)幾乎與添加水分同時(shí)產(chǎn)生。因此,處理對(duì)象氣體F與工作氣體G混合時(shí),水分中含有的氧已經(jīng)與處理對(duì)象氣體F中含有的碳、硫反應(yīng)而變成化學(xué)上穩(wěn)定的C02、S03,能夠抑制工作氣體G中含有的高溫的氮與氧反應(yīng)而生成氮氧化物。另一方面,當(dāng)供給氫及氨作為分解助劑A時(shí),產(chǎn)生如下的反應(yīng)。CF4+4H2—CH4+4HF[化4]SF6+4H2—H2S+6HF[化5〗3CF4+8NH3—3CH4+4N2+12HF[化6]3SF6+8NH3—3H2S+4N2+18HF即,當(dāng)對(duì)預(yù)熱過(guò)的處理對(duì)象氣體F添加作為分解助劑A的氫或氨時(shí),與沒(méi)有預(yù)熱處理對(duì)象氣體F時(shí)相比,[化3]~[化6]所示的分解反應(yīng)容易發(fā)生。另外,即使添加氫或氨,成為氮氧化物產(chǎn)生原因的氧也不會(huì)導(dǎo)入反應(yīng)器,不用擔(dān)心助長(zhǎng)氮氧化物的副產(chǎn),能夠提高處理對(duì)象氣體F的分解效率。另外,在本實(shí)施例中,噴嘴60由SUS304等金屬形成。借此,在使用水作為分解助劑A時(shí)送給噴嘴60的水,在噴嘴60內(nèi)部流過(guò)時(shí)從在噴嘴60外側(cè)流過(guò)的預(yù)熱過(guò)的處理對(duì)象氣體F接受熱,從噴嘴60排出時(shí)氣化而變成水蒸汽。因此,不必設(shè)置用于使作為分解助劑A的水氣化的特別的裝置。另外,例如,在處理0.5L/min的CF4時(shí)應(yīng)添加的水量為0.8g/min(水蒸汽則為1L/min)左右,水的氣化所需的熱量與預(yù)熱到800~1000。C左右的處理對(duì)象氣體F具有的熱量相比是微量的,因此即使在水的氣化中采用處理對(duì)象氣體F具有的熱也無(wú)問(wèn)題。另外,即使僅預(yù)熱處理對(duì)象氣體F,低溫分解性的處理對(duì)象氣體F也被分解,所以能夠?qū)θ鸁N這樣的難分解性的處理對(duì)象氣體F高效地給予熱能。因此,即使將大氣壓等離子體P的輸出降低而將反應(yīng)器22內(nèi)的溫度設(shè)定在IIOO'C~1300'C的范圍時(shí),也能夠使難分解性的處理對(duì)象氣體F充分分解,同時(shí)也可以處理大流量的處理對(duì)象氣體F。另外,通過(guò)如上所述降低大氣壓等離子體P的輸出,能夠延遲等離子體焰炬16、反應(yīng)器22的熱老化引起的損傷。另外,本實(shí)施例的等離子體分解機(jī)12中,在檢測(cè)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度的同時(shí),根據(jù)該溫度檢測(cè)值使送給等離子體焰炬16的工作氣體G的量增減,控制大氣壓等離子體P的輸出以使反應(yīng)器22內(nèi)的溫度達(dá)到規(guī)定值。即,當(dāng)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度比規(guī)定值高時(shí),減少工作氣體G的送給量,使大氣壓等離子體P的輸出降低,反之,當(dāng)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度比規(guī)定值低時(shí),增加工作氣體G的送給量,使大氣壓等離子體P的輸出上升。因此,當(dāng)使反應(yīng)器22內(nèi)的溫度如上所述達(dá)到能夠使難分解性的全氟烴容易熱分解的規(guī)定溫度(約1300t:以上并且不損壞反應(yīng)器22的溫度)進(jìn)行設(shè)定時(shí),根據(jù)溫度檢測(cè)裝置58檢測(cè)的反應(yīng)器22內(nèi)的溫度,質(zhì)量流量控制裝置38工作,增減工作氣體G的送給量,調(diào)節(jié)大氣壓等離子體P的輸出。其結(jié)果,將反應(yīng)器22內(nèi)的溫度長(zhǎng)時(shí)間保持在設(shè)定溫度,能夠確實(shí)地對(duì)含難分解性的全氟烴的各種PFCs等在反應(yīng)器22內(nèi)除害。另外,由于沒(méi)有將等離子體焰炬16、反應(yīng)器22恒定地暴露在大氣壓等離子體P的輸出達(dá)到極大時(shí)產(chǎn)生的超高溫的熱中,故能夠極力延遲這些構(gòu)件因超高溫的熱而受損傷。再者,在上述實(shí)施例中,記載了冷卻部14中使用熱交換器72的例子,但只要冷卻部14在排氣R中不混入氧或水分的狀態(tài)下,能夠?qū)⑴艢釸冷卻到至少不生成氮氧化物的溫度,也可以釆用例如使排氣R通過(guò)長(zhǎng)的導(dǎo)管內(nèi)側(cè),對(duì)該導(dǎo)管的外側(cè)進(jìn)行水冷的其他方法。另外,冷卻部14中的低溫側(cè)介質(zhì),可以如上述實(shí)施例那樣使用水(水冷),也可以使用氣體(空冷)、油(油冷)。另外,在上述實(shí)施例中,示出了在反應(yīng)器22的規(guī)定位置設(shè)置臺(tái)階部54,在臺(tái)階部54的上方設(shè)置耐火壁56的情況,可以不設(shè)置該臺(tái)階部54而使反應(yīng)器22的主體22a成為直管,僅在其全部?jī)?nèi)周面或上方側(cè)設(shè)置耐火壁56。但是,當(dāng)在反應(yīng)器22的全部?jī)?nèi)周面設(shè)置耐火壁56時(shí),通過(guò)空間S的處理對(duì)象氣體F的預(yù)熱效果降低。另外,在上述實(shí)施例中,作為反應(yīng)器22,示出了由雙重管構(gòu)成的情況,但也可以使反應(yīng)器22為三重管以上的多重管(未圖示),在介由管壁在徑向互相鄰接的密閉空間中流動(dòng)的處理對(duì)象氣體F彼此對(duì)流,并且噴出至反應(yīng)器22內(nèi)的大氣壓等離子體P的噴出方向與最接近反應(yīng)器22內(nèi)部的密閉空間中流動(dòng)的處理對(duì)象氣體F的流動(dòng)方向?qū)α?。即,只要使最接近反?yīng)器22的內(nèi)部的雙重管部分中大氣壓等離子體P的噴出方向與該雙重管部分的密閉空間中流動(dòng)的處理對(duì)象氣體F的流通方向?qū)α鳎鬟^(guò)其外側(cè)的處理對(duì)象氣體F的流路不限。再者,如果如上所述采用三重管以上的多重管,能夠更有效地將通過(guò)反應(yīng)器22的管壁向外部擴(kuò)散的熱利用于處理對(duì)象氣體F的預(yù)熱。另外,在上述實(shí)施例中,如圖1所示,示出了將等離子體焰炬16與反應(yīng)器22上下配置,在垂直方向噴出大氣壓等離子體P的情況,但也可以將等離子體焰炬16與反應(yīng)器22配置在水平方向,同時(shí)使大氣壓等離子體P在水平方向噴出。另外,在上述實(shí)施例中,作為大氣壓等離子體P的發(fā)生裝置,使用利用直流電弧放電的裝置,但只要是能發(fā)生大氣壓等離子體P的裝置,并不限于此,可以采用微波等離子體等熱等離子體。另外,在采用大氣壓等離子體P分解時(shí),通過(guò)預(yù)先調(diào)節(jié)處理對(duì)象氣體F以使形成還原氣氛,由于氧與氮的反應(yīng)被抑制,故可進(jìn)一步抑制氮氧化物的產(chǎn)生。另外,當(dāng)處理對(duì)象氣體F中不含與水反應(yīng)的氣體時(shí),從噴嘴60添加的水直接與工作氣體G接觸,可成為氮氧化物的產(chǎn)生原因。因此,可以進(jìn)行如下控制檢測(cè)處理對(duì)象氣體F中是否含有與水反應(yīng)的氣體而當(dāng)不含該氣體時(shí),關(guān)閉停止閥68從而停止添加水,當(dāng)含該氣體時(shí),打開(kāi)停止閥68,進(jìn)行水的添加。另外,作為給予質(zhì)量流量控制裝置38的比較控制電路44的流量設(shè)定信號(hào)Ll,可代替溫度檢測(cè)裝置58輸出的可變信號(hào)而給予使工作氣體G的送給量恒定的規(guī)定信號(hào),同時(shí)如圖7所示,可新設(shè)置控制電源單元18輸出的電力的電力控制裝置92,將溫度檢測(cè)裝置58輸出的信號(hào)作為電流切換信號(hào)給予該電力控制裝置92。電力控制裝置92,用于使電源單元18輸出的電力可變,具有電流檢測(cè)器94及電流設(shè)定裝置96。電流檢測(cè)器94由變流器(CT)等構(gòu)成,檢測(cè)電源單元18輸出的電流,輸出與該檢測(cè)電流值對(duì)應(yīng)的規(guī)定電壓。電流設(shè)定裝置96,如圖8所示,由可變式的標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出裝置98(在本實(shí)施例中為電位器)及比較放大器100構(gòu)成,將電流檢測(cè)器94輸出的電壓與標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出裝置98輸出的標(biāo)準(zhǔn)電壓用比較放大器100進(jìn)行比較、放大,向電源單元18的變流器30輸出規(guī)定的電流設(shè)定信號(hào),借此,對(duì)變流器30進(jìn)行可變操作。其中,標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出裝置98通過(guò)配線,被從溫度檢測(cè)裝置58給出的電流切換信號(hào)自動(dòng)切換。另外,當(dāng)使用電位器作為標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出裝置98時(shí),電流設(shè)定裝置96產(chǎn)生的變流器30的可變操作成為機(jī)械控制,但作為標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出裝置98,可以使用基于從溫度檢測(cè)裝置58給出的電流切換信號(hào)而輸出規(guī)定的模擬電壓的D/A組件(未圖示),使電流設(shè)定裝置96產(chǎn)生的變流器30的可變操作成為線性的連續(xù)控制。另外,可以設(shè)置檢測(cè)反應(yīng)器22內(nèi)的溫度的溫度檢測(cè)裝置58,在工作氣體送給單元20中設(shè)置質(zhì)量流量控制裝置38,其基于溫度檢測(cè)裝置58檢測(cè)的溫度檢測(cè)值控制送給等離子體發(fā)生室16d內(nèi)的工作氣體G的量,同時(shí)在電源單元18中安裝電力控制裝置92,其基于溫度檢測(cè)裝置58檢測(cè)的溫度檢測(cè)值控制供給等離子體焰炬16的電極16b、16c的電力量。另外,由于本裝置是用于分解氟化化合物等氣體,冷卻分解后的排氣并排出的裝置,故必須對(duì)排出氣體除害。由于被排出的氣體主要是HF、C02、S03、N2等,故主要的有害氣體HF、S03可采用酸性氣體的吸附劑、水滌氣器等吸收去除。在本發(fā)明涉及的氣體處理裝置的后段即使采用濕式滌氣器,從本發(fā)明所涉及的氣體處理裝置10排出的排氣R的溫度也充分降低,由于氮的活性下降,故不產(chǎn)生氮氧化物。因此,在本發(fā)明所涉及的氣體處理裝置的后段用于進(jìn)行這種吸收除害的裝置種類(lèi)未作限制。再者,作為上述濕式滌氣器中使用的水,適宜使用從上述實(shí)施例的熱交換器72中排出的溫度高的冷卻水C。這是因?yàn)闇囟雀叩乃姆肿舆\(yùn)動(dòng)活躍,通過(guò)將該水噴霧至排氣R中,能夠提高排氣R的洗滌效率。另外,本裝置除氟化化合物以外,只要是能夠熱分解的氣體,任何氣體的處理中均可以采用。[實(shí)施例]釆用本實(shí)施例所涉及的氣體處理裝置10進(jìn)行了處理對(duì)象氣體F的熱分解。作為氣體處理裝置10的運(yùn)轉(zhuǎn)條件,將溫度檢測(cè)裝置58的控制器58b的溫度設(shè)定值定在1200X:。另外,等離子體的直流電壓為100V左右,使直流電流為60A恒定。其結(jié)果,作為工作氣體G的氮?dú)獾牧髁?,達(dá)到約20L(升)/min左右。另外,流向熱交換器72的冷卻水C以10L/min流過(guò)20X:的冷卻水,連續(xù)冷卻。因此,從熱交換器72排出的排氣R的溫度為50°C。在上述條件下,為了處理在80L/min的氮中含100cc/min的CF4的處理對(duì)象氣體F,采用下列4種方法進(jìn)行分解處理。首先,不添加分解助劑A進(jìn)行處理對(duì)象氣體F的處理。此時(shí),CF4的分解率為90%,熱交換器72的出口的氮氧化物濃度為NO、冊(cè)2均小于檢測(cè)極限lppm。其次,將作為分解助劑A的氫氣3L/min從噴嘴60添加至處理對(duì)象氣體F中。氫氣的流量用流量計(jì)64確認(rèn),同時(shí)進(jìn)行流量調(diào)節(jié)閥66的操作。此時(shí),CF4的分解率為99%,熱交換器72的出口的氮氧化物濃度為NO、冊(cè)2均小于檢測(cè)極限的lppm。另外,將作為分解助劑A的氨氣2L/min從噴嘴60添加至處理對(duì)象氣體F中。此時(shí)的CF4的分解率為99%,熱交換器72的出口的氮氧化物濃度為NO、N02均小于檢測(cè)極限的lppm。另外,從噴嘴60以0.2g/min供給水。此時(shí),CF4的分解率為99%,熱交換器72的出口的氮氧化物濃度為N0是20ppm,N02是lppm。釆用現(xiàn)有技術(shù)(等離子體分解機(jī)3后緊接著連接濕式滌氣器)時(shí),產(chǎn)生數(shù)千ppm的氮氧化物,采用本發(fā)明所涉及的氣體處理裝置10,能夠使氮氧化物的產(chǎn)生極少。權(quán)利要求1.氣體處理裝置,其具有圍繞大氣壓等離子體及向上述大氣壓等離子體供給的處理對(duì)象氣體,其內(nèi)部具有進(jìn)行上述處理對(duì)象氣體的熱分解的反應(yīng)器,使用氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏w的等離子體分解機(jī);和在含有從上述等離子體分解機(jī)排出的熱分解后的上述處理對(duì)象氣體和上述工作氣體的排氣中不混入氧或水分的狀態(tài)下,將上述排氣冷卻到至少不生成氮氧化物的溫度的冷卻部。2.權(quán)利要求1所述的氣體處理裝置,其特征在于,上述冷卻部具有熱交換器。3.權(quán)利要求1或2所述的氣體處理裝置,其特征在于,上述反應(yīng)器具有由外管及內(nèi)管構(gòu)成的雙重管結(jié)構(gòu),上述大氣壓等離子體在上述內(nèi)管的內(nèi)側(cè)形成,上述外管設(shè)置有處理對(duì)象氣體導(dǎo)入口,其將上述處理對(duì)象氣體導(dǎo)入上述外管及上述內(nèi)管之間的空間,上述內(nèi)管設(shè)置有處理對(duì)象氣體送給口,其將流過(guò)上述空間后的上述處理對(duì)象氣體向上述大氣壓等離子體吹入。4.權(quán)利要求3所述的氣體處理裝置,其特征在于,還具有噴嘴,該噴嘴向上述空間或上述處理對(duì)象氣體送給口至少供給水分、氫或氦的任l種。5.權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的氣體處理裝置,其特征在于,上述反應(yīng)器設(shè)置有檢測(cè)上述反應(yīng)器內(nèi)的溫度的溫度檢測(cè)裝置,上述等離子體分解機(jī)設(shè)置有質(zhì)量流量控制裝置,其根據(jù)上述溫度檢測(cè)裝置檢測(cè)的溫度檢測(cè)值來(lái)控制送給上述大氣壓等離子體的上述工作氣體的量。6.權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的氣體處理裝置,其特征在于,上述處理對(duì)象氣體為氟化化合物。7.氣體處理方法,其中向使用氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏w的大氣壓等離子體供給處理對(duì)象氣體,使上述處理對(duì)象氣體熱分解,在含熱分解過(guò)的上述處理對(duì)象氣體與上述工作氣體的排氣中不混入氧及水分的狀態(tài)下,將上述排氣冷卻至至少不生成氮氧化物的溫度。全文摘要本發(fā)明提供一種氣體處理裝置,其采用將氮用作工作氣體的大氣壓等離子體,能夠熱分解處理對(duì)象氣體而不副產(chǎn)氮氧化物。對(duì)于圍繞大氣壓等離子體P及向大氣壓等離子體P供給的處理對(duì)象氣體F、其內(nèi)部具有進(jìn)行處理對(duì)象氣體F的熱分解的反應(yīng)器22、使用氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏wG的等離子體分解機(jī)12,設(shè)置在含有從等離子體分解機(jī)12排出的熱分解后的處理對(duì)象氣體F與工作氣體G的排氣R中不混入氧和水分的狀態(tài)下,將排氣R冷卻到至少不生成氮氧化物的溫度的冷卻部14,從而制成解決了上述課題的氣體處理裝置10。文檔編號(hào)B01J19/08GK101224406SQ200710100810公開(kāi)日2008年7月23日申請(qǐng)日期2007年4月18日優(yōu)先權(quán)日2007年1月15日發(fā)明者今村啟志,加藤利明,后藤清一申請(qǐng)人:康肯科技股份有限公司
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