專利名稱：石膏漿液旋流站的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種脫硫系統(tǒng)裝置，尤其是涉及一種脫硫系統(tǒng)的石膏漿液^:流站。
技術(shù)背景中國(guó)是一個(gè)以煤炭為主要能源的國(guó)家，煤在一次能源中占75%, 約相當(dāng)于年耗煤超過(guò)l. 3億噸。其中84%以上是通過(guò)燃燒方法利用的， 煤燃燒所釋放出來(lái)的二氧化碌u—直是大氣污染最主要的根源，是地球 上酸雨的罪魁禍?zhǔn)?。隨著國(guó)內(nèi)社會(huì)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，科技的進(jìn)步，人民生 活水平的日益改善，社會(huì)對(duì)環(huán)境的重視達(dá)到了空前的高度，解決二氧 化硫帶來(lái)的環(huán)境污染問(wèn)題是刻不容緩的，在國(guó)家能源環(huán)保政策的鼓勵(lì) 下，我國(guó)電廠將逐漸擺脫了僅有汽機(jī)島和鍋爐島而無(wú)脫硫島的歷史。 煙氣脫硫島成為了電廠建設(shè)的不可或缺的組成部分，這就對(duì)我國(guó)電力 事業(yè)的發(fā)展包括設(shè)計(jì)，運(yùn)行和維護(hù)等提出了新的要求。石膏漿液旋流站是石灰石—石膏濕法脫辟u工程的石膏漿液一級(jí) 脫水設(shè)備，石灰石-石膏濕法煙氣脫硫工藝中，石灰石漿液在吸收塔 內(nèi)對(duì)煙氣進(jìn)行逆流洗滌，煙氣中的二氧化石克與之反應(yīng)，生成CaS03 '21120 并以小顆粒狀轉(zhuǎn)移到漿液中，利用空氣將其強(qiáng)制氧化生成CaS04 .2H20 結(jié)晶。用石膏排出泵將漿液抽出，送往石膏旋流器，進(jìn)行濃縮及顆粒 分級(jí)，稀的溢流返回吸收塔，濃縮的底流送往真空脫水皮帶機(jī)進(jìn)行石 膏脫水。石膏漿液旋流站只有一個(gè)底流出口 ，由于石灰石-石膏濕法脫硫 工程一般設(shè)有兩臺(tái)石膏漿液旋流站和兩套石膏真空皮帶脫水機(jī)系統(tǒng)， 為了保證系統(tǒng)運(yùn)行的可靠性，每臺(tái)石膏漿液旋流站的底流漿液需要能 自流到兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)。為了實(shí)現(xiàn)每臺(tái)石膏漿液旋流站的底 流漿液能自流到兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)，必須在底流出口上連接分支管道并加裝隔離閥以便于切換，而加裝的分支管道為"人字形"或 者"丁字形"，石膏漿液固體濃度較高，容易造成分支管道堵塞。一 旦管道堵塞將嚴(yán)重影響脫硫系統(tǒng)的正常運(yùn)行。因此有必要i殳計(jì)一個(gè)石膏漿液S走流站，解決石膏漿液S走流站底流 漿液和兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)之間切換時(shí)容易造成分支管道堵塞 的問(wèn)題。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型是針對(duì)上述問(wèn)題提出的，目的是實(shí)現(xiàn)在石膏漿液旋流 站底流漿液和兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)之間切換時(shí)避免管道堵塞，為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的一種石膏漿液旋流站，包括進(jìn)并牛箱、溢流箱、底流箱、旋流子， 進(jìn)料箱上開(kāi)有進(jìn)料口 ，溢流箱上開(kāi)有溢流口 ，底流箱上開(kāi)有底流出口 ， 進(jìn)料箱連接旋流子的進(jìn)料部，底流箱連接旋流子的第一出料口，溢流 箱連接旋流子的第二出料口 ，所述底流箱上設(shè)置有兩個(gè)底流出口 。 優(yōu)選地每個(gè)所述底流出口上都連接有隔離閥。 優(yōu)選地每個(gè)所述底流出口上都通過(guò)隔離閥連接有管道。 優(yōu)選地所述兩個(gè)底流出口在所述底流箱的側(cè)面。 優(yōu)選地所述兩個(gè)底流出口在所述底流箱的底面。 優(yōu)選地所述兩個(gè)底流出口分別i殳置在底流箱的底面和側(cè)面。 由于本實(shí)用新型的石膏漿液旋流站在底流箱上安裝有兩個(gè)底流出口 ，使得石膏漿液旋流站底流漿液在兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)之間 切換時(shí)不必加裝分支管道，解決了 "人字形，，或者"丁字形"等分支 管道在漿液固體濃度較高時(shí)易堵塞的問(wèn)題，保證了脫硫系統(tǒng)安全、穩(wěn) 定的運(yùn)行。


下面，將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方案做進(jìn)一步詳細(xì)的 說(shuō)明，其中圖1為本實(shí)用新型一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的俯視圖。其中，l-設(shè)備本體，2-第一底流出口， 3-第二底流出口。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)Dl，根據(jù)本實(shí)用新型的一種石膏漿液旋流站，包括進(jìn)料箱、 溢流箱、底流箱、；旋流子，進(jìn)料箱上開(kāi)有進(jìn)^f口，溢流箱上開(kāi)有溢流 口，底流箱上開(kāi)有底流出口，進(jìn)料箱連接旋流子的進(jìn)料部，底流箱連 接旋流子的第 一 出料口 ，溢流箱連接旋流子的第二出料口 ，所述底流 箱上設(shè)置有兩個(gè)底流出口 。當(dāng)石膏漿液從進(jìn)料口進(jìn)入石膏漿液旋流站，通過(guò)進(jìn)料箱分流到單 個(gè)的旋流子，旋流子利用離心力加速沉淀。離心力使?jié){液流在旋流子 進(jìn)口切向上分離，使?jié){液分離為粗顆粒和細(xì)顆粒，粗顆粒被拋向旋流 子的環(huán)狀面下降通過(guò)管道流進(jìn)底流箱進(jìn)而通過(guò)底流口到達(dá)二級(jí)脫水 系統(tǒng)真空皮帶過(guò)濾機(jī)，細(xì)顆粒留在中心上升通過(guò)管道溢流到溢流箱， 通過(guò)溢流口大部分進(jìn)入濾液水箱，小部分轉(zhuǎn)送到廢水:旋流站。由于石灰石-石膏濕法脫硫工程一般設(shè)有兩臺(tái)石膏漿液旋流站 和兩套石膏皮帶脫7K機(jī)系統(tǒng)，為了保證系統(tǒng)運(yùn)行的可靠性，每臺(tái)石膏 漿液旋流站的底流漿液需能自流到兩臺(tái)石膏皮帶脫水機(jī)。因此本實(shí)用 新型在底流箱上設(shè)置有兩個(gè)底流出口 ，兩個(gè)底流出口可以設(shè)置在底流 箱的側(cè)面或者底面，或者分別設(shè)置在底流箱的側(cè)面和底面，優(yōu)選地兩 個(gè)底流出口分別直4妄加裝隔離閥，更加優(yōu)選地兩個(gè)底流出口通過(guò)隔離 閥加裝管道。實(shí)際操作時(shí)本實(shí)用新型的石膏漿液旋流站可以通過(guò)控制隔離閥， 一個(gè)底流出口運(yùn)行，也可以兩個(gè)底流出口同時(shí)運(yùn)行，平時(shí)系統(tǒng)中的兩 臺(tái)旋流站只開(kāi)一個(gè)底流出口，分別對(duì)應(yīng)一臺(tái)皮帶脫水機(jī)；當(dāng)系統(tǒng)中一 個(gè)石膏漿液旋流站出現(xiàn)問(wèn)題時(shí)，另一個(gè)旋流站可以通過(guò)控制隔離閥， 同時(shí)向兩個(gè)皮帶脫水才幾送底流漿液；當(dāng)一個(gè)皮帶脫水才/L出現(xiàn)問(wèn)題時(shí)， 可以控制其中與之對(duì)應(yīng)的旋流站轉(zhuǎn)換底流出口向另 一個(gè)皮帶脫水機(jī) 送底流漿液，由于^f吏用兩個(gè)底流出口， -使得在石膏漿液^走流站底流漿液在兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)之間切換時(shí)不必加裝分支管道，解決了 "人字形"或者"丁字形"等分支管道在固體濃度較高時(shí)易堵塞的問(wèn) 題，使系統(tǒng)可以安全、穩(wěn)定的運(yùn)行。雖然參照具體實(shí)施方案詳細(xì)說(shuō)明了本實(shí)用新型，^f旦需要指出的 是，這些實(shí)施方案僅僅用來(lái)更好地理解本實(shí)用新型。本領(lǐng)域的技術(shù)人 員清楚，在不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，在上述實(shí)施例 的基礎(chǔ)上做出 一些變化和修改都為本實(shí)用新型所保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求1.一種石膏漿液旋流站，其特征在于，包括進(jìn)料箱、溢流箱、底流箱、旋流子，進(jìn)料箱上開(kāi)有進(jìn)料口，溢流箱上開(kāi)有溢流口，底流箱上開(kāi)有底流出口，進(jìn)料箱連接旋流子的進(jìn)料部，底流箱連接旋流子的第一出料口，溢流箱連接旋流子的第二出料口，所述底流箱上設(shè)置有兩個(gè)底流出口。
2. 如權(quán)利要求1所述的石膏漿液旋流站，其特征在于，每個(gè)所述底 流出口上都直接連接有隔離閥。
3. 如權(quán)利要求2所述的石膏漿液旋流站，其特征在于，每個(gè)所述的 底流出口上通過(guò)隔離閥連^妻有管道。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的石膏漿液旋流站，其特征在于，所述兩 個(gè)底流出口在所述底流箱的側(cè)面。
5. 如權(quán)利要求3所述的石膏漿液旋流站，其特征在于，所述兩個(gè)底 流出口在所述底流箱的底面。
6. 如權(quán)利要求3所述的石膏漿液旋流站，其特征在于，所述兩個(gè)底 流出口分別"^殳置在底流箱的底面和側(cè)面。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種石膏漿液旋流站，包括進(jìn)料箱、溢流箱、底流箱、旋流子，進(jìn)料箱上開(kāi)有進(jìn)料口，溢流箱上開(kāi)有溢流口，底流箱上開(kāi)有底流出口，進(jìn)料箱連接旋流子的進(jìn)料部，底流箱連接旋流子的第一出料口，溢流箱連接旋流子的第二出料口，所述底流箱上設(shè)置有兩個(gè)底流出口。兩個(gè)底流出口的設(shè)置使得在石膏漿液旋流站底流漿液在兩臺(tái)石膏真空皮帶脫水機(jī)之間切換時(shí)不必加裝分支管道，避免由于石膏漿液旋流站底流漿液固體濃度較高易導(dǎo)致分支管道堵塞，保證了脫硫系統(tǒng)安全、穩(wěn)定的運(yùn)行。
文檔編號(hào)B01D53/96GK201085997SQ20072017282
公開(kāi)日2008年7月16日 申請(qǐng)日期2007年8月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月28日
發(fā)明者毅 劉, 赫向輝, 陳創(chuàng)社 申請(qǐng)人:中國(guó)神華能源股份有限公司;北京國(guó)華電力工程技術(shù)有限責(zé)任公司