專利名稱:適用于石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)的噴淋管路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種適用于石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)的噴淋管路,屬于環(huán)境保護領(lǐng)域。
背景技術(shù):
在石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)運行時,脫硫塔的噴淋層經(jīng)常出現(xiàn)堵塞現(xiàn)象,分析其原因有多種,比較常見的有(1)系統(tǒng)設(shè)計的噴淋層噴嘴內(nèi)徑較小,而煙氣的高含硫率導致噴淋漿液的含固率負荷過高,引起噴嘴堵塞;(2)除霧器上石膏液滴會沿內(nèi)壁流下,沉積在除霧器下方噴淋層上而引起堵塞;C3)噴嘴流量較小或循環(huán)漿液泵停運時, 石膏漿液沉積量將很快增多,管徑較小的支管容易結(jié)垢堵塞。中國發(fā)明專利申請200810024414. 2針對原因(1)公開了一種應用于電廠或大型鍋爐上煙氣脫硫系統(tǒng)中的脫硫噴嘴,由法蘭、接管、噴嘴本體,霧化部件和內(nèi)襯管組成。其特征在于霧化部件采用99. 9%氧化鋁陶瓷或碳化硅陶瓷制成;內(nèi)襯管和噴嘴本體采用鉻鉬合金鋼制成;法蘭、接管和壓蓋采用316L不銹鋼制成。在保證原有噴嘴噴射方式不變的情況下,提高了噴嘴的耐腐蝕性、耐磨性、耐氧化性,從而保證了流道通暢,無阻礙。對于原因O),通??梢酝ㄟ^加強監(jiān)視各級除霧器的壓差來避免堵塞現(xiàn)象,若出現(xiàn)高壓差,則說明存在結(jié)垢堵塞現(xiàn)場,及時采取措施解決。而對于原因( ,目前采用最多的應對措施是保證噴淋管內(nèi)漿液的持續(xù)運行或?qū)苈愤M行間歇性反沖洗。其不足之處在于前者造成了大量的能源浪費;后者不僅需要消耗大量潔凈水,還會降低漿液的PH值。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種噴淋管路,解決了石灰石/電石渣-石膏法噴淋系統(tǒng)中噴淋管路流量較小或循環(huán)漿液泵停運時,石膏漿液沉積量將增多,管徑較小的支管容易結(jié)垢堵塞的問題。—種適用于石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)的噴淋管路,包括若干根漿液輸入管和帶噴頭的噴淋管,所述的噴淋管一端交匯于一圓心收集區(qū),并呈輻射狀均勻分布, 另一端與豎直環(huán)繞它們的漿液輸入管連接,所述圓心處收集區(qū)包括圓柱形的收集盤、可調(diào)噴頭和清水閥;所述的噴淋管的一端交匯于收集盤,噴淋管與收集盤的連接點交錯設(shè)置,收集盤下端連接可調(diào)噴頭,上端連接清水管,清水管上設(shè)置清水閥;所述的收集盤的高度低于漿液輸入管的底端高度,使得噴淋管傾斜與水平面形成一夾角。所述噴淋管的根數(shù)可根據(jù)具體實施方案確定,每根噴淋管之間的夾角α相等,α 與輻射噴淋管根數(shù)X的關(guān)系符合X = 360/ α。優(yōu)選地,所述的噴淋管連接圓心收集區(qū)的一端內(nèi)腔設(shè)有擋板,擋板的厚度由靠近圓心收集區(qū)的一端向外逐漸減小,其具體尺寸可根據(jù)實際工程需要變化,作用為調(diào)節(jié)噴淋管不同位置處管徑以保持不同噴頭處壓力一致;每根噴淋管布置的噴頭數(shù)量可根據(jù)實際工程調(diào)整。所述噴淋管與水平面的夾角β的大小根據(jù)實際工程中煙氣脫硫所需漿液濃度而定,若煙氣中二氧化硫濃度較高,則可適當增加夾角的度數(shù),使得輻射噴淋管內(nèi)漿液不至于在流量較小或漿液泵停止運行時出現(xiàn)沉積而堵塞的現(xiàn)象。優(yōu)選地,所述的噴淋管分為若干組,同組噴淋管與收集盤的連接點在同一圓周上; 根據(jù)實際實施方案中常用的噴淋管根數(shù),一般最優(yōu)設(shè)置兩組,即將噴淋管分為交錯設(shè)置的上下兩層。所述圓心處收集區(qū)包括一個圓柱形的收集盤、可調(diào)噴頭和清水閥。收集盤的作用為當漿液泵停止運行時收集噴淋管內(nèi)流下殘余的漿液;可調(diào)噴頭的作用在噴淋塔不同時期作用各不相同噴淋塔運行時,噴頭的口徑較小,功能與噴淋管上其他噴頭的作用一樣;噴淋塔停止運行時,噴頭口徑調(diào)到最大,清水閥開啟,將收集盤內(nèi)漿液沖刷干凈。本發(fā)明的有益效果為本發(fā)明噴淋管路應用于實際工程時,當噴淋塔處于工作間歇時,即使不保持漿液泵的運行狀態(tài),管路內(nèi)漿液也不會因沉積而堵塞管路;用于清洗收集區(qū)的清水量大大小于用于反沖洗的耗水量。
圖1為噴淋管路俯視圖;圖2為圖1噴淋管路的A-A剖視圖;圖3為圖1噴淋管路的B-B剖視圖;圖4為噴淋管中擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。其中1-收集盤 2-漿液輸入管 3-清水管 4-清水閥 5-可調(diào)噴頭6-擋板 7-噴頭8-噴淋管
具體實施例方式如圖1-4所示的一種適用于石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)的噴淋管路, 包括若干根漿液輸入管2和帶有噴頭7的噴淋管8,噴淋管8 一端交匯于一圓心收集區(qū),呈輻射狀均勻分布,另一端與豎直環(huán)繞它們的漿液輸入管2連接。噴淋管8連接圓心收集區(qū)的一端內(nèi)腔設(shè)有擋板6,擋板6的厚度由靠近圓心收集區(qū)的一端向外逐漸減小。圓心處收集區(qū)包括圓柱形的收集盤1、可調(diào)噴頭5和清水閥4 ;噴淋管8的一端交匯于收集盤1,噴淋管8分為兩組,每組與收集盤1的連接點均在同一圓周上,第一組為上層噴淋管,第二組為下層噴淋管,且上下層噴淋管在收集盤1上的連接點交錯設(shè)置。收集盤1 下端連接可調(diào)噴頭5,上端連接清水管3,清水管3上設(shè)置清水閥4 ;收集盤1的高度低于漿液輸入管2的底端高度,使得噴淋管8傾斜與水平面形成一夾角β。本發(fā)明裝置運行時,來自化漿池的漿液在漿液泵的提升作用下通過漿液輸入管2 進入噴淋管8,在壓力作用下,漿液通過噴頭7霧化為小液滴,對煙氣進行脫硫。噴淋管8中的擋板6,通過改變管路內(nèi)徑,保證了漿液在管路不同位置的壓力大致相等。流過噴淋管8 的漿液在收集盤1中被收集,此時,可調(diào)噴頭5 口徑與噴頭7 —致,作為中心噴頭使用。當噴淋管路處于停止狀態(tài)時,漿液輸入管2、噴淋管8內(nèi)的一部分殘留漿液在重力作用下流入收集盤1 ;同時可調(diào)噴頭5將口徑調(diào)至最大化,清水閥4打開,清水通過清水管3進入收集盤,此時形成的抽吸原理將漿液輸入管2、噴淋管8內(nèi)難以流下的殘余漿液收集、沖刷。應用例1本發(fā)明裝置應用于電石渣/石膏法脫硫時,由于電石渣易磨性較好,且為堿性,對二氧化硫的去除效果由于石灰石,因此噴淋管的數(shù)量可以較少(12根),噴淋管之間的夾角 α為30度,與水平面的夾角β為15度。每根噴淋管上的噴頭數(shù)量也相應減少為6個。應用例2本發(fā)明裝置應用于石灰石/石膏法脫硫時,由于石灰石易磨性較差導致粉磨后的漿液顆粒粒徑較大,因此噴淋管的數(shù)量較大(18根),噴淋管之間的夾角α為20度,與水平面之間的夾角β為20度。每根噴淋管上的噴頭數(shù)量也較多,為9個。
權(quán)利要求
1.一種適用于石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)的噴淋管路,包括若干根漿液輸入管( 和帶噴頭(7)的噴淋管(8),其特征在于所述的噴淋管(8) —端交匯于一圓心收集區(qū),并呈輻射狀均勻分布,另一端與豎直環(huán)繞它們的漿液輸入管( 連接;所述圓心處收集區(qū)包括圓柱形的收集盤(1)、可調(diào)噴頭( 和清水閥;所述的噴淋管(8)的一端交匯于收集盤(1),噴淋管(8)與收集盤(1)的連接點交錯設(shè)置,收集盤(1) 下端連接可調(diào)噴頭(5),上端連接清水管(3),清水管上設(shè)置清水閥;所述的收集盤(1) 的高度低于漿液輸入管O)的底端高度,使得噴淋管(8)傾斜與水平面形成一夾角。
2.如權(quán)利要求1所述的噴淋管路,其特征在于所述的噴淋管(8)連接圓心收集區(qū)的一端內(nèi)腔設(shè)有擋板(6),擋板(6)的厚度由靠近圓心收集區(qū)的一端向外逐漸減小。
3.如權(quán)利要求1所述的噴淋管路,其特征在于所述的噴淋管(8)分為若干組,同組噴淋管與收集盤的連接點在同一圓周上。
4.如權(quán)利要求3所述的噴淋管路,其特征在于所述的噴淋管(8)分為2組。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種適用于石灰石/電石渣-石膏法煙氣脫硫系統(tǒng)的噴淋管路,包括若干根漿液輸入管和帶噴頭的噴淋管,所述的噴淋管一端交匯于一圓心收集區(qū),呈輻射狀均勻分布,另一端與豎直環(huán)繞它們的漿液輸入管連接。所述圓心處收集區(qū)包括圓柱形的收集盤、可調(diào)噴頭和清水閥;所述的噴淋管的一端交匯于收集盤,噴淋管與收集盤的連接點交錯設(shè)置,收集盤下端連接可調(diào)噴頭,上端連接清水管,清水管上設(shè)置清水閥;所述的收集盤的高度低于漿液輸入管的底端高度,使得噴淋管傾斜與水平面形成一夾角。當噴淋塔處于工作間歇時,即使不保持漿液泵的運行狀態(tài),管路內(nèi)漿液也不會因沉積而堵塞管路;用于清洗收集區(qū)的清水量大大小于用于反沖洗的耗水量。
文檔編號B01D53/80GK102179158SQ20111007364
公開日2011年9月14日 申請日期2011年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月25日
發(fā)明者馮華軍, 宋二喜, 廖 燕, 張弛, 汪美貞, 沈東升, 賴浪平, 陳應強 申請人:浙江工商大學