專利名稱：：用于處理和/或提高物質(zhì)干燥度的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于提高物質(zhì)干燥度的電脫水方法和設(shè)備的領(lǐng)域以及用于處理物質(zhì)(例如通過凈化這種物質(zhì))的方法和設(shè)備的領(lǐng)域。這種凈^匕可以是，例如，孩i生物失活和/或石皮壞。這種物質(zhì)可以是液體承載材料，例如包含水或其它諸如有才幾溶劑的液體的材料。
背景技術(shù)：
：電脫水涉及為了提高物質(zhì)干燥度而對(duì)物質(zhì)的處理。這種方法基于電滲和壓力的共同作用。電滲現(xiàn)象基于如下事實(shí)，施加于多孔介質(zhì)中的電極的電位驅(qū)使陽離子從正極(陽極)移動(dòng)至負(fù)極(陰極)，從而通過粘性作用將水分子與其一塊拖走。這允許固體/液體分離并且，由此多孔材料(例如淤泥或土壤)脫水。電滲技術(shù)的一個(gè)主要缺點(diǎn)是發(fā)生在陽極的電位降。陽極處的電位降可由鄰近陽極的多孔材料含水量的降4氐來解釋。其也可由孔隙水導(dǎo)電性的降4氐來解釋，該孔隙由電解過程中產(chǎn)生的氣體和組成陽極的材料的分解引起。此外，電位降還可解釋為由于陽極和多孔材料之間的不適當(dāng)接觸。因此，直接施加于多孔材料的電壓梯度可能僅是施力o于電才及的電壓的一'J、部分。因此，希望可以克力l至少一個(gè)這種缺點(diǎn)或"l是供一種已有解決方法的有效的^奪^t方法。2
發(fā)明內(nèi)容根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，該設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)模塊包括適合于使物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電4及，其中一個(gè)電才及是適合于4艮l居預(yù)定方向移動(dòng)并將此移動(dòng)傳遞》合物質(zhì)的柔性電才及；另一個(gè)電才及內(nèi)包4舌至少一個(gè)獨(dú)立電極單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電才及單元時(shí)，這些電極單元4皮此隔離，該另一個(gè)電才及適合于沿基本垂直于預(yù)定方向的方向移動(dòng)物質(zhì)并適合于壓縮物質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，該設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)模塊包括適合于使物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電極，其中一個(gè)電極是靠近將沿預(yù)定方向的移動(dòng)傳遞給物質(zhì)的裝置的固定電極；另一個(gè)電才及內(nèi)包括至少一個(gè)獨(dú)立電極單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電才及單元時(shí)，這些電才及單元4皮此隔離，該另一個(gè)電極適合于沿基本垂直于預(yù)定方向的方向移動(dòng)物質(zhì)并適合于壓縮物質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，該設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)模塊包括適合于使物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電才及，其中至少一個(gè)電才及內(nèi)包4舌至少一個(gè)獨(dú)立電招_單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電極單元時(shí)，這些電極單元彼此隔離，至少一個(gè)電才及適合于壓縮物質(zhì)，并且至少一個(gè)電才及包4舌用于4足進(jìn)液體去除的真空裝置。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，該設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)模塊包括適合于使物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電才及，至少一個(gè)電才及內(nèi)包4舌至少一個(gè)獨(dú)立的電才及單元，當(dāng)不止存在一個(gè)電才及單元時(shí)，這些電極單元;f皮此隔離，至少一個(gè)電才及適合于壓縮物質(zhì)，并且至少一個(gè)電才及適合于給物質(zhì)才是供電解液和/或減少和/或防止電才及處的電壓損失。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種在用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備中使用的電極單元，該電極單元包括-適合于可解除地插入在該設(shè)備中的支撐件；-至少一個(gè)電才及；以及-用于沿預(yù)定方向移動(dòng)至少一個(gè)電才及并在物質(zhì)上施加壓力的裝置，該裝置連接至支撐件和至少一個(gè)電極。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，該i殳備包括至少兩個(gè)電才及、用于在物質(zhì)上施加壓力的裝置和用于沿預(yù)定方向?qū)⑽镔|(zhì)從入口傳送至出口的裝置，其中，在物質(zhì)上施加壓力的裝置的改進(jìn)在于，其適合于移動(dòng)至少一個(gè)電才及以在物質(zhì)上施力卩壓力，并且其中，壓力基本垂直于該預(yù)定方向施力口。本發(fā)明的設(shè)備可包括靠近一個(gè)電極設(shè)置的真空系統(tǒng)。本發(fā)明的i殳備還可適合于為〗寺處理的物質(zhì)4是供電解液。該i殳備還可具有適合于根據(jù)預(yù)定方向移動(dòng)并將移動(dòng)傳遞至物質(zhì)的一個(gè)柔性電極；以及包括至少一個(gè)獨(dú)立電極單元的另一個(gè)電極，當(dāng)存在不止一個(gè)電極單元時(shí)，這些電極單元4皮此隔離，該另一個(gè)電極適合于沿基本垂直于預(yù)定方向的方向移動(dòng)并壓縮物質(zhì)?？商娲?，該"i殳備還可具有靠近用于沿預(yù)定方向?qū)⒁苿?dòng)傳遞給物質(zhì)的裝置的一個(gè)固定電極；以及包括至少一個(gè)獨(dú)立電極單元的另一個(gè)電極，當(dāng)存在不止一個(gè)電極單元時(shí)，這些電極單元彼此隔離，該另一個(gè)電極適合于沿基本垂直于預(yù)定方向的方向移動(dòng)并壓縮物質(zhì)。該i殳備可進(jìn)一步包括用于減少和/或防止至少一個(gè)電極處的電壓損失的裝置。這種裝置可以是，例如，用于在電極-物質(zhì)界面處分配電解液的裝置，或用于在處理過程中打石皮形成的殼的裝置。電才及單元可以是陽才及單元。在本發(fā)明的設(shè)備中，至少一個(gè)電極可包括用于促進(jìn)液體去除的真空裝置。至少一個(gè)電極能夠適合于給物質(zhì)提供電解液和/或減少和/或防止電極處的電壓損失。該i殳備可包括至少兩個(gè)才莫塊，這些才莫塊以并4亍方式i殳置以處理物質(zhì)。其也可串聯(lián)二沒置。該i殳備可包括至少一個(gè)模塊，并且其中適合于壓縮物質(zhì)的電極為陽極，該陽極設(shè)置在陽極板中以橫向地延伸成行且縱向地延伸成列。適合于壓縮物質(zhì)的每個(gè)電極可以是陽極并設(shè)置在陽極單元中，并且其中每個(gè)模塊包括至少一個(gè)陽才及單元。陽才及單元可包^舌可移動(dòng)的下部和當(dāng)下部移動(dòng)時(shí)適合于相對(duì)于設(shè)備固定不動(dòng)的上部。上部可包括允許固定在支撐結(jié)構(gòu)上的裝置，并且下部包括陽極。陽極單元包括用于移動(dòng)陽極的裝置(例如壓力裝置)。用于移動(dòng)陽極的裝置可包括至少一個(gè)氣動(dòng)執(zhí)行才幾構(gòu)，至少一個(gè)才幾才成系統(tǒng)(例如凸4侖系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、螺4干系統(tǒng)或類似的)，至少一個(gè)活塞或至少一個(gè)電氣系統(tǒng)。用于移動(dòng)陽極的裝置可在一端連4妻至上部，并在另一端連4妻至下部。用于移動(dòng)陽4及的裝置可包括在一端連纟婁至上部并在另一端連4妾至下部的至少一個(gè)氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)。下部可包括設(shè)置于氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)和陽極之間的電絕緣和/或強(qiáng)化(rigidify)板。單個(gè)板可執(zhí)行兩種功能或替代地可使用兩個(gè)不同的板。還可使用其它已知裝置以強(qiáng)化陽極，例如由金屬或絕緣材料制成的格柵。下部和上部可通過適合于將下部推動(dòng)至升起位置的裝置(例如彈簧)連4妄在一起?？墒褂闷渌b置以提升陽極單元的活動(dòng)下部。例如，可4吏用雙動(dòng)千斤頂或帶有螺桿的電才幾。用于施加壓力的裝置可設(shè)置于每個(gè)陽極單元或每個(gè)陽極單元行。這種裝置元的活動(dòng)下部可在處理過程中被才是升以允許氣體排出。在本發(fā)明的設(shè)備中，該設(shè)備可包括至少一個(gè)才莫塊。適合于壓縮物質(zhì)的電極可以是陽才及，該陽極i殳置在陽極板中以斗黃向地延伸成行且縱向地延伸成列。每行可包括至少一個(gè)陽極單元。該至少一個(gè)陽極單元可包括用于移動(dòng)陽極的裝置(例如用于對(duì)物質(zhì)施加壓力的裝置)。用于移動(dòng)陽極的裝置可設(shè)置于行的外部且鄰近該4亍。陽極單元可包括固定至上部且連接至陽極的電源?？墒褂肈C、AC或脈沖電流。還可設(shè)置控制系統(tǒng)以防止電短路。電源可設(shè)置在陽極板上或鄰近模塊。每個(gè)陽極單元的電壓、電流和壓力可獨(dú)立控制。在物質(zhì)處理過程中，陽才及可適合于與物質(zhì)保持基本持續(xù)的接觸。陽極可適合于設(shè)置在距離陰極的多個(gè)距離處。陽極可適合于設(shè)置在離陰極的不同距離處。該設(shè)備還可包括適合于允許物質(zhì)以限定厚度均勻散布或分布(例如在至少一個(gè)電極的基本整個(gè)寬度上)的進(jìn)料系統(tǒng)。該設(shè)備還可包括串聯(lián)設(shè)置的至少兩個(gè)模塊，在每個(gè)相鄰模塊之間該設(shè)備包括包含粉碎系統(tǒng)的傳送系統(tǒng)，該傳送系統(tǒng)允許將粉碎且處理后的物質(zhì)從一個(gè)才莫塊傳送至另一個(gè)模塊。這種賴、晬系統(tǒng)可—皮設(shè)置為基本上在處理過程中期和/或末期起作用。在本發(fā)明的設(shè)備中，可基本沿水平方向傳送物質(zhì)?？裳鼗敬怪彼龇较虻姆较蚴┘訅毫?。當(dāng)物質(zhì)受到電流作用時(shí)，可通過^f呆持另一個(gè)電極與物質(zhì)間的基本持續(xù)的接觸來壓縮物質(zhì)。施加于物質(zhì)上的壓力可才艮據(jù)物質(zhì)密度而改變。例如，當(dāng)物質(zhì)密度增大時(shí)，壓力可以增加。在處理過程初期可基本不存在施加于物質(zhì)上的壓力，且隨后后壓力可逐漸增加。才艮據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，施加于物質(zhì)上的壓力可以是恒定的。陽極可以是多孔陽極。該設(shè)備可進(jìn)一步包括設(shè)置在陽極上且適合于位于陽極與待被該設(shè)備處理的物質(zhì)之間的過濾器。陰極可包括多個(gè)由導(dǎo)電金屬制成的輥。在電極單元中，支撐件可適合于在電極移動(dòng)時(shí)相對(duì)于"i殳備固定不動(dòng)。用于對(duì)物質(zhì)施加壓力的裝置可包纟舌至少一個(gè)氣動(dòng)4丸《于機(jī)構(gòu)、25至少一個(gè)機(jī)械系統(tǒng)(例如凸輪系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、螺斥干系統(tǒng)或類似物)、至少一個(gè)活塞或至少一個(gè)電氣系統(tǒng)。絕纟彖和/或強(qiáng)^匕件可i殳置在至少一個(gè)電極和用于施加壓力的裝置之間。電極單元可進(jìn)一步包括用于推動(dòng)處于非壓縮位置或升起位置的至少一個(gè)電4及的裝置(例如彈簧)。電極單元可進(jìn)一步包括連接至至少一個(gè)電極的電源。其還可包括用于防止短^各的控制系統(tǒng)。支撐件可包括在電才及單元的上部中。至少一個(gè)電才及可包括在電極單元的下部中。當(dāng)物質(zhì)受到電流作用時(shí)，可通過保持至少一個(gè)電極與物質(zhì)間的基本持續(xù)的4姿觸來壓縮物質(zhì)。施加于物質(zhì)上的壓力可根據(jù)物質(zhì)密度而改變。當(dāng)物質(zhì)密度增大時(shí)，壓力增加。在處理過程初期可基本不存在施加于物質(zhì)上的壓力，且隨后壓力可逐漸增加?？蒦,^U也，施加于物質(zhì)上的壓力可以是恒定的。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于提高物質(zhì)干燥度的方法，該方法包4舌<吏物質(zhì)受到電流作用，在物質(zhì)上施加壓力以壓縮物質(zhì)，以及沿預(yù)定方向移動(dòng)於泥，該方法的特4i在于，施加于物質(zhì)上的壓力沿基本垂直于預(yù)定方向的方向施加。本領(lǐng)域的一支術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，這種方法可通過本發(fā)明中描述的設(shè)備及其各種實(shí)施方式中的任意一種(當(dāng)其適用時(shí))來實(shí)現(xiàn)。可通過至少兩個(gè)電極(包括至少一個(gè)活動(dòng)電一及)^吏物質(zhì)受到電流作用?？赏ㄟ^至少一個(gè)活動(dòng)電招^在物質(zhì)上施加壓力。該至少一個(gè)活動(dòng)電4及可以是至少一個(gè)陽4及。例如，預(yù)定方向可以是基本水平的方向。可通過向下移動(dòng)該至少一個(gè)陽才及來施力卩壓力，以壓縮物質(zhì)?？赏ㄟ^多個(gè)陽極在物質(zhì)上施加壓力，每個(gè)陽才及彼此獨(dú)立。例如，每個(gè)陽極可在物質(zhì)上施加不同壓力。才艮據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，所有陽招_可在物質(zhì)上施加基本相同的壓力。此外，每個(gè)陽才及可在物質(zhì)上施加不同電流強(qiáng)度和/或不同電壓。可替^U也，所有陽才及可在物質(zhì)上施加基本相同的電流強(qiáng)度和/或基本相同的電壓。該方法可通過保持電^L和物質(zhì)之間的基本持續(xù)的接觸來實(shí)現(xiàn)。該方法也可通過保持至少一個(gè)陽極和物質(zhì)之間的基本持續(xù)的接觸來實(shí)現(xiàn)。例如，該方法通過保持物質(zhì)和至少一個(gè)陽極之間的基本持續(xù)的接觸來實(shí)現(xiàn)。施加于物質(zhì)上的壓力可才艮據(jù)物質(zhì)密度而改變。例如，當(dāng)物質(zhì)密度增大時(shí)，壓力可增加。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，在處理過程初期可基本不存在施加于物質(zhì)上的壓力，且隨后壓力可逐洋斤增加?？商娲?也，施加于物質(zhì)上的壓力可以是恒定的。本發(fā)明的方法由于其可進(jìn)一步允許物質(zhì)的凈化而非常有益。例如，其可允許樣t生物失活和/或^皮壞。此夕卜，在處理過程中，可產(chǎn)生至少一種廢料，并且該方法允許可選地包含在至少一種廢料中的微生物的失活和/或破壞。待處理和待脫水的物質(zhì)可以是淤泥。例如，淤泥可具有大約10%至大約25%的干燥度。在處理過程中，(大約在中期)和/或末期，物質(zhì)可一皮粉^"。該方法可通過至少兩個(gè)才莫塊來實(shí)現(xiàn)。每個(gè)才莫塊可包4舌至少兩個(gè)電才及，物質(zhì)在兩個(gè)才莫塊的處理之間—皮4分石卒?！剿绿幚砗?寺"兌水的物質(zhì)可基本上在傳送帶的整個(gè)寬度上以給定厚度塊的形式均勻散布。物質(zhì)可以通過傳送帶移動(dòng)。物質(zhì)可根據(jù)預(yù)定厚度基本上均勻地沉積在傳送帶上，該厚度4艮據(jù)4寺處理的物質(zhì)和施加于物質(zhì)的處理類型而改變。物質(zhì)的壓縮和均勻沉積可允i午在物質(zhì)上實(shí)J見均勻電脫水處理。物質(zhì)的壓縮和均勻沉積可允許^是高待處理的物質(zhì)的導(dǎo)電性。在處理過程中，至少一個(gè)陽才及單元的活動(dòng)下部可^U是升以允許氣體排出。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種在用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備中使用的進(jìn)料系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括-包4舌入口和出口的殼體；以及-設(shè)置在殼體中且靠近出口的至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置，該旋轉(zhuǎn)裝置適合于壓縮物質(zhì)并基本上垂直地朝著出口移動(dòng)物質(zhì)，一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置比至少另一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置更靠近出口，更靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于基本垂直地移動(dòng)以控制待通過出口分配的物質(zhì)的厚度。更靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置可被限制為沿著垂直軸線移動(dòng)。旋轉(zhuǎn)裝置可基本水平地延伸，并可圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。(比另一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置)更靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)軸線比另一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)軸線低。旋轉(zhuǎn)裝置可適合于接收其之間的4寺分配物質(zhì)。至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)速度可以調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)速度可根據(jù)待處理的物質(zhì)的性質(zhì)而改變。例如，旋轉(zhuǎn)裝置可以是輥。例如，至少兩個(gè)輥可以靠近出口設(shè)置并可以相同速度旋轉(zhuǎn)。該設(shè)備可進(jìn)一步包括設(shè)置在入口和靠近出口的輥之間的兩個(gè)上輥。上輥可基本7K平地延伸，并可圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。上輥可以基本相同的速度旋轉(zhuǎn)，并適合于接收其之間的待分配物質(zhì)。該設(shè)備可進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)裝置。調(diào)節(jié)裝置可允許調(diào)節(jié)靠近出口的輥之間的水平距離。調(diào)節(jié)裝置還可允許調(diào)節(jié)上輥之間的水平距離。上輥之間的水平距離可以比靠近出口的輥之間的水平距離大。出口和旋轉(zhuǎn)裝置可適合于允許物質(zhì)基本均勻地沉積在待設(shè)置于出口下方的基板上。旋轉(zhuǎn)裝置可包括用于排出包含在物質(zhì)內(nèi)的液體的裝置。這種用于排出液體的裝置可包括限定在旋轉(zhuǎn)裝置內(nèi)的孔口。該孔口適合于排出液體。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種與傳送帶一同使用的進(jìn)泮+系纟充，i亥系纟克包4舌-適合于通過該進(jìn)料系統(tǒng)接收待散布在傳送帶上的物質(zhì)的殼體，該殼體包括入口和出口，出口適合于靠近傳送帶；以及-靠近出口的至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置，這些旋轉(zhuǎn)裝置適合于壓縮物質(zhì)并將物質(zhì)向下移動(dòng)至出口，每個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在離出口的不同垂直距離處，最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于基本垂直地移動(dòng)以控制待通過出口散布在傳送帶上的物質(zhì)的厚度。旋轉(zhuǎn)裝置可包括用于排出包含在物質(zhì)內(nèi)的液體的裝置。這種用于排出液體的裝置可包括限定在旋轉(zhuǎn)裝置內(nèi)的孔口?？卓谶m合于排出液體。出口和最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于允許物質(zhì)基本均勻地沉積在傳送帶上。最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置被限制于沿著垂直軸線移動(dòng)。旋轉(zhuǎn)裝置可基本水平地延伸，并可圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。置可以是輥。例如，至少兩個(gè)輥可以靠近出口i殳置并可以相同速度旋轉(zhuǎn)。該i殳備可進(jìn)一步包括i殳置在入口和靠近出口的輥之間的兩個(gè)上壽昆。上4昆可基本水平i也延伸，并可圍繞基本水平的凝:專爭軸線力走轉(zhuǎn)。上輥可以基本相同的速度旋轉(zhuǎn)，并適合于接收其之間的待散布在傳送帶上的物質(zhì)。進(jìn)料系統(tǒng)可進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)裝置。這種調(diào)節(jié)裝置可允許調(diào)節(jié)靠近出口的輥之間的水平距離。調(diào)節(jié)裝置還可允許調(diào)節(jié)上輥之間的水平距離。例如，上輥之間的水平距離可以比靠近出口的輥之間的水平距離大。最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置可以是最靠近傳送帶出口的旋轉(zhuǎn)裝置。可替代地，最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置可以是離傳送帶出口最遠(yuǎn)的旋轉(zhuǎn)裝置。至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)速度可以調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)速度可根據(jù)待處理的物質(zhì)的性質(zhì)而改變。4t轉(zhuǎn)裝置可包括用于排出包含在物質(zhì)內(nèi)的液體的裝置。這種用于排出液體的裝置可包括限定在旋轉(zhuǎn)裝置內(nèi)的孔口?？卓谶m合于排出液體。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于散布物質(zhì)的進(jìn)料系纟充，i亥系鄉(xiāng)充包4舌-適合于接收物質(zhì)并包括入口和出口的殼體；以及-設(shè)置在殼體中且靠近出口的至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置，這些旋轉(zhuǎn)裝置適合于壓縮物質(zhì)并將物質(zhì)移動(dòng)至出口，一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置比至少另一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置更靠近出口，更靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于基本沿著軸線移動(dòng)以控制待通過出口散布的物質(zhì)的厚度。29更靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置可被限制于沿著軸線移動(dòng)。旋轉(zhuǎn)裝置可適合于接收其之間的待被供應(yīng)至傳送帶的物質(zhì)。至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)速度可根據(jù)待處理的物質(zhì)的性質(zhì)而改變。例如，旋轉(zhuǎn)裝置可以是輥。靠近出口的該至少兩個(gè)輥可以相同速度旋轉(zhuǎn)。該設(shè)備可進(jìn)一步包括設(shè)置于入口和靠近出口的輥之間的至少兩個(gè)其它壽昆。該至少兩個(gè)其它4昆可以基本相同的速度^走4爭，并適合于接收其之間的待通過出口散布的物質(zhì)。進(jìn)料系統(tǒng)可進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)裝置。調(diào)節(jié)裝置可允許調(diào)節(jié)兩個(gè)相鄰輥之間的^巨離，這兩個(gè)相鄰輥被設(shè)置為以便控制施加于經(jīng)過其之間的物質(zhì)上的壓力。該至少兩個(gè)其它輥之間的距離比靠近出口的輥之間的距離大。出口和旋轉(zhuǎn)裝置可適合于允許物質(zhì)基本均勻地沉積在待設(shè)置于出口下方的基板上的。旋轉(zhuǎn)裝置可包括用于排出包含在物質(zhì)內(nèi)的液體的裝置。這種用于排出液體的裝置可包括限定在旋轉(zhuǎn)裝置內(nèi)的孔口。孔口適合于排出液體。可發(fā)現(xiàn)，這種進(jìn)料系統(tǒng)可具有多個(gè)優(yōu)點(diǎn)。事實(shí)上，當(dāng)這種進(jìn)料系統(tǒng)與電脫水設(shè)備結(jié)合時(shí)，該進(jìn)料系統(tǒng)可允許物質(zhì)在該設(shè)備所使用的用于保持待處理物質(zhì)的基板(例如傳送帶)的整個(gè)寬度上的適當(dāng)壓縮和均勻散布或分布。當(dāng)實(shí)現(xiàn)這種適當(dāng)壓縮時(shí)，待處理的物質(zhì)可承受更大的壓力。此外，在這種情況下，待處理的物質(zhì)由于變得舉交不絕^^(例如通過減少其中的空氣量)而具有更好的導(dǎo)電性。例如，當(dāng)使用這種進(jìn)料系統(tǒng)時(shí)，實(shí)現(xiàn)了物質(zhì)的均勻散布，并且可以在基板或傳送帶的基本整個(gè)表面(寬度)之上獲得具有均勻厚度的待處理物質(zhì)塊。乂人而這種塊允i午在物質(zhì)上進(jìn)4亍均勻的電脫水過辟呈。這種系根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于在基板上散布物質(zhì)的方法。i亥方法包4舌30-在相互配合的輥之間導(dǎo)入物質(zhì)，以壓縮物質(zhì)并將物質(zhì)朝著基板基本上向下移動(dòng)，該方法的特;f正在于，在4昆之間導(dǎo)入物質(zhì)之前，一個(gè)4昆基本上沿著垂直軸線移動(dòng)以選4奪這才羊的位置，在該位置處》匕輥至基4反的垂直距離比其它輥至基板的垂直距離小，并且在該位置處待散布的物質(zhì)將具有預(yù)定厚度。通過附圖中所示的下列實(shí)施例，本發(fā)明的進(jìn)一步特^正和優(yōu)點(diǎn)卄尋變得更加顯而易見，其中圖1疋？脫水的設(shè)備的側(cè)透視圖1A是圖1所示設(shè)備的出口的放大圖；圖2是圖1所示設(shè)備的頂一見圖3是圖1所示設(shè)備的側(cè)正視圖，其中示出了陽極單元；圖4是圖1所示設(shè)備的后正視圖，其中示出了該設(shè)備的出口；圖5是在圖1所示設(shè)備中使用的陽極單元的前正視圖；圖6是圖1所示i殳備的另一個(gè)側(cè)透^L圖6A是在圖1所示設(shè)備中使用的廢料收集和排出系統(tǒng)的頂透視圖7是在圖1所示設(shè)備中使用的進(jìn)料系統(tǒng)的放大圖；圖7A是圖7的進(jìn)料系統(tǒng)的橫截面圖8是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)具體實(shí)施例的設(shè)備的側(cè)透視圖，其中該設(shè)備包括用于液體承載材料的處理和脫水且串聯(lián)設(shè)置的兩個(gè)疊加模塊，并且其中為了說明的目的，省略了陽極單元；以及圖9是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)具體實(shí)施例的設(shè)備的側(cè)透視圖，其加模塊，并且其中為了說明的目的，省略了陽極單元。具體實(shí)施例方式通過下列非限制性具體實(shí)施方式，本發(fā)明的進(jìn)一步特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加顯而易見。圖1示出了用于液體承載材料的處理和脫水或提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備。設(shè)備10包括入口15和出口17，其分別適合于接收待處理和待脫水的物質(zhì)以及待排出的物質(zhì)。此設(shè)備包括單個(gè)模塊。設(shè)備IO包括上板12(一皮稱為陽相j反)和下板14(被稱為陰極一反)。陽極才反12包括位于側(cè)面的兩個(gè)縱向主梁16和i殳置在梁16之間的輔梁18。陰招j反14包括位于側(cè)面的兩個(gè)縱向主梁20和陰才及19。該i殳備還包括用于沿預(yù)定方向?qū)⒁苿?dòng)傳遞至物質(zhì)的裝置。這種裝置可以是傳送帶13,例如設(shè)置于陰極19頂上且適合于將待處理的物質(zhì)從入口15傳送至出口17的織物傳送帶。傳送帶可以是，例如，過濾膜?？商娲?，陰極自身可用作傳送帶，即同時(shí)用作傳送帶和電極(活動(dòng)電極)。設(shè)備10還可包括輥21和22,其分別通過可調(diào)節(jié)法蘭軸承26和法蘭軸承23被固定。輥21和22允許織物傳送帶13的導(dǎo)向和移動(dòng)，織物傳送帶允i午4寺處理和〗寺脫水的物質(zhì)的運(yùn)送。馬區(qū)動(dòng)電才幾24允許傳送帶13的移動(dòng)。在入口15處，進(jìn)料系統(tǒng)25將待處理和待脫水的物質(zhì)供至設(shè)備IO以提高其干燥度?？商娲?，可使用其它系統(tǒng)耳又代進(jìn)料系統(tǒng)，例如壓帶才幾系統(tǒng)或允許控制物質(zhì)厚度的4壬何系統(tǒng)。廢料收集管道28允許由處理后且脫水后的物質(zhì)產(chǎn)生的廢沖牛的排出。在出口17處，刮才反27允i午移除粘在織物傳送帶13上的處理后且脫水后的物質(zhì)。圖1A顯示了出口17的細(xì)節(jié)并且示出了刮才反27和允許傳送帶13移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)電才幾24。不《秀鋼4昆22允i午傳送帶13的導(dǎo)向和移動(dòng)。法蘭軸承23支撐軸29。輥22、刮才反27和驅(qū)動(dòng)電才幾24固定至固定系統(tǒng)30。固定系統(tǒng)30固定至鈔人向主梁20。如圖2所示，設(shè)備10包括陽極板12、縱向梁16、橫縱布置的陽才及單元32、進(jìn)泮+系統(tǒng)25、入口15、出口17、輥22和驅(qū)動(dòng)電才幾24。^口圖3所述，i殳備10包4舌入口15、出口17、夕從向梁16和20的排列、縱向布置的陽極單元32、噴霧桿35、允許輥34的固定和調(diào)節(jié)的法蘭軸承33。輥34允許傳送帶(未示出)的導(dǎo)向和伸展。圖4示出了設(shè)備10的橫向軸線方向中的陽極單元32布局、梁16和20、馬區(qū)動(dòng)電才幾24、噴霧4干35和刮才反27的4非列。車)t梁18支4掌陽極單元32。圖5示出了陽極單元32的放大圖，并且示出了其兩個(gè)氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)50的布局以及陽極53。陽極53包括絕緣板56和金屬板54。陽極單元32適合于可解除地插入至設(shè)備10中以使用戶可更改在設(shè)備中使用的陽極單元32的數(shù)量。支撐件51包括導(dǎo)向托架52和金屬板58。金屬板58適合于通過導(dǎo)向托架52固定在設(shè)備10的支撐金屬結(jié)構(gòu)上。金屬板58允許氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)50通過導(dǎo)向圓筒60連接至陽極單元32的上部。氣動(dòng)#14亍才幾構(gòu)50允許通過導(dǎo)向圓筒62連接絕緣板56。彈簧64連接至金屬板58并且連接至絕緣板56。彈簧64允許將陽極53推動(dòng)至升起位置或待處理的物質(zhì)未一皮壓縮的位置。電連接器66固定在絕緣板56上并且允許陽極53的電連接。如圖6所示，設(shè)備10包括設(shè)置于陰極板14中的廢料收集和排出系統(tǒng)70。在圖6A中，可以看出收集和排出系統(tǒng)70包括廢料收集盤72和廢^)"排出管74。如圖7所示，進(jìn)料系統(tǒng)25包括諸如料斗80的殼體、允許上輥90和92(見圖7A)的固定的上法蘭軸7義82。下法蘭軸7"R84用于下輥94和96(見圖7A)的固定。驅(qū)動(dòng)電才幾86用于旋轉(zhuǎn)上輥卯和92,并且馬區(qū)^力電才幾88用于S走專爭下專昆94和96。如圖8所示，設(shè)備100包括串聯(lián)設(shè)置的兩個(gè)疊加模塊104和106。進(jìn)料系統(tǒng)25位于上模塊104的入口處，并且傳送-粉碎系統(tǒng)102允一步處理。這種系統(tǒng)可允許粉碎處理后的物質(zhì)，以供給進(jìn)料模塊106進(jìn)行下一步處理。如圖9所示，設(shè)備200包括并行設(shè)置的兩個(gè)疊加模塊204和206。進(jìn)料系統(tǒng)25位于才莫塊204和206的入口處。用于液體承載材料的處理和脫水的i殳備可包括一個(gè)或多個(gè)才莫塊。模塊是具有具體處理容量的單元。模塊數(shù)量根據(jù)想要的處理容量而改變。每個(gè)模塊的運(yùn)行條件可獨(dú)立控制。模塊可相互堆疊。它們可以并行或串聯(lián)(級(jí)聯(lián)才莫式)的方式起作用。在第一種情況中，每個(gè)模塊具有其自己的進(jìn)料系統(tǒng)(見圖9)。在第二種情況中(見圖8)，只有第一模塊由進(jìn)料系統(tǒng)供料，第二模塊由傳送-粉碎系統(tǒng)供料。通過此第一模塊處理的物質(zhì)接著被傳送至第二模塊，并依此繼續(xù)。物質(zhì)在經(jīng)過不同才莫塊時(shí)^皮處理和脫水。如圖1、圖5和圖6所示，模塊可包括上板12(陽極板)和下板14(陰極板)。陽極板包括陽極單元32、縱向梁16、橫向梁18、電源冷卻系統(tǒng)、氣體回收系統(tǒng)和支撐金屬結(jié)構(gòu)。陽極單元32橫縱地布置于陽極板中。陰極板14包括多孔陰極19、傳送帶13、縱向梁20、廢料收集-排出系統(tǒng)70、真空系統(tǒng)(未示出)、用于傳送帶的清空-洗滌系統(tǒng)(未示出)、為了水密性的側(cè)寺反、用于織物傳送帶的驅(qū)動(dòng)電機(jī)、和支撐金屬結(jié)構(gòu)。傳送帶13可由置于不銹鋼陰極19之上的織物制成。陰極19可由金屬結(jié)構(gòu)支撐，該金屬結(jié)構(gòu)能夠支撐施加于待處理的物質(zhì)上的壓力。清空-洗滌系統(tǒng)可安裝在陰極板14上，并可用于清洗和移除粘在織物傳送帶上的處理后的物質(zhì)。電源可i殳置在陽極板12上或模塊附近處，或包含在每個(gè)陽極單元32內(nèi)。電源i殳置有4空制系統(tǒng)以防電4豆^各。陽才及單元32可包4舌固定上部和活動(dòng)下部。固定上部包4舌導(dǎo)向才乇架52,導(dǎo)向托架固定至金屬板58上且在橫向梁18上滑動(dòng)以將陽極單元32固定在支撐金屬結(jié)構(gòu)上。固定上部還可包括固定于金屬一反58的兩個(gè)導(dǎo)向圓筒60和氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)50(見圖5)。活動(dòng)下部可包括電絕緣且石更化的斗反56，惰性、穩(wěn)定、非自津毛(consumable)的電極54和通過導(dǎo)向圓筒62用于氣動(dòng)才丸4亍才幾構(gòu)50的連接系統(tǒng)。彈簧64固定在金屬板58和絕緣板56上，并且允許活動(dòng)下部返回至其起始位置處(或?qū)⑵渫苿?dòng)至升起位置)。電連接器66固定在陽極53上。陽極單元32的活動(dòng)下部通過氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)50和彈簧64連接至固定上部。惰性、穩(wěn)定、非自耗電極可包括涂有金屬氧化物的閥金屬(valvemetal)基板。金屬氧化物可選自，例如，Ti02、Ta205、Ta02、Ru02、Ir02、Sn02、Sb203及其混合物。鈦可以用作閥金屬基板。例如使用的電極可以是涂有銥氧化物和4旦氧化物的混合物的鈥基板。電極可包括在特定溫度下處理過的鈦，該溫度允許獲得導(dǎo)電的氧化亞鈥。這種鈥氧化物可稱作馬格涅利(Magneli)相氧化亞鈦，并由分子式Ti。02^表示，其中n為4至10。每個(gè)陽極單元32可以是平行六面體形。每個(gè)陽極單元可具有其自己的電源。對(duì)給定陽極單元進(jìn)行處理所需要的電壓、電流和壓力可以是特定的、獨(dú)立的。氣動(dòng)4丸4亍才幾構(gòu)50允許產(chǎn)生對(duì)給定陽極單元進(jìn)行處理所需要的壓力。每個(gè)陽極單元可具有其自己的電源，該電源能夠產(chǎn)生對(duì)纟合定陽才及單元進(jìn)4于處理所需要的電功率。陽纟及單元32的活動(dòng)下部可以順應(yīng)物質(zhì)在處理過禾呈中的變形，乂人而^f呆持陽才及和處理過的物質(zhì)之間的基本持續(xù)接觸。陽極單元彼此獨(dú)立，并可位于不同水平面。如圖1至圖7A所示，進(jìn)料系統(tǒng)25將具有給定厚度的塊狀待處理和待脫水的物質(zhì)散布在傳送帶13上。進(jìn)料系統(tǒng)允許將物質(zhì)基本均勻地散布在傳送帶上。除了允許物質(zhì)以基本確定的厚度在傳送帶13上均勻沉積外，還需指出的是，進(jìn)料系統(tǒng)允許對(duì)待處理物質(zhì)進(jìn)行預(yù)壓縮。因此，甚至在通過活動(dòng)電4及(陽4及53)壓縮之前，物質(zhì)就通過進(jìn)津+系統(tǒng)25—皮予貞壓縮。例如，物質(zhì)的這種壓縮和均勻沉積可允i午對(duì)物質(zhì)進(jìn)4亍均勻電脫水處理。傳送帶13在由4黃向i殳置的陽才及單元32組成的至少一個(gè)4于之下移動(dòng)4寺處理的物質(zhì)。通過氣動(dòng)4丸4于才幾構(gòu)50的作用將鄉(xiāng)會(huì)定壓力施加于此物質(zhì)。在陽才及單元和陰才及19之間施加壓力一段預(yù)定時(shí)間，以對(duì)物質(zhì)進(jìn)行處理和脫水。氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)50的減壓和彈簧64的壓縮允^^是升陽才及單元的活動(dòng)下部。傳送帶13的移動(dòng)將4巴半處理的物質(zhì)移位至下一個(gè)陽才及單元^于，在該下一個(gè)陽才及單元4亍處將通過特定電壓、電流和壓力對(duì)物質(zhì)進(jìn)4于進(jìn)一步處理；與此同時(shí)，將未處理的物質(zhì)供應(yīng)至第一陽極單元行。這一直進(jìn)行，直到處理周期結(jié)束。接著，處理后且脫水后的物質(zhì)由位于設(shè)備10的出口17處的系統(tǒng)排出和粉碎。廢料在多孔陰極19的下方通過廢料收集-排出系統(tǒng)70被回收。產(chǎn)生的氣體在設(shè)備10的上部被回收。真空系統(tǒng)(未示出)可選;也安裝于陰才及19的下方。此系統(tǒng)允許爿尋留在傳送帶13和36陰極19中的廢料更好地移除。傳送帶13持續(xù)地在出口17處被清空并在入口15處^皮清洗。當(dāng)使用至少兩個(gè)操作模塊且其串聯(lián)地設(shè)置時(shí)(見圖8中的模塊104和106)，包括粉碎系統(tǒng)的傳送系統(tǒng)102允許將粉碎后且處理后的物質(zhì)從一個(gè)模塊傳送到另一個(gè)模塊。進(jìn)料系統(tǒng)25允許限定厚度的待處理物質(zhì)在織物傳送帶13的基本整個(gè)寬度上的均勻散布。在進(jìn)料系統(tǒng)25的上部中，分配裝置(未示出)可在料斗80的基本整個(gè)長度上散布物質(zhì)。分配裝置可以是例如螺桿或振動(dòng)系統(tǒng)。物質(zhì)的高度可等于在料斗80的基本整個(gè)長度上分配的物質(zhì)的高度。通過垂直地調(diào)節(jié)傳送帶和下輥94之間的3巨離來調(diào)節(jié)均勻沉積在詔:備10的傳送帶上的物質(zhì)的厚度。4艮據(jù)待處理的物質(zhì)的性質(zhì)，可通過改變輥94和96之間的距離進(jìn)行進(jìn)一步調(diào)節(jié)。上輥之間的距離比下輥之間的距離大。上輥和下輥具有雙重作用其驅(qū)動(dòng)并允許壓縮物質(zhì)。輥的外表面可具有一定粗升造度，以允許更好地供應(yīng)物質(zhì)。這種表面加工減少了物質(zhì)和輥之間的滑動(dòng)。物質(zhì)的驅(qū)動(dòng)耳又決于與輥《接觸的表面。上輥和下輥的速度4艮據(jù)物質(zhì)的性質(zhì)和干燥度來選擇。設(shè)備10的傳送帶的速度也根據(jù)待由進(jìn)料系統(tǒng)散布或沉積的物質(zhì)的量來選4奪。當(dāng)物質(zhì)^皮傾注且均勻分布在料斗80的整個(gè)長度上時(shí)，上輥卯和92將朝著下輥94和96壓縮并垂直地移動(dòng)物質(zhì)。這種下輥將提供對(duì)物質(zhì)的進(jìn)一步壓縮，并且將朝著i殳備10的傳送帶移動(dòng)物質(zhì)。輥94和傳送帶之間的距離將允許壓縮物質(zhì)，并確定后者的最終厚度。進(jìn)料系統(tǒng)可連續(xù)地操作或成批地處理。其也可通過設(shè)置高度(level)傳感器和驅(qū)動(dòng)器而自動(dòng)操作。當(dāng)在兩個(gè)電極之間施加給定電壓時(shí)，注意到存在電壓損失。此損失由處理后的物質(zhì)的電阻的升高而引起。此升高可能部分地由于在處理后的物質(zhì)中存在形成于陽極界面處的電絕緣外殼，以及由于陽極附近的處理后物質(zhì)的含水量降低。電壓損失意味著能量損失和處理質(zhì)量的降低。為了解決這個(gè)問題并才是高乂人陽極傳送至處理后的物質(zhì)的電壓，可4吏用兩種解決方案。第一，可在陽纟及-物質(zhì)界面處加入電解液。這提高了陽極附近的導(dǎo)電性，并幫助穩(wěn)定電壓損失，在處理過程中保持其在減小的水平。第二，也可通過機(jī)械方式打破外殼。這兩種角竿決方案也可同時(shí)4吏用。下列實(shí)施例以非限制性方式表示各種實(shí)施方式。實(shí)施例來自紙漿和造紙工業(yè)的於泥(sludge)測(cè)試了二級(jí)淤泥和包含初級(jí)淤泥與二級(jí)於泥的混合淤泥。這些測(cè)試用如圖1所示的設(shè)備執(zhí)行。該設(shè)備包括5個(gè)陽極單元。此進(jìn)料系統(tǒng)在過濾織物傳送帶的基本整個(gè)寬度上均勻地分配并散布給定厚度塊形式的待處理和待脫水的淤泥。接著，啟動(dòng)處理和電脫水過程。傳送帶在第一陽極單元下移動(dòng)待處理的淤泥。給定壓力通過氣動(dòng)才丸行才幾構(gòu)的作用施加于此'淤泥上。在第一陽才及單元和陰極之間施加一^殳預(yù)定時(shí)間的電壓，以對(duì)淤泥進(jìn)ff處理和脫水。氣動(dòng)才丸4于才幾構(gòu)的解壓和彈簧的壓縮纟是升第一陽極單元的活動(dòng)下部。傳送帶的移動(dòng)將半處理后的淤泥移位至第二陽極單元，在該第二陽極單元處淤泥將由特定電壓、電流和壓力進(jìn)4亍進(jìn)一步處理；與此同時(shí)，將未處理的淤泥供應(yīng)至第一陽極單元。其一直進(jìn)行直到處理周期結(jié)束。實(shí)施例1紙漿和造紙工業(yè)二級(jí)'於泥在此實(shí)施例中，每批(陽極單元)的處理所需要的時(shí)間大約是130秒。整個(gè)處理過程大約經(jīng)過11.5分鐘。提升陽極單元所需要的時(shí)間包含在處理時(shí)間內(nèi)。處理過程中使用的電壓是60伏。未處理的淤泥的干燥度大約是12%，而產(chǎn)生的電脫水后的淤泥具有大約44%的干燥度。表1和表2示出了所獲得的用于實(shí)施例1中的5個(gè)陽極單元中的每一個(gè)的監(jiān)測(cè)結(jié)果和各種參數(shù)。表l用于第一、第二和第三陽極單元的參數(shù)陽才及單元1陽才及單元2陽沖及單元3時(shí)間壓力電流密度時(shí)間壓力電流密度時(shí)間壓力電流密度(PSI)(mA/cm2)")(PSI)(mA/cm2)(s)(PSI)(mA/cm2)0735.0140--280--10736.01502541.52卯3448.020736.51602541.53003444.030736.51702542.03103442.540737.01802542.03203441.550737.01902542.03303440.560737.52002542.03403439.570737.52102542.03503439.080738.02202541.53603438.590738.02302541.53703438.0100738.0240.2541.03803437.0110738.52502540.03903436.5120739.02602539.04003436.0130739.02702538.54103435.539表2用于第四和第五陽才及單元的參翁:陽極單元4陽才及單元5時(shí)間")壓力(PSI)電流密度(mA/cm2)時(shí)間(s)壓力(PSI)電流密度(mA/cm2)420--560--4304639.05705440.04404636.55805436.04504636.05卯5431.54604634.56005428.54704634.06105426.04804633.06205423.04904632.06305421.55004631.06405420.05104630.06505418.05204629.06605415.55304628.56705414.05404627.56805413.05504626.06卯5412.5實(shí)施例2在實(shí)施例2中，使用了混合的紙漿和造紙淤泥(大約50%初級(jí)淤泥和50%二級(jí)淤泥)。未處理的淤泥的干燥度大約是15%，而電脫水后的淤泥具有大約42%的干燥度。表3第一、用于第二和第三陽才及單元的參凄t陽極單元1陽極單元2陽極單元3時(shí)間壓力(PSI)電流密度(mA/cm2)時(shí)間")壓力(PSI)電流密度(mA/cm2)時(shí)間")壓力(PSI)電流密度(mA/cm2)40<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>表4用于第四和第五陽才及單元的參數(shù)<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>實(shí)施例3市政二級(jí)於泥在此實(shí)施例中，處理了市政二級(jí)淤泥。-使用了與前面實(shí)施例相同的設(shè)備。每批(陽極單元)的處理所需要的時(shí)間大約是180秒。整個(gè)處理過程大約經(jīng)過15分鐘j是升陽才及單元所需要的時(shí)間包含在處理時(shí)間內(nèi)。處理過禾呈中^f吏用的電壓是60伏。在淤泥處理過程中，進(jìn)行了三次取樣。對(duì)于每次取樣而言，對(duì)未處理的淤泥、處理后的淤泥和產(chǎn)生的廢沖+采才羊，以進(jìn)4亍沙門氏菌和糞大腸菌群的分析。表5和表6示出了在第一次取樣時(shí)對(duì)所采樣的污泥進(jìn)行處理過程中獲得的用于5個(gè)陽極單元中的每一個(gè)的監(jiān)測(cè)結(jié)果和各種參數(shù)。表7至表9示出了在第一次、第二次和第三次取樣期間所采樣的樣本中的微生物縮減量。第一次取^羊表5用于第一、第二和第三陽極單元的參數(shù)<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>42<table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>乂人圖7至圖9可以看出，糞大腸菌群和沙門氏菌的水平在處理之后降低了。還可以看出，產(chǎn)生的廢料中的大腸菌群和沙門氏菌的水平低于檢測(cè)極限。這表明本發(fā)明的設(shè)備和方法允許對(duì)諸如淤泥的物質(zhì)進(jìn)行有效脫水并獲得高的干燥度。此外，該i殳備和方法允許對(duì)由小顆粒組成的物質(zhì)進(jìn)行脫水。這還表明這種i殳備和方法對(duì)孩t生物失活和/或-皮壞是有效的。該設(shè)備和方法允許在處理過程中控制每個(gè)陽極單元的處理參數(shù)(電壓、電流和壓力)，以及控制待處理和待脫水的物質(zhì)的厚度。這種控制使得可以獲得優(yōu)質(zhì)處理并控制功率消耗。該設(shè)備和方法靈活并可處理具有各種干燥度的不同物質(zhì)。此外，該設(shè)備和方法允許具有高截留率，從而廢料中的總懸浮固體(TSS)的量較低。該設(shè)備和方法允許在物質(zhì)處理過程中產(chǎn)生的氣體的排出。該設(shè)備具有簡單的機(jī)械結(jié)構(gòu)，并能根據(jù)待處理的物質(zhì)的特性進(jìn)行參數(shù)的自動(dòng)調(diào)節(jié)。雖然結(jié)合具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但應(yīng)該理解的是，可以進(jìn)行進(jìn)一步修改，并且本申請(qǐng)旨在覆蓋對(duì)本發(fā)明做出的大體上遵循本發(fā)明的原理并且包含有脫離本公開但仍處于本發(fā)明所屬
技術(shù)領(lǐng)域：
中公知或慣例范圍內(nèi)的和可應(yīng)用于上文中闡明的本質(zhì)特征的以及落在下列附加權(quán)利要求范圍內(nèi)的任何變更、使用或改動(dòng)。4權(quán)利要求1.一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，所述設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)所述模塊包括適合于使所述物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電極，一個(gè)所述電極是適合于根據(jù)預(yù)定方向移動(dòng)并將所述移動(dòng)傳遞給所述物質(zhì)的柔性電極；并且另一個(gè)所述電極內(nèi)包括至少一個(gè)獨(dú)立的電極單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電極單元時(shí)，所述電極單元彼此隔離，該另一個(gè)電極適合于沿基本垂直于所述預(yù)定方向的方向移動(dòng)并適合于壓縮所述物質(zhì)。2.—種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，所述設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)所述模塊包括適合于使所述物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電極，一個(gè)所述電才及是靠近用于沿預(yù)定方向?qū)⒁苿?dòng)傳遞給所述物質(zhì)的裝置的固定電才及；并且另一個(gè)所述電才及內(nèi)包4舌至少一個(gè)獨(dú)立的電極單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電極單元時(shí)，所述電極單元^波此隔離，該另一個(gè)電極適合于沿基本垂直于所述預(yù)定方向的方向移動(dòng)并適合于壓縮所述物質(zhì)。3.—種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，所述設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)所述模塊包括適合于使所述物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電極，至少一個(gè)所述電極內(nèi)包括至少一個(gè)獨(dú)立的電極單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電才及單元時(shí)，所述電才及單元彼此隔離，至少一個(gè)所述電才及適合于壓縮所述物質(zhì)，并且至少一個(gè)所述電才及包4舌用于寸足進(jìn)液體去除的真空裝置。4.一種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，所述設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)所述模塊包括適合于使所述物質(zhì)受到電流的至少兩個(gè)電極，至少一個(gè)所述電極內(nèi)包括至少一個(gè)獨(dú)立的電極單元，當(dāng)存在不止一個(gè)電才及單元時(shí)，所述電才及單元4皮此隔離，至少一個(gè)所述電極適合于壓縮所述物質(zhì)，并且至少一個(gè)所述電極適合于給所述物質(zhì)才是供電解液和/或降低和/或防止該電才及處的電壓損失。5.根據(jù)權(quán)利要求l、2或4所述的設(shè)備，其特征在于，至少一個(gè)所述電極包括用于促進(jìn)液體去除的真空裝置。6.根據(jù)權(quán)利要求l、2、3或5所述的設(shè)備，其特征在于，至少一個(gè)所述電極適合于給所述物質(zhì)提供電解液和/或降低和/或防止該電才及處的電壓損失。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括至少兩個(gè)模塊，所述模塊以并行方式設(shè)置，以處理所述物質(zhì)。8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括至少兩個(gè)模塊，所述模塊串聯(lián)設(shè)置，以處理所述物質(zhì)。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述i殳備進(jìn)一步包4舌用于降4氐和/或防止一個(gè)所述電才及處的電壓損失的裝置。10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述i殳備進(jìn)一步包括用于在電極-物質(zhì)界面處分配電解液的裝置或用于在處理物質(zhì)時(shí)打^C所產(chǎn)生的殼的裝置。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，并且其中，適合于壓縮所述物質(zhì)的所述電極為陽極，所述陽極設(shè)置在陽才及板中以4黃向地延伸成行且縱向地延伸成列。12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，適合于壓縮所述物質(zhì)的每個(gè)所述電才及均為陽才及并且均i殳置在陽才及單元中，并且其中，每個(gè)所述才莫塊包4舌至少一個(gè)陽4及單元。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，所述陽極單元包4舌可移動(dòng)的下部和當(dāng)所述下部移動(dòng)時(shí)適合于相對(duì)所述i殳備固定不動(dòng)的上部。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，所述上部包括能夠固定在支撐結(jié)構(gòu)上的裝置，并且所述下部包括所述陽極，所述陽極單元包括用于移動(dòng)所述陽極的裝置。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，用于移動(dòng)所述陽極的所述裝置包括至少一個(gè)氣動(dòng)#1行才幾構(gòu)、至少一個(gè)才幾械系統(tǒng)、至少一個(gè)活塞、或至少一個(gè)電氣系統(tǒng)。16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，用于移動(dòng)所述陽才及的所述裝置包4舌在一端連4妄至所述上部并在另一端連4妄至所述下部的至少一個(gè)氣動(dòng)4丸^^幾構(gòu)。17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，用于移動(dòng)所述陽極的所述裝置在一端連接至所述上部并在另一端連接至所述下部。18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，所述下部包括設(shè)置于所述氣動(dòng)沖丸行才幾構(gòu)和所述陽才及之間的電絕緣和/或強(qiáng)化件。19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的設(shè)備，其特征在于，所述下部包括設(shè)置在用于移動(dòng)所述陽極的所述裝置和所述陽極之間的電絕緣和/或強(qiáng)化fK20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的設(shè)備，其特征在于，所述下部和所述上部通過適合于將所述下部4,動(dòng)至升起位置的裝置連4妄在一起。21.根據(jù)權(quán)利要求12至20中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，的電源。22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括用于防止電短^各的控制系統(tǒng)。23.4艮據(jù)權(quán)利要求21或22所述的設(shè)備，其特征在于，每個(gè)陽極單元的電壓、電;克和壓力一皮獨(dú)立纟空制。24.根據(jù)權(quán)利要求11至23中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述陽極適合于在所述物質(zhì)的處理過程中與所述物質(zhì)〗呆持基本持續(xù)的接觸。25.根據(jù)權(quán)利要求11至23中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述陽極適合于設(shè)置在離所述陰極的多個(gè)距離處。26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，每個(gè)所述陽極設(shè)置于離所述陰^^及的不同距離處。27.根據(jù)權(quán)利要求1至26中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括適合于允許規(guī)定厚度的物質(zhì)均勻散布的進(jìn)料系統(tǒng)。28.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括串聯(lián)設(shè)置的至少兩個(gè)模塊，在每個(gè)相鄰才莫塊之間，所述設(shè)備包括包含粉碎系統(tǒng)的傳送系統(tǒng)，所述系統(tǒng)允許將粉碎后的和處理后的物質(zhì)從一個(gè)模塊傳送至另一個(gè)模塊。29.—種用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備，所述設(shè)備包括至少兩個(gè)電極、用于施加壓力的裝置和用于沿預(yù)定方向?qū)⑺鑫镔|(zhì)乂人入口傳送至出口的裝置，其特征在于，用于在所述物質(zhì)上施加壓力的裝置適合于移動(dòng)至少一個(gè)所述電才及以在所述物質(zhì)上施加壓力，并且，所述壓力基本垂直于所述予貞定方向施加。30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的設(shè)備，其特征在于，所述物質(zhì)沿基本水平的方向傳送，并且所述壓力基本垂直于所述方向施加。31.根據(jù)權(quán)利要求1至30中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述物質(zhì)受到電流作用時(shí)，通過保持所述另一個(gè)電極與所述物質(zhì)間的基本持續(xù)的4妻觸來壓縮所述物質(zhì)。32.根據(jù)權(quán)利要求1、3和4中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述物質(zhì)受到電流作用時(shí)，通過保持所述電極與所述物質(zhì)間的基本持續(xù)的接觸來壓縮所述物質(zhì)。33.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的設(shè)備，其特征在于，所述電極中的一個(gè)是靠近沿預(yù)定方向?qū)⒁苿?dòng)傳遞至所述物質(zhì)的裝置的固定電極或者是適合于沿所述預(yù)定方向?qū)⒁苿?dòng)傳遞至所述物質(zhì)的活動(dòng)電極；并且所述電極中的另一個(gè)適合于沿基本垂直于所述予貞定方向的方向移動(dòng)并適合于壓縮戶斤述物質(zhì)。34.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3和4中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括多個(gè)行，每個(gè)所述行均包括至少一個(gè)陽極單元和用于移動(dòng)所述陽極的裝置。35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的設(shè)備，其特征在于，用于移動(dòng)所述陽極的所述裝置設(shè)置于所述行的外側(cè)且鄰近所述行。36.根據(jù)權(quán)利要求1至35中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力根據(jù)所述物質(zhì)的密度而改變。37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述物質(zhì)的密度增大時(shí)，所述壓力增加。38.才艮據(jù)權(quán)利要求36或37所述的設(shè)備，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力在處理過程初期基本不存在，并且隨后，所述壓力逐洋斤i曾力口。39.根據(jù)權(quán)利要求1至35中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力是恒定的。40.根據(jù)權(quán)利要求12至15中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述陽極是多孔陽極。41.根據(jù)權(quán)利要求12至15中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備進(jìn)一步包括安裝在所述陽才及上且適合于設(shè)置在所述陽才及和待用所述i殳備處理的物質(zhì)之間的過濾器。42.根據(jù)權(quán)利要求25或26所述的設(shè)備，其特征在于，所述陰極包括由導(dǎo)電金屬制成的多個(gè)輥。43.根據(jù)權(quán)利要求1至42中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備能夠凈化所述物質(zhì)。44.根據(jù)權(quán)利要求1至42中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備能夠進(jìn)行微生物失活和/或^皮壞。45.根據(jù)權(quán)利要求1至44中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述電極中的至少一個(gè)是惰性的非自庫毛電極。46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的設(shè)備，其特征在于，所述至少一個(gè)電極是陽極。47.根據(jù)權(quán)利要求45或46所述的設(shè)備，其特征在于，所述至少一個(gè)電極包括涂有金屬氧化物的閥金屬基板，所述金屬氧化物選自Ti02、Ta205、Ta02、Ru02、Ir02、Sn02、Sb203及其混合物。48.根據(jù)權(quán)利要求47所述的設(shè)備，其特征在于，所述閥金屬基板是鈦。49.根據(jù)權(quán)利要求47所述的設(shè)備，其特征在于，所述金屬基板是不《秀鋼。50.根據(jù)權(quán)利要求45或46所述的設(shè)備，其特征在于，所述至少一個(gè)電極是涂有銥氧化物和鉭氧化物的混合物的鈦基板。51.根據(jù)權(quán)利要求45或46所述的設(shè)備，其特征在于，所述電極包括馬格涅利相氧化亞鈥。52.—種在用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備中使用的電極單元，所述電極單元包括支撐件，適合于可解除地插入所述設(shè)備中；至少一個(gè)電，及；以及用于沿預(yù)定方向移動(dòng)所述至少一個(gè)電才及并在所述物質(zhì)上施加壓力的裝置，所述裝置連接至所述支撐件并連接至所述至少一個(gè)電才及。53.根據(jù)權(quán)利要求52所述的電極單元，其特征在于，所述"i殳備進(jìn)一步包括適合于將所述至少一個(gè)電極推動(dòng)至升起位置的裝置，所述裝置連接至所述支撐件并連接至所述至少一個(gè)電極。54.才艮據(jù)權(quán)利要求52或53所述的電極單元，其特4i在于，當(dāng)所述電極移動(dòng)時(shí)，所述支撐件適合于相對(duì)于所述設(shè)備固定不動(dòng)。55.根據(jù)權(quán)利要求52至54中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，用于沿預(yù)定方向移動(dòng)所述至少一個(gè)電才及并在所述物質(zhì)上施加壓力的所述裝置包括至少一個(gè)氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)、至少一個(gè)積』械系統(tǒng)、至少一個(gè)活塞、或至少一個(gè)電氣系統(tǒng)。56.根據(jù)權(quán)利要求52至55中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，在所述至少一個(gè)電4及和用于沿預(yù)定方向移動(dòng)所述至少一個(gè)電極并在所述物質(zhì)上施加壓力的所述裝置之間設(shè)置有絕續(xù)^和/或強(qiáng)化件。57.根據(jù)權(quán)利要求52至56中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，用于沿預(yù)定方向移動(dòng)所述至少一個(gè)電極并在所述物質(zhì)上施加壓力的所述裝置包括至少一個(gè)氣動(dòng)^l行4幾構(gòu)。58.根據(jù)權(quán)利要求52至56中的任意一項(xiàng)所述的電才及單元，其特征在于，用于沿預(yù)定方向移動(dòng)所述至少一個(gè)電才及并在所述物質(zhì)上施加壓力的所述裝置包括至少兩個(gè)氣動(dòng)執(zhí)行才幾構(gòu)。59.根據(jù)權(quán)利要求52至58中的任意一項(xiàng)所述的電才及單元，其特征在于，所述電才及單元包括用于在非壓縮位置推動(dòng)所述至少一個(gè)電極的裝置。60.根據(jù)權(quán)利要求51至59中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，所述電極單元包括連接至所述至少一個(gè)電極的電源。61.根據(jù)權(quán)利要求60所述的電極單元，其特征在于，所述電極單元包括用于防止電短路的控制系統(tǒng)。62.根據(jù)權(quán)利要求52至61中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，所述支撐件包括在所述電極單元的上部中，并且，所述至少一個(gè)電才及包括在所述電才及單元的下部中。63.根據(jù)權(quán)利要求52至62中的任意一項(xiàng)所述的電才及單元，其特征在于，當(dāng)所述物質(zhì)受到電流作用時(shí)，通過保持所述至少一個(gè)電極與所述物質(zhì)間的基本持續(xù)的接觸來壓縮所述物質(zhì)。64.根據(jù)權(quán)利要求52至63中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力根據(jù)所述物質(zhì)的密度而改變。65.4艮據(jù)權(quán)利要求64所述的電才及單元，其特征在于，當(dāng)所述物質(zhì)的密度增大時(shí)，所述壓力增加。66.才艮據(jù)權(quán)利要求64或65所述的電極單元，其特4正在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力在處理過禾呈初期基本不存在，并且隨后，所述壓力逐沐斤增力o。67.根據(jù)權(quán)利要求52至63中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力是恒定的。68.根據(jù)權(quán)利要求52至67中的任意一項(xiàng)所述的電極單元，其特征在于，所述至少一個(gè)電極是惰性的非自耗電^L。69.根據(jù)權(quán)利要求68所述的電極單元，其特征在于，所述至少一個(gè)電纟及是陽才及。70.根據(jù)權(quán)利要求68或69所述的電極單元，其特征在于，所述至少一個(gè)電極包括涂有金屬氧化物的閥金屬基板，所述金屬氧化物選自Ti02、Ta205、Ta02、Ru02、Ir〇2、Sn02、Sb203及其混合物。71.根據(jù)權(quán)利要求70所述的電極單元，其特征在于，所述閥金屬基板是鐵。72.根據(jù)權(quán)利要求70所述的電極單元，其特征在于，所述金屬基板是不銹鋼。73.才艮據(jù)權(quán)利要求68或69所述的電極單元，其特4正在于，所述至少一個(gè)電才及是涂有銥IU匕物和鉭氧^f匕物的混合物的4太基斗反。74.根據(jù)權(quán)利要求69所述的電極單元，其特征在于所述陽極包括馬才各涅利相氧化亞4太。75.—種用于4是高物質(zhì)干燥度的方法，所述方法包4舌使所述物質(zhì)受到電流作用；在所述物質(zhì)上施加壓力以壓縮所述物質(zhì)；以及沿預(yù)定方向移動(dòng)所述物質(zhì)，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力基本垂直于所述預(yù)定方向施加。76.根據(jù)權(quán)利要求75所述的方法，其特征在于，通過至少兩個(gè)電極使所述物質(zhì)受到所述電流作用，所述至少兩個(gè)電極包括至少一個(gè)活動(dòng)電才及。77.才艮據(jù)4又利要求76所述的方法，其特;f正在于，通過所述至少一個(gè)活動(dòng)電纟及在所述物質(zhì)上施加所述壓力。78.根據(jù)權(quán)利要求77所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)活動(dòng)電極是至少一個(gè)陽極。79.根據(jù)權(quán)利要求76至78中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述預(yù)定方向是基本水平的方向。80.根據(jù)權(quán)利要求79所述的方法，其特征在于，通過向下移動(dòng)所述至少一個(gè)活動(dòng)電才及來施力o所述壓力，以壓縮所述物質(zhì)。81.根據(jù)權(quán)利要求75至80中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，通過多個(gè)陽極在所述物質(zhì)上施加所述壓力，每個(gè)所述陽才及彼此獨(dú)立。82.根據(jù)權(quán)利要求81所述的方法，其特征在于，每個(gè)所述陽極在所述物質(zhì)上施加不同的壓力。83.才艮據(jù);f又利要求81所述的方法，其特;f正在于，所有陽才及在所述物質(zhì)上施加基本相同的壓力。84.根據(jù)權(quán)利要求81至83中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，每個(gè)所述陽極在所述物質(zhì)上施加不同的電流強(qiáng)度和/或不同的電壓。85.根據(jù)權(quán)利要求81至84中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所有陽才及在所述物質(zhì)上施加基本相同的電流強(qiáng)度和/或基本相同的電壓。86.根據(jù)權(quán)利要求75至85中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，通過保持所述電極和所述物質(zhì)之間的基本持續(xù)的接觸來進(jìn)行所述方法。87.4艮據(jù)權(quán)利要求78所述的方法，其特4正在于，通過保持所述至少一個(gè)陽才及和所述物質(zhì)之間的基本持續(xù)的^妄觸來進(jìn)^亍所述方法。88.根據(jù)權(quán)利要求81至87中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，通過保持所述物質(zhì)和所述陽極中的至少一個(gè)之間的基本持續(xù)的4妄觸來進(jìn)行所述方法。89.根據(jù)權(quán)利要求75至88中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力才艮據(jù)所述物質(zhì)的密度而改變。90.根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述物質(zhì)的密度增大時(shí)，所述壓力增加。91.根據(jù)權(quán)利要求75至88中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力在處理過程初期基本不存在，并且隨后，所述壓力逐漸增加。92.根據(jù)權(quán)利要求88所述的方法，其特4正在于，施加于所述物質(zhì)上的壓力是恒定的。93.根據(jù)權(quán)利要求75至92中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法能夠凈化所述物質(zhì)。94.4艮據(jù)權(quán)利要求75至92中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述設(shè)備能夠進(jìn)行微生物失活和/或^C壞。95.根據(jù)權(quán)利要求75至94中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，待處理和待脫水的所述物質(zhì)是淤泥，并且所述淤泥具有大約10%至大約25%的干燥度。96.才艮據(jù)權(quán)利要求75至95中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特4正在于，所述方法通過至少兩個(gè)才莫塊來實(shí)現(xiàn)，每個(gè)才莫塊包括至少兩個(gè)電才及，所述物質(zhì)在兩個(gè)才莫塊的處理之間^皮并分石卒。97.根據(jù)權(quán)利要求75至96中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，待處理和待脫水的物質(zhì)以給定厚度塊的形式基本均勻散布在傳送帶的整個(gè)寬度上。98.4艮據(jù)^又利要求97所述的方法，其特;f正在于，所述物質(zhì)通過所述傳送帶移動(dòng)。99.根據(jù)權(quán)利要求97或98所述的方法，其特征在于，所述物質(zhì)根據(jù)預(yù)定的厚度基本上均勻地沉積在所述傳送帶上，所述厚度根凈居4寺處理的物質(zhì)和施加于所述物質(zhì)的處理類型而改變。100.根據(jù)權(quán)利要求99所述的方法，其特征在于，所述物質(zhì)的所述壓縮和均勻沉積^f吏得能夠在所述物質(zhì)上進(jìn)4亍均勻的電脫7K處理。101.才艮據(jù)一又利要求99所述的方法，其特;f正在于，所述物質(zhì)的所述壓縮和均勻沉積使得能夠提高待處理的物質(zhì)的導(dǎo)電性。102.才艮據(jù)權(quán)利要求75至101中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在處J里過畔呈中，^是升至少一個(gè)陽沖及單元的活動(dòng)下部，以允許氣體排出。103.—種在用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備中使用的進(jìn)料系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括殼體，包4舌入口和出口；以及設(shè)置在所述殼體中且靠近所述出口的至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置適合于壓縮所述物質(zhì)并基本上垂直地朝著所述出口移動(dòng)所述物質(zhì)，所述旋轉(zhuǎn)裝置中的一個(gè)比所述旋轉(zhuǎn)裝置中的至少另一個(gè)更靠近所述出口，更靠近所述出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于基本垂直地移動(dòng)以控制待通過所述出口分配的物質(zhì)的厚度。104.根據(jù)權(quán)利要求103所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，更靠近所述出口的所述4^轉(zhuǎn)裝置^^皮限制為沿著垂直軸線移動(dòng)。105.根據(jù)權(quán)利要求103或104所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置基本水平地延伸，并圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，更靠近所述出口的旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)軸線比至少另一個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)軸線低，所述旋轉(zhuǎn)裝置適合于在其間容納待分配的物質(zhì)。106.根據(jù)權(quán)利要求103至105中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置是輥。107.根據(jù)權(quán)利要求106所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，靠近所述出口設(shè)置的至少兩個(gè)輥以相同速度旋轉(zhuǎn)。108.根據(jù)權(quán)利要求106或107所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述設(shè)備進(jìn)一步包括設(shè)置在所述入口和靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的兩個(gè)上輥，所述上輥基本水平地延伸并可圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，所述上輥以基本相同的速度旋轉(zhuǎn)并適合于在其間容納待分配的物質(zhì)。109.根據(jù)權(quán)利要求108所述的進(jìn)料系統(tǒng)，進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)裝置，所述調(diào)節(jié)裝置能夠調(diào)節(jié)靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的水平距離，所述調(diào)節(jié)裝置還能夠調(diào)節(jié)所述上輥之間的水平距離。110.根據(jù)權(quán)利要求109所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述上輥之間的水平距離大于靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的水平距離。111.根據(jù)權(quán)利要求103至110中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述出口和所述旋轉(zhuǎn)裝置適合于使得所述物質(zhì)能夠基本均勻地沉積在待設(shè)置于所述出口下方的基一反上。112.—種與傳送帶一同使用的進(jìn)料系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括殼體，適合于容納待通過進(jìn)料系統(tǒng)散布在所述傳送帶上的物質(zhì)，所述殼體包括入口和出口，所述出口適合于靠近所述傳送帶而i殳置；以及靠近所述出口設(shè)置的至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置適合于壓縮所述物質(zhì)并將所述物質(zhì)向下移動(dòng)至所述出口，每個(gè)所述旋轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在離所述出口的不同垂直距離處，最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于基本垂直地移動(dòng)以控制待通過所述出口散布在所述傳送帶上的物質(zhì)的厚度。113.根據(jù)權(quán)利要求112所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述出口和最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于使得所述物質(zhì)能夠基本均勻地沉積在所述傳送帶上。114.根據(jù)權(quán)利要求112或113所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，最靠近所述出口的旋轉(zhuǎn)裝置被限制為沿著垂直軸線移動(dòng)。115.根據(jù)權(quán)利要求112至114中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置基本水平地延伸并圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)裝置適合于在其間容納待散布在所述傳送帶上的物質(zhì)。116.根據(jù)權(quán)利要求112至115中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置是輥。117.根據(jù)權(quán)利要求116所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，靠近所述出口設(shè)置的至少兩個(gè)輥以相同速度旋轉(zhuǎn)。118.根據(jù)權(quán)利要求117所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述設(shè)備進(jìn)一步包括設(shè)置在所述入口和靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的兩個(gè)上輥，所述上輥基本水平地延伸并圍繞基本水平的旋轉(zhuǎn)納待散布在所述傳送帶上的物質(zhì)。119.根據(jù)權(quán)利要求118所述的進(jìn)料系統(tǒng)，進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)裝置，所述調(diào)節(jié)裝置能夠調(diào)節(jié)靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的水平距離，所述調(diào)節(jié)裝置還能夠調(diào)節(jié)所述上輥之間的水平距離。120.根據(jù)權(quán)利要求119所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述上輥之間的水平距離大于靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的水平距121.根據(jù)權(quán)利要求103至120中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，最靠近所述出口的旋轉(zhuǎn)裝置是最靠近所述傳送帶的出口的旋轉(zhuǎn)裝置。122.根據(jù)權(quán)利要求103至120中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，最靠近出口的旋轉(zhuǎn)裝置是離所述傳送帶的出口最遠(yuǎn)的旋轉(zhuǎn)裝置。123.—種用于散布物質(zhì)的進(jìn)料系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括殼體，適合于容納所述物質(zhì)并且所述殼體包括入口和出口；以及設(shè)置在所述殼體中且靠近所述出口的至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)裝置，所述力走轉(zhuǎn)裝置適合于壓縮所述物質(zhì)并將所述物質(zhì)移動(dòng)至所述出口，所述旋轉(zhuǎn)裝置中的一個(gè)比所述旋轉(zhuǎn)裝置中的至少另一個(gè)更靠近所述出口，更靠近所述出口的旋轉(zhuǎn)裝置適合于基本上沿著軸線移動(dòng)以控制待通過出口散布的物質(zhì)的厚度。124.根據(jù)權(quán)利要求123所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，更靠近所述出口的旋轉(zhuǎn)裝置^L限制為沿著所述軸線移動(dòng)。125.根據(jù)權(quán)利要求123或124所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述126.根據(jù)權(quán)利要求123至125中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置是輥。127.根據(jù)權(quán)利要求126所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，靠近所述出口設(shè)置的至少兩個(gè)輥以相同速度旋轉(zhuǎn)。128.根據(jù)權(quán)利要求127所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述設(shè)備進(jìn)一步包括設(shè)置于所述入口和靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的至少兩個(gè)其它輥，所述至少兩個(gè)其它輥以基本相同的速度旋轉(zhuǎn)并適合于在其間容納待通過所述出口散布的物質(zhì)。129.根據(jù)權(quán)利要求128所述的進(jìn)料系統(tǒng)，進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)裝置，所述調(diào)節(jié)裝置能夠調(diào)節(jié)兩個(gè)相鄰設(shè)置的輥之間的距離，以控制施加于經(jīng)過其間的物質(zhì)上的壓力。130.根據(jù)權(quán)利要求129所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述至少兩個(gè)其它輥之間的距離大于靠近所述出口設(shè)置的所述輥之間的距離。131.根據(jù)權(quán)利要求123至130中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述出口和所述旋轉(zhuǎn)裝置適合于使得所述物質(zhì)基本均勻地沉積在待設(shè)置于所述出口下方的基板上。132.根據(jù)權(quán)利要求103至131中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置包括用于排出包含在所述物質(zhì)內(nèi)的液體的裝置。133.根據(jù)權(quán)利要求132所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，用于排出液體的所述裝置包括限定在所述旋轉(zhuǎn)裝置內(nèi)的孔口，所述孔口適合于排出所述液體。134.根據(jù)權(quán)利要求103至133中的任意一項(xiàng)所述的進(jìn)料系統(tǒng)，其特征在于，至少一個(gè)S走轉(zhuǎn)裝置適合于以一個(gè)速度旋轉(zhuǎn)，該速度為待處理物質(zhì)的性質(zhì)的函數(shù)。135.—種用于在基板上散布物質(zhì)的方法，所述方法包括在配合的壽昆之間導(dǎo)入所述物質(zhì)，以壓縮所述物質(zhì)并爿尋所述物質(zhì)基本上向下地朝著所述基板移動(dòng)，其特征在于，在所述輥之間導(dǎo)入所述物質(zhì)之前，所述輥中的一個(gè)基本上沿著垂直軸線移動(dòng)以選擇一個(gè)位置，在該位置處所述輥至基板的垂直距離小于其它輥至基板的垂直距離，并且在該位置處待散布的物質(zhì)將具有預(yù)定的厚度。136.根據(jù)權(quán)利要求1至51中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括權(quán)利要求52至74中的任意一項(xiàng)中所限定的電極單元。137.根據(jù)權(quán)利要求1至51中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括權(quán)利要求103至133中的任意一項(xiàng)所限定的進(jìn)料系統(tǒng)。138.根據(jù)權(quán)利要求1至51中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括能夠控制所述物質(zhì)的厚度的進(jìn)料系統(tǒng)。139.根據(jù)權(quán)利要求28所述的設(shè)備，其特征在于，所述粉碎系統(tǒng)被設(shè)置為以1"更基本上在處理過程的中期和/或末期起作用。140.根據(jù)權(quán)利要求75至102中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述物質(zhì)在處理過程的大約中期和/或末期纟皮4分石卒。141.4艮據(jù)^又利要求75至102中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在處理過程中產(chǎn)生至少一種廢料，并且所述方法能夠?qū)蛇x地包含在所述至少一種廢料中的微生物進(jìn)行失活和/或石皮壞。全文摘要本發(fā)明提供了用于提高物質(zhì)干燥度的設(shè)備。該設(shè)備包括至少一個(gè)模塊，每個(gè)模塊包括適合于使物質(zhì)受到電流作用的至少兩個(gè)電極。電極也可適合于壓縮物質(zhì)。本發(fā)明還提供了用于提高物質(zhì)干燥度的方法。文檔編號(hào)B01D61/56GK101472669SQ200780022332公開日2009年7月1日申請(qǐng)日期2007年6月13日優(yōu)先權(quán)日2006年6月14日發(fā)明者穆斯塔法·沙穆尼,羅杰·帕拉迪斯,讓-皮埃爾·迪翁,達(dá)尼·薩拉贊-沙利文,阿卜杜勒-拉赫曼·德爾穆內(nèi),阿卜杜勒-阿齊茲·布雷加申請(qǐng)人:艾爾科泰克技術(shù)公司