專利名稱：高機(jī)械能混合分散研磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于物料的混合、分散或研磨的設(shè)備，尤其是涉及高機(jī) 械能混合分散研磨裝置。
背景技術(shù)：
在化工、醫(yī)藥、材料等生產(chǎn)或科研活動(dòng)中，常常需要將諸如粉末或液體 或膏體等物料進(jìn)行混合、分散以使物料形成均一性的混合物，或者需要將物 料進(jìn)行研磨以達(dá)到使用要求。
當(dāng)前，業(yè)界已經(jīng)推出多種混合分散研磨裝置，其中，行星式混合裝置應(yīng) 用較多。傳統(tǒng)的行星式混合裝置主要包括機(jī)臺(tái)、動(dòng)力源、公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、自轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)、設(shè)于自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上以容納待混合或研磨物料的物料罐。通過行星式的旋轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)，使容器同步進(jìn)行公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)，以使裝于容器內(nèi)的物料得以混合或研磨。 但是，傳統(tǒng)的這種行星式混合裝置由于其自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸心線與物料罐的 幾何中心線是重合的，在運(yùn)行過程中，位于容器內(nèi)自轉(zhuǎn)中軸線附近的物料易 出現(xiàn)陀螺效應(yīng)而趨于穩(wěn)定，由此導(dǎo)致自轉(zhuǎn)中軸線附近的物料的分散、混合、 研磨效果不夠理想，難以滿足高精度加工的要求。此外，這種裝置的容器需 要由裝夾機(jī)構(gòu)緊緊地夾緊，否則在裝置運(yùn)動(dòng)過程中，整個(gè)容器易被甩出。同 時(shí)，物料會(huì)飛濺到物料罐蓋的內(nèi)表面上，導(dǎo)致浪費(fèi)及清洗困難。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種高機(jī)械能混合分散研磨裝置， 其能提供高機(jī)械能，以達(dá)到較佳的混合、分散、研磨的效果。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案 一種高機(jī)械能混合分 散研磨裝置，包括動(dòng)力源、由動(dòng)力源驅(qū)動(dòng)的公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、與公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)傳動(dòng)配合 的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、設(shè)于自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸上的自轉(zhuǎn)支架、設(shè)于自轉(zhuǎn)支架上的物料 罐座以及設(shè)于物料罐座上的物料罐，所述自轉(zhuǎn)支架包括與自轉(zhuǎn)軸固定相連的 連接部以及分別自連接部的兩側(cè)平行于自轉(zhuǎn)軸伸出的支撐部，兩支撐部且相對(duì)于自轉(zhuǎn)軸對(duì)稱；所述物料罐座為一端開口的筒體，物料罐座筒壁的相對(duì)兩 側(cè)分別借助于樞軸結(jié)構(gòu)可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于兩支撐部上，在筒壁與支撐部之間還 設(shè)有限位結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步地，所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的公轉(zhuǎn)軸心線具有夾
角a，所述自轉(zhuǎn)軸心線朝向公轉(zhuǎn)軸心傾斜或者背離公轉(zhuǎn)軸心線傾斜而形成所述 夾角a。 CR0度或者CF45度左右是較佳的選擇，當(dāng)a-0度時(shí)，自轉(zhuǎn)軸心線與 公轉(zhuǎn)軸心線平行。
本發(fā)明的有益效果是通過將物料罐可擺動(dòng)地設(shè)置于自轉(zhuǎn)支架上，在裝 置運(yùn)行過程中，物料罐在公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)的同時(shí)，還會(huì)規(guī)律性地進(jìn)行大幅度搖擺 振動(dòng)，從而使物料在多種運(yùn)動(dòng)的復(fù)合作用下，受到的機(jī)械能很大，混合、分 散、研磨效果非常好，特別是對(duì)團(tuán)聚納米粉體的分散效果很突出，應(yīng)用前景 非常廣闊；本發(fā)明還通過將自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)軸心線之間形成的夾角a設(shè)定 為45度角左右，而可達(dá)到在裝置運(yùn)行過程中物料罐只需放置于物料罐座中而 不需軸向夾緊的效果，從而有利于取放物料罐的操作，同時(shí)，使物料不會(huì)飛 濺到物料罐蓋的內(nèi)表面上，物料也不會(huì)甩出。當(dāng)a為45度角左右時(shí)，大幅搖 擺所形成的振動(dòng)力與公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)形成的能量會(huì)更有效地疊加，會(huì)進(jìn)一步 提高裝置的機(jī)構(gòu)能。本發(fā)明在現(xiàn)有的行星式公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)模式的基礎(chǔ)上，加入 大幅搖擺振動(dòng)，可以做到同樣的輸入功率的條件下，使物料的混合分散、研 磨效果成倍提高，達(dá)到前所未有的最大值，應(yīng)用前景廣闊。


圖1為本發(fā)明高機(jī)械能混合分散研磨裝置的分解圖。 圖2為沿圖1中l(wèi)-l的剖視放大圖。
圖3為本發(fā)明高機(jī)械能混合分散研磨裝置的物料罐座擺動(dòng)到極限位置時(shí) 的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本發(fā)明高機(jī)械能混合分散研磨裝置的物料罐座在圖3所示位置經(jīng) 自轉(zhuǎn)180度后的示意圖。
圖5為本發(fā)明高機(jī)械能混合分散研磨裝置的物料罐座在公轉(zhuǎn)離心力作用 下從圖4位置擺動(dòng)至極限位置的示意圖。
圖6為本發(fā)明高機(jī)械能混合分散研磨裝置的自轉(zhuǎn)軸心線與公 軸心線具有夾角的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖7是本發(fā)明高機(jī)械能混合分散研磨裝置的自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)軸心線具
有夾角的另一種結(jié)構(gòu)示意圖。
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步描述
具體實(shí)施例方式
如圖1所示，本發(fā)明提供一種高機(jī)械能混合分散研磨裝置，包括動(dòng)力源1、
由動(dòng)力源1驅(qū)動(dòng)的公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2、與公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2傳動(dòng)配合的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3、設(shè)于自
轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3的自轉(zhuǎn)軸30上的自轉(zhuǎn)支架4、設(shè)于自轉(zhuǎn)支架4上的物料罐座5以及
設(shè)于物料罐座5上的物料罐6。
所述動(dòng)力源1為公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2及自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)提供動(dòng)能， 一般采用馬達(dá)。 公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2包括與動(dòng)力源1相連的公轉(zhuǎn)軸20及固定于公轉(zhuǎn)軸2頂端的公
轉(zhuǎn)支承板22。
所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3主要包括自轉(zhuǎn)軸30及自公轉(zhuǎn)軸20將動(dòng)力傳遞給自轉(zhuǎn)軸 30的傳動(dòng)副32， 一般地，所述傳動(dòng)副32為皮帶副或齒輪副。所述自轉(zhuǎn)軸30 的頂端穿過公轉(zhuǎn)支承板22伸出，相應(yīng)地，在公轉(zhuǎn)支承板22的對(duì)應(yīng)處設(shè)有軸 承供自轉(zhuǎn)軸30穿過，從而可帶動(dòng)自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3進(jìn)行公轉(zhuǎn)，同時(shí)也不會(huì)影響自轉(zhuǎn) 軸30的自轉(zhuǎn)。
上述的動(dòng)力源1、公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2、自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3與現(xiàn)有的行星式混合研磨裝置 的相關(guān)結(jié)構(gòu)基本相同，其并非本發(fā)明所創(chuàng)新之處，因此，在此不多贅述。
如圖2所示，所述自轉(zhuǎn)支架4包括與自轉(zhuǎn)軸30固定相連的連接部40以 及分別自連接部40的兩側(cè)垂直伸出的支撐部42，兩支撐部42相互平行且相 對(duì)于自轉(zhuǎn)軸30對(duì)稱。
所述物料罐座5為一端開口的筒體，筒壁的相對(duì)兩側(cè)分別借助于樞軸結(jié) 構(gòu)可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于兩支撐部42上，在如圖1、圖2所示的實(shí)施方式中，所述 樞軸結(jié)構(gòu)包括設(shè)于物料罐座5筒壁兩側(cè)的軸桿520及設(shè)于支撐部42上以供所 述軸桿520穿設(shè)的軸孔420，通過軸孔配合，而使得物料罐座5可以以軸桿 520為轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)擺動(dòng)。在物料罐座5的筒壁與支撐部42之間還設(shè)有限位結(jié)構(gòu)， 在如圖所示的實(shí)施方式中，所述限位結(jié)構(gòu)包括設(shè)于物料罐座5上的限位柱522 以及相應(yīng)設(shè)于支撐部42上以供限位柱522相對(duì)來回活動(dòng)的限位槽422,所述限位槽422是以樞軸結(jié)構(gòu)的軸心為圓心的圓弧狀槽，限位柱522隨物料罐座 5進(jìn)行搖擺振動(dòng)時(shí)只能在限位槽422所限定的范圍內(nèi)來回活動(dòng)，通過調(diào)整圓 弧狀的限位槽422的圓弧長度即可調(diào)整及限制物料罐座最大搖擺幅度。當(dāng)限 位槽422的圓弧長度足夠長時(shí)，物料罐座的擺動(dòng)可以不受到限制，從而可形 成物料罐座處于自由搖擺運(yùn)動(dòng)狀態(tài)。在本實(shí)施方式中，其初次最大搖擺幅度 為90度。如圖1所示，當(dāng)裝置未啟動(dòng)時(shí)，物料罐座5處于自然下垂?fàn)顟B(tài)，其 自然垂下狀態(tài)稱為原點(diǎn)位置。裝置啟動(dòng)后，當(dāng)公轉(zhuǎn)速度足夠大時(shí)，物料罐座5 沿公轉(zhuǎn)離心力方向向外搖擺，此為初次搖擺(正向擺動(dòng))，其最大擺角為90 度(如圖3所示)。此時(shí)A面在上方，B面在下方。當(dāng)物料罐座5自轉(zhuǎn)化0 度至另一端時(shí)，在重力及公轉(zhuǎn)離心力作用下，物料罐座5 (B面在下方)下垂 并高速大幅回?cái)[，首先是從另一端極限位置擺動(dòng)向原點(diǎn)位置，然后通過原點(diǎn) 位置后繼續(xù)沿公轉(zhuǎn)離心力方向向外擺動(dòng)(即反向擺動(dòng))，直至受限位機(jī)構(gòu)限制 產(chǎn)生撞擊振動(dòng)為止。此時(shí)，B面在上方，A面在下方，如圖5所示，物料罐 座5搖擺擺動(dòng)幅度已達(dá)反向的最大擺角。實(shí)際運(yùn)行時(shí)，在公轉(zhuǎn)離心力作用下， 自轉(zhuǎn)支架每自轉(zhuǎn)一圈，物料罐座5來回?fù)u擺兩次，即物料罐座的A面及B面 沿著公轉(zhuǎn)離心力的方向分別各向外搖擺一次。也就是說，在公轉(zhuǎn)離心力作用下， 每自轉(zhuǎn)一圈物料罐座內(nèi)的物料被來回?fù)u擺振動(dòng)兩次。
當(dāng)然，可以理解地，可以將所述軸桿520與軸孔420的位置互換，即將 軸桿520設(shè)于兩支撐部42上，而軸孔420則對(duì)應(yīng)設(shè)于筒體兩側(cè)，同樣可以 實(shí)現(xiàn)使物料罐座5搖擺振動(dòng)及限制搖擺幅度的目的；此外，限位柱522與限 位槽422的位置也可互換，即將限位柱522設(shè)于支撐部42上，而將限位槽 422設(shè)于物料罐座5上，從而在物料罐座5搖擺式振動(dòng)時(shí)，限位柱不動(dòng)，而 以限位槽隨物料罐座5來回活動(dòng)，此時(shí)，亦即相當(dāng)于限位柱522相對(duì)于限位 槽422來回活動(dòng)，當(dāng)限位槽422的兩端觸及限位柱522即無法再沿當(dāng)前擺動(dòng) 方向擺動(dòng)，而同樣實(shí)施限位目的。
所述物料罐6放置于物料罐座5筒體內(nèi)，其用于容納待處理的各種物料。 在如圖1所示的實(shí)施方式中，所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3的自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu) 2的公轉(zhuǎn)軸心線處于平行狀態(tài)。當(dāng)然，也可以如圖6所示的實(shí)施方式那樣， 自轉(zhuǎn)軸心線I-I是朝向公轉(zhuǎn)軸心線II-II傾斜的，或者如圖7所示的另一種實(shí)施方式，自轉(zhuǎn)軸心線i-i是背離公轉(zhuǎn)軸心線n-n傾斜的，這兩種實(shí)施方式均使得
所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)3的自轉(zhuǎn)軸心線I-I與公轉(zhuǎn)軸心線II-II之間形成一定的夾角a， 在設(shè)計(jì)時(shí)，該夾角a的取值范圍為0~90度，當(dāng)a-O度時(shí)，即是自轉(zhuǎn)軸心線 與公轉(zhuǎn)軸心線平行，而a-90度時(shí)，即是自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)軸心線垂直。當(dāng)a 角在45度左右，物料罐最大搖擺幅度為90度，實(shí)際運(yùn)行時(shí)，通過限位機(jī)構(gòu) 的控制，其搖擺幅度可在0 90度之間選擇。當(dāng)a定為45度左右時(shí)，可以使 得物料罐在公轉(zhuǎn)離心力的作用下獲得一個(gè)壓向物料罐座底部的分力，其搖擺 幅度不超過90度時(shí)，物料罐6可以直接放置在物料罐座5上，而在物料罐座 5的中軸線方向上無需額外再進(jìn)行固定鎖緊，工作時(shí)不會(huì)松脫，從而有利于提 高取放物料罐6的效率。同時(shí)，物料不會(huì)飛濺到物料罐蓋的內(nèi)表面上，避免 了浪費(fèi)及清洗上的麻煩。
下面對(duì)本發(fā)明裝置的具體運(yùn)行過程及原理進(jìn)行詳細(xì)描述
1、 裝置運(yùn)行時(shí)，公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)分別帶動(dòng)自轉(zhuǎn)支架及其上的物料罐 座、物料罐和物料同時(shí)進(jìn)行公轉(zhuǎn)及自轉(zhuǎn)；
2、 當(dāng)自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)自轉(zhuǎn)使軸桿520與公轉(zhuǎn)離心力方向垂直時(shí)，在公轉(zhuǎn)離心力 帶動(dòng)下，物料罐座5將帶著物料罐6繞軸桿520由物料罐座5的A面在前地 (所謂前、后是指相對(duì)于擺動(dòng)的方向而言)向外擺動(dòng)，限位機(jī)構(gòu)對(duì)物料罐座5 進(jìn)行限制，并且形成撞擊產(chǎn)生振動(dòng)，此時(shí)物料罐座5的A面在上方，而B面 在下方，如圖3所示；
3、 而隨著繼續(xù)自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)離心力對(duì)物料罐座5擺動(dòng)的影響逐漸減小，當(dāng) 軸桿520與公轉(zhuǎn)離心力平行時(shí)，物料罐座5及物料罐6在重力作用下開始回 落，物料罐座5則開始B面在前地沿公轉(zhuǎn)離心力方向擺動(dòng)(即沿圖4中虛線 箭頭所示方向)，當(dāng)軸桿520進(jìn)一步自轉(zhuǎn)到與公轉(zhuǎn)離心力方向垂直時(shí)，物料 罐座5受到的公轉(zhuǎn)離心力作用的擺動(dòng)力達(dá)到最大值，致使物料罐座5高速地 向公轉(zhuǎn)離心力方向擺動(dòng)，當(dāng)其受到限位機(jī)構(gòu)的限制時(shí)再次發(fā)生撞擊振動(dòng)，此 時(shí)物料罐座5的B面在上方，A面在下方，如圖5所示；
4、 通過公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，在公轉(zhuǎn)離心力作用下，每自轉(zhuǎn)一周物料罐座5 發(fā)生兩次搖擺及兩次撞擊振動(dòng)(沿物料罐座5的限位柱522與限位槽422的 兩個(gè)極限端各撞擊振動(dòng)一次)。搖擺式撞擊振動(dòng)使被混合、分散、研磨的物料得以振松動(dòng)，并得到一個(gè)強(qiáng)大的振蕩力，這些附加的能量對(duì)在高速運(yùn)動(dòng)下 的行星式公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)的動(dòng)能起到激化作用，從而具有作用加倍的功效，物料 在多種運(yùn)動(dòng)的同時(shí)作用下，受到的機(jī)械能非常高，混合、分散、研磨效果非常好。
5、本發(fā)明裝置的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸心線與物料罐的幾何中心線之間存在 一個(gè)不斷變化的夾角，在物料罐的擺動(dòng)過程中，夾角為零，即自轉(zhuǎn)軸心線與 物料罐的幾何中心線重合的情況只是極短的一瞬間，而絕大多數(shù)時(shí)間夾角不 為零，即自轉(zhuǎn)軸心線與物料罐的幾何中心線不重合，因此，不易出現(xiàn)傳統(tǒng)裝 置中難以避免的陀螺效應(yīng)，即不會(huì)出現(xiàn)因物料罐幾何中心線與自轉(zhuǎn)中心線重 合，致使物料罐幾何中心線附近的物料混合、分散、研磨效果不好的現(xiàn)象， 從而使物料罐中心區(qū)域的物料也得到很好的混合、分散及研磨，這是一項(xiàng)全 新的突破。
使用本裝置進(jìn)行有關(guān)試驗(yàn)表明，本裝置解決了傳統(tǒng)方式對(duì)物料進(jìn)行混合、
分散、研磨所存在的眾多難題。例如對(duì)團(tuán)聚納米粉體分散、研磨的效果很 好，避免了研磨時(shí)，研磨珠在物料罐底部中央部分結(jié)團(tuán)以及在物料罐底部四 周內(nèi)壁結(jié)團(tuán)而導(dǎo)致研磨效果不佳的現(xiàn)象。同時(shí)，納米分散時(shí)的效率也得到提 高，分散質(zhì)量改善。又如，在膏狀物料與粉體進(jìn)行混合時(shí)，因使用需要，要 求先將粉體先置于物料罐底部然后再將膏狀物料加至粉體上部，分別使用傳
統(tǒng)混合裝置和本發(fā)明裝置進(jìn)行混合相同的時(shí)間(如2.0分鐘)，傳統(tǒng)混合裝 置效果不佳，底部粉體得不到分散，不能與膏體很好混合；而本發(fā)明裝置的 分散、混合效果很好，底部粉體已完全分散并與膏體混合均勻。
本發(fā)明在現(xiàn)有的行星式公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)模式的基礎(chǔ)上，加入大幅搖擺振動(dòng)， 可以做到在同樣的輸入功率的條件下，使物料的混合、分散、研磨效果成倍 提高，達(dá)到前所未有的最大值，應(yīng)用前景廣闊。
權(quán)利要求
1、一種高機(jī)械能混合分散研磨裝置，包括動(dòng)力源、由動(dòng)力源驅(qū)動(dòng)的公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、與公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)傳動(dòng)配合的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、設(shè)于自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸上的自轉(zhuǎn)支架、設(shè)于自轉(zhuǎn)支架上的物料罐座及設(shè)于物料罐座上的物料罐，其特征在于所述自轉(zhuǎn)支架包括與自轉(zhuǎn)軸固定相連的連接部以及分別自連接部的兩側(cè)平行于自轉(zhuǎn)軸伸出的支撐部，兩支撐部且相對(duì)于自轉(zhuǎn)軸對(duì)稱；所述物料罐座為一端開口的筒體，物料罐座筒壁的相對(duì)兩側(cè)分別借助于樞軸結(jié)構(gòu)可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于兩支撐部上，在筒壁與支撐部之間還設(shè)有限位結(jié)構(gòu)。
2、 如權(quán)利要求1所述的高機(jī)械能混合分散研磨裝置，其特征在于所述 限位結(jié)構(gòu)包括設(shè)于物料罐座筒壁上或支撐部上的限位柱以及相應(yīng)設(shè)于支撐部 上或物料罐座筒壁上以供限位柱相對(duì)來回活動(dòng)的限位槽，所述限位槽是以樞 軸結(jié)構(gòu)的軸心為圓心的圓弧狀槽。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的高機(jī)械能混合分散研磨裝置，其特征在于所述樞軸結(jié)構(gòu)包括軸桿及與供所述軸桿穿設(shè)的軸孔，所述軸桿設(shè)于物料罐座 筒體兩側(cè)或兩支撐部上，而軸孔則對(duì)應(yīng)設(shè)于兩支撐部上或物料罐座筒體兩側(cè)。
4、 如權(quán)利要求2所述的高機(jī)械能混合分散研磨裝置，其特征在于物料罐座搖擺幅度最大為180度。
5、 如權(quán)利要求1所述的高機(jī)械能混合分散研磨裝置，其特征在于所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的公轉(zhuǎn)軸心線具有夾角a。
6、 如權(quán)利要求5所述的高機(jī)械能混合分散研磨裝置，其特征在于所述的夾角a-0度或者a-45度。
7、 如權(quán)利要求5所述的高機(jī)械能混合分散研磨裝置，其特征在于所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸心線朝向公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的公轉(zhuǎn)軸心線傾斜或者所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)軸心線背離公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的公轉(zhuǎn)軸心線傾斜，從而形成所述夾角a。
全文摘要
一種高機(jī)械能混合分散研磨裝置，包括動(dòng)力源、公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、設(shè)于自轉(zhuǎn)軸上的自轉(zhuǎn)支架、設(shè)于自轉(zhuǎn)支架上的物料罐座及設(shè)于物料罐座上的物料罐，自轉(zhuǎn)支架包括與自轉(zhuǎn)軸固定相連的連接部及分別自連接部兩側(cè)平行自轉(zhuǎn)軸伸出且相對(duì)于自轉(zhuǎn)軸對(duì)稱的兩支撐部；物料罐座為一端開口的筒體，其筒壁的相對(duì)兩側(cè)分別借助于樞軸結(jié)構(gòu)可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于兩支撐部上，筒壁與支撐部之間還設(shè)有限位結(jié)構(gòu)。本發(fā)明通過適當(dāng)選定自轉(zhuǎn)軸心線與公轉(zhuǎn)軸心線夾角，可實(shí)現(xiàn)性能最佳化；且通過將物料罐可擺動(dòng)地設(shè)置于自轉(zhuǎn)支架上，物料罐在公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)的同時(shí)，還會(huì)規(guī)律性地進(jìn)行大幅度搖擺振動(dòng)，物料在多種運(yùn)動(dòng)復(fù)合作用下，受到很高的機(jī)械能，混合、分散、研磨效果非常好，應(yīng)用前景廣闊。
文檔編號(hào)B01F9/00GK101554568SQ200910105590
公開日2009年10月14日 申請(qǐng)日期2009年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月27日
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