專利名稱：等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，尤其涉及一種在等離子產(chǎn)生裝置中，經(jīng)加工后而產(chǎn)生的一部分排出氣體進行再利用的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體元件經(jīng)酸化、蝕刻、蒸著及光刻等多種工程而制成，在此工程中使用多種有毒性化學(xué)藥品及化學(xué)氣體。最近隨著中微半導(dǎo)體元件的制造不斷增加，這種制造工程中的有毒氣體的用量也隨之增大，如四氟乙烯、四氟化碳、八氟丙烷、全氟丁烷、三氟化氮、六氟化硫等全氟燒混合物(PerFluoro Compound,以下簡稱PFC),上述化學(xué)氣體的毒性強,被排入大氣中時，會對人體產(chǎn)生致命影響，并導(dǎo)致嚴重的環(huán)境污染。全氟烷混合物分解為穩(wěn)定的化合物的時間一般需要1000至10000年，因此可長久 性的殘存在地球上，導(dǎo)致環(huán)境污染的同時，造成全球變暖。因此，必須使其有害成分的含量降至環(huán)境許可的程度，并通過無毒化處理工程使其毒性消除，方可排入大氣中。也就是說，通過類似于現(xiàn)有的等離子產(chǎn)生裝置中所使用的滌氣機等氣體凈化裝置，使有毒氣體得以凈化后，排向大氣。現(xiàn)有技術(shù)中的等離子產(chǎn)生裝置的排氣系統(tǒng)不能對已使用的氣體進行再次使用，氣體全部被排向外部。要將工程中排出的所有氣體都進行處理的話，就需要有一定規(guī)模的等離子產(chǎn)生裝置，相對而言，氣體處理工程的費用就會隨之增大。所使用的氣體也不能得到充分利用，導(dǎo)致資源浪費。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是解決上述現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，尤其是提供一種等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，通過本系統(tǒng)來再次使用等離子產(chǎn)生裝置中已使用的部分氣體，從而減少資源浪費，降低工程成本，最大程度地降低大氣污染。本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下一種等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)包括內(nèi)部配置有等離子產(chǎn)生裝置的空間室；末端與等離子產(chǎn)生裝置連接，并向所述等離子裝置供氣的供氣管；一端與所述等離子產(chǎn)生裝置連接的吸氣管；與所述吸氣管的另一端連接的氣泵；一端與所述氣泵連接，另一端連在所述供氣管的首端與尾端之間的輔助供氣管；與所述空間室連接，將所述空間室內(nèi)的氣體排出的排氣口 ；所述空間室內(nèi)的一部分氣體，因所述氣泵而被吸入所述吸氣管，經(jīng)過所述輔助供氣管和所述供氣管，再次供向所述等離子產(chǎn)生
>J-U裝直。在所述氣泵的前方，所述氣泵和空間室之間安裝有過濾器。在所述供氣管中，經(jīng)首端流入的新氣體與經(jīng)所述輔助供氣管供給的再使用氣體混合，并供向所述等離子產(chǎn)生裝置。還包括控制部，所述控制部由設(shè)置在所述供氣管首端的開閉閥及設(shè)置在所述供氣管和輔助供氣管的連接部位與所述供氣管的尾端之間的氣體濃度測定感應(yīng)器構(gòu)成；所述控制部控制所述開閉閥的開閉及所述氣泵的旋轉(zhuǎn)數(shù)，使所述感應(yīng)器測定的氣體濃度與事先設(shè)定的值相符。在所述感應(yīng)器測定的氣體濃度較低時，所述控制部加大所述開閉閥的開放程度，并降低所述氣泵的旋轉(zhuǎn)數(shù)；在所述氣體濃度較高時，所述控制部減小所述開閉閥的開放程度，并增加所述氣泵的旋轉(zhuǎn)數(shù)。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明所提供的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，可再次使用等離子產(chǎn)生裝置中已使用的部分氣體，從而減少資源浪費，降低工程成本，最大程度地降低大氣污染。


圖I是本發(fā)明實施方式的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
具體實施例方式圖I是本發(fā)明實施方式的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。如圖I所示，本發(fā)明的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，包括空間室110、等離子產(chǎn)生裝置120、供氣管130、吸氣管140、過濾器145、氣泵150、輔助供氣管160、排氣口 170、控制部180、開閉閥190、感應(yīng)器195等?？臻g室110的內(nèi)部配有等離子產(chǎn)生裝置120。等離子產(chǎn)生裝置120因流入的氣體,而產(chǎn)生等離子,并加工基板。供氣管130的末端與等離子產(chǎn)生裝置120連接，并向等離子產(chǎn)生裝置120供氣。吸氣管140的一端與等離子產(chǎn)生裝置120連接，另一端與氣泵150連接。氣泵150與吸氣管140的另一端連接，空間室110內(nèi)部的氣體通過吸氣管140，并流經(jīng)輔助供氣管160后被排出。輔助供氣管160的一端與氣泵150連接，另一端連接在供氣管130的首端和尾端之間?？臻g室110內(nèi)部的一部分氣體因氣泵150而被吸入吸氣管140，并流經(jīng)輔助供氣管160和供氣管130，然后被再次供向等離子產(chǎn)生裝置120。也就是說，在供氣管130中，通過首端流入的新氣體和通過輔助供氣管160供給的再使用氣體混合，并供向等離子產(chǎn)生裝置120。此外，在氣泵150的前方安裝有過濾器145，過濾器145可過濾與從空間室110內(nèi)流經(jīng)吸氣管140并流入氣泵150的氣體一起流入的細微灰塵或其他異物。從而使輔助供氣管160內(nèi)的氣體通過過濾器145而被過濾，并干凈地排放出來。排氣口 170與空間室110連接，將空間室110內(nèi)的氣體排放出來。排氣口 170與氣體凈化設(shè)備連接，凈化排放氣體。供氣管130的首端上設(shè)有開閉閥190，在供氣管130和輔助供氣管160的連接部與供氣管130尾端之間，設(shè)有感應(yīng)器195。開閉閥190可調(diào)節(jié)通過供氣管130流入的新氣體的量。感應(yīng)器195可測定通過供氣管130流入的氣體的濃度。控制部180控制開閉閥190的開閉及氣泵150的旋轉(zhuǎn)數(shù)，使因感應(yīng)器195而測定的氣體濃度與事前設(shè)定的值相符。也就是說，當(dāng)感應(yīng)器195所測定的氣體濃度較低時，控制部180加大開閉閥190的開放程度，并降低氣泵150的旋轉(zhuǎn)數(shù)，從而增加新氣體的量，提高氣體的濃度。當(dāng)感應(yīng)器195所測定的氣體濃度較高時，控制部180減小開閉閥190的開放程度，并增加氣泵150的旋轉(zhuǎn)數(shù)，從而減少新氣體的量，降低氣體的濃度。開閉閥190根據(jù)需要，可另外附加安裝在吸氣管140或/及輔助供氣管160上。接下來，詳細說明上述構(gòu)造的本發(fā)明等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)的運作方法。通過通過供氣管130向配置在空間室110內(nèi)部的等離子產(chǎn)生裝置120供氣，并產(chǎn)生等離子，進行作業(yè)。當(dāng)空間室110內(nèi)的氣體被充至一定程度后，所使用的部分氣體通過排氣口 170而被凈化，所使用的部分氣體流向吸氣管140。通過氣泵150，使所使用的部分氣體流入吸氣管140。 因氣泵150的啟動，空間室110內(nèi)的所使用的部分氣體通過吸氣管140，流經(jīng)輔助供氣管160后排出。此時，在氣泵150的前方安裝有過濾器145，過濾器145可過濾在空間室110內(nèi)作業(yè)時而產(chǎn)生的細微灰塵及其他異物。從而使從輔助供氣管160派出的再使用氣體可干凈地流入供氣管130。因此，在上述供氣管130中，新氣體和再使用的氣體混合后，被供向等離子產(chǎn)生裝置120。另外，通過輔助供氣管160而被供給的再使用氣體因已經(jīng)被使用過，氣體成分的濃度較低，在供氣管130首端供入的新氣體的氣體成分濃度則較高。感應(yīng)器195因設(shè)置在供氣管130和輔助供氣管160的連接部與供氣管130尾端之間，可測定新氣體和再使用氣體混合后的氣體的濃度。此時，感應(yīng)器195所測定的氣體濃度與事先設(shè)定的值不符時，控制部180控制開閉閥190的開閉及/或氣泵150的旋轉(zhuǎn)數(shù)。舉例說明，當(dāng)感應(yīng)器195所測定的氣體濃度較低時，控制部180加大開閉閥190的開放程度，并降低氣泵150的旋轉(zhuǎn)數(shù)，從而增加新氣體的量，提高氣體的濃度。當(dāng)感應(yīng)器195所測定的氣體濃度較高時，控制部180減小開閉閥190的開放程度，并增加氣泵150的旋轉(zhuǎn)數(shù)，從而減少新氣體的量，降低氣體的濃度。通過上述本發(fā)明所提供的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，可再次使用等離子產(chǎn)生裝置中已使用的部分氣體，從而減少資源浪費，降低工程成本，最大程度地降低大氣污染。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施方式，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于所述等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)包括內(nèi)部配置有等離子產(chǎn)生裝置的空間室；末端與等離子產(chǎn)生裝置連接，并向所述等離子裝置供氣的供氣管；一端與所述等離子產(chǎn)生裝置連接的吸氣管；與所述吸氣管的另一端連接的氣泵；一端與所述氣泵連接，另一端連在所述供氣管的首端與尾端之間的輔助供氣管；與所述空間室連接，將所述空間室內(nèi)的氣體排出的排氣ロ ；所述空間室內(nèi)的一部分氣體，因所述氣泵而被吸入所述吸氣管，經(jīng)過所述輔助供氣管和所述供氣管，再次供向所述等離子產(chǎn)生裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，其特征在干在所述氣泵的前方，所述氣泵和空間室之間安裝有過濾器。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，其特征在干在所述供氣管中，經(jīng)首端流入的新氣體與經(jīng)所述輔助供氣管供給的再使用氣體混合，并供向所述等離子產(chǎn)生裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，其特征在干還包括控制部，所述控制部由設(shè)置在所述供氣管首端的開閉閥及設(shè)置在所述供氣管和輔助供氣管的連接部位與所述供氣管的尾端之間的氣體濃度測定感應(yīng)器構(gòu)成；所述控制部控制所述開閉閥的開閉及所述氣泵的旋轉(zhuǎn)數(shù)，使所述感應(yīng)器測定的氣體濃度與事先設(shè)定的值相符；在所述感應(yīng)器測定的氣體濃度較低時，所述控制部加大所述開閉閥的開放程度，并降低所述氣泵的旋轉(zhuǎn)數(shù)；在所述氣體濃度較高時，所述控制部減小所述開閉閥的開放程度，并增加所述氣泵的旋轉(zhuǎn)數(shù)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)，尤其涉及一種在等離子產(chǎn)生裝置中，經(jīng)加工后而產(chǎn)生的一部分排出氣體進行再利用的等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)。所述等離子廢氣循環(huán)系統(tǒng)包括內(nèi)部配置有等離子產(chǎn)生裝置的空間室；末端與所述等離子產(chǎn)生裝置連接，向所述等離子裝置供氣的供氣管；一端與所述等離子產(chǎn)生裝置連接的吸氣管；與所述吸氣管的另一端連接的氣泵；一端與所述氣泵連接，另一端連在所述供氣管的首端與尾端之間的輔助供氣管；與所述空間室連接，將所述空間室內(nèi)的氣體排出的排氣口。所述空間室內(nèi)的一部分氣體，因所述氣泵而被吸入所述吸氣管，經(jīng)過所述輔助供氣管和所述供氣管，再次供向所述等離子產(chǎn)生裝置。
文檔編號B01D53/70GK102794091SQ201110138699
公開日2012年11月28日 申請日期2011年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月26日
發(fā)明者樸鐘仁 申請人:株式會社 Biemt