專利名稱：試管架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種化學(xué)試驗(yàn)室放置試管用的試管架。
背景技術(shù)：
目前在化學(xué)試驗(yàn)室中所用的試管架為架體上開有架孔，在底座上有凹陷，放置試 管時(shí)將試管從架孔插入，試管的底部嵌在凹陷中，不過(guò)當(dāng)洗刷試管后，必然會(huì)有殘余的水存 在凹陷中，對(duì)實(shí)驗(yàn)操作產(chǎn)生不利的影響，尤其是加熱試管的操作，如果溫度較高的試管放置 在有少量水的凹陷中，底部局部遇冷收縮，容易產(chǎn)生破裂，即使不立即破裂，也會(huì)影響試管 的使用壽命。
發(fā)明內(nèi)容為克服上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種試管架，解決了洗刷試管后在凹陷中殘留 少量水的問(wèn)題。本實(shí)用新型解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案是由底座、架體組成，架體的上表面有架 孔，底座對(duì)應(yīng)架孔的位置有凹陷，凹陷通過(guò)排水槽連接底座的邊緣，排水槽靠近凹陷一端高 于靠近底座邊緣一端。本實(shí)用新型采用這樣的結(jié)構(gòu)，能及時(shí)排出洗刷試管后在凹陷中殘留少量水，結(jié)構(gòu) 簡(jiǎn)單、效果好。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖圖中1、底座，2、架體，3、架孔，4、凹陷，5、排水槽。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型由底座1、架體2組成，架體2的上表面有架孔3，底座1 對(duì)應(yīng)架孔3的位置有凹陷4，凹陷4通過(guò)排水槽5連接底座1的邊緣，排水槽5靠近凹陷4 一端高于靠近底座1邊緣一端。
權(quán)利要求1. 一種試管架，由底座、架體組成，所述架體的上表面有架孔，所述底座對(duì)應(yīng)所述架孔 的位置有凹陷，其特征在于所述底座上有排水槽，所述凹陷通過(guò)所述排水槽連接所述底座 的邊緣，所述排水槽靠近所述凹陷一端高于靠近所述底座邊緣一端。
專利摘要一種試管架，解決了洗刷試管后殘留少量水的問(wèn)題，由底座(1)、架體(2)組成，架體(2)的上表面有架孔(3)，底座(1)對(duì)應(yīng)架孔(3)的位置有凹陷(4)，凹陷(4)通過(guò)排水槽(5)連接底座(1)的邊緣，排水槽(5)靠近凹陷(4)一端高于靠近底座(1)邊緣一端。采用這樣的結(jié)構(gòu)，能及時(shí)排出洗刷試管后在凹陷中殘留少量水，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、效果好。
文檔編號(hào)B01L9/06GK201862428SQ201020635188
公開日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2010年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月1日
發(fā)明者李艷君 申請(qǐng)人:李艷君