專利名稱：一種清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種針對水處理膜系統(tǒng)中油類、膠體、表面活性劑等有機物污染的堿
性復(fù)合清洗劑，尤其涉及一種清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑。
背景技術(shù)：
隨著純水技術(shù)和廢水回用技術(shù)的不斷發(fā)展，膜技術(shù)(包括反滲透膜、納濾膜、超濾 膜、微濾膜)在水處理中的應(yīng)用越來越廣泛，而水源的不斷惡化對膜系統(tǒng)的正常運行提出 更高的要求，膜系統(tǒng)的污堵亦成為其運行的第一大障礙，如何減少污堵或者污堵后如何有 效清洗是目前行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)最為關(guān)注的兩個研究方向。膜系統(tǒng)的主要污染物種類為無機鹽 (如碳酸鈣、硫酸鈣、硫酸鋇)、金屬氧化物(如鐵)、無機膠體(如淤泥)、微生物、有機物、 細(xì)菌、霉菌、硅等；針對這些污染物的主要清洗劑為鹽酸、磷酸、檸檬酸、氫氧化鈉、EDTA、 氫氟酸等，但這些藥劑的清洗效果較差、功能單一、藥效低，并不具備將所有各類雜質(zhì)完全
去除徹底的作用。

發(fā)明內(nèi)容
針對以上缺陷，本發(fā)明提供一種除污效果較佳、藥效范圍廣、可代替多種藥劑使用 的清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，從而徹底解決污堵后不能有效清洗的問題。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案 —種清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，包括由碳酸氫鈉、EDTA-4Na、檸檬酸 銨、十二烷基苯磺酸鈉和純水根據(jù)質(zhì)量配比分別為15%、25%、 15%、 1 %和44%配制而成 并于常溫下形成化學(xué)溶液。 本發(fā)明有益效果為通過多重作用去除有機物對膜系統(tǒng)的污染，可達(dá)到良好的除 污效果；可同時解決無機鹽、金屬氧化物等多類污染物對膜系統(tǒng)的損害，藥效范圍廣；可代 替多種藥劑共同使用，操作簡便。
具體實施方式

實施例1 本發(fā)明實施例所述的清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，包括由碳酸氫鈉、 EDTA-4Na、檸檬酸銨、十二烷基苯磺酸鈉和純水根據(jù)質(zhì)量配比分別為15 % 、25 % 、 15 % 、 1 % 和44%配制而成并于常溫下形成化學(xué)溶液。
實施例2 本發(fā)明實施例所述的清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，包括由碳酸氫鈉、 EDTA-4Na、檸檬酸銨、十二烷基苯磺酸鈉和純水根據(jù)質(zhì)量配比分別為14. 5%、25%、15. 5%、 1%和43%配制而成并于常溫下形成化學(xué)溶液。
實施例3 本發(fā)明實施例所述的清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，包括由碳酸氫鈉、EDTA-4Na、檸檬酸銨、十二烷基苯磺酸鈉和純水根據(jù)質(zhì)量配比分別為15%、24. 5%、 15%、 1%和44. 5%配制而成并于常溫下形成化學(xué)溶液。
權(quán)利要求
一種清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，其特征在于包括由碳酸氫鈉、EDTA-4Na、檸檬酸銨、十二烷基苯磺酸鈉和純水根據(jù)質(zhì)量配比分別為15％、25％、15％、1％和44％配制而成并于常溫下形成化學(xué)溶液。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗膜系統(tǒng)含有機物污垢的復(fù)合清洗劑，包括由碳酸氫鈉、EDTA-4Na、檸檬酸銨、十二烷基苯磺酸鈉和純水根據(jù)質(zhì)量配比分別為15％、25％、15％、1％和44％配制而成并于常溫下形成化學(xué)溶液。本發(fā)明有益效果為通過多重作用去除有機物對膜系統(tǒng)的污染，可達(dá)到良好的除污效果；可同時解決無機鹽、金屬氧化物等多類污染物對膜系統(tǒng)的損害，藥效范圍廣；可代替多種藥劑共同使用，操作簡便。
文檔編號B01D65/06GK101757858SQ20091019892
公開日2010年6月30日 申請日期2009年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月17日
發(fā)明者夏志先 申請人:上海豐信環(huán)?？萍加邢薰?br>