專利名稱：使用聚集的太陽(yáng)光的熱氧化器的改進(jìn)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及熱氧化器的改進(jìn)，特別地，涉及太陽(yáng)光作為能源在揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)的氧化中的使用。
背景技術(shù)：
通過(guò)熱氧化過(guò)程處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物以破壞它們是眾所周知的。通常情況下，已知的是加熱揮發(fā)性有機(jī)化合物到超過(guò)750°c的溫度，并且在存在足夠的氧化劑用于產(chǎn)生完全燃燒的情況下，將揮發(fā)性有機(jī)化合物保持在該溫度至少兩秒鐘的停留時(shí)間。代替地，揮發(fā)性有機(jī)化合物可以在沒(méi)有氧氣存在的情況下以不小于兩秒鐘的停留時(shí)間被加熱，以將揮發(fā)性有機(jī)化合物分子打破成主要是小分子種類(如H2、CO、CO2和H2O)的合成氣體(合成氣)。這個(gè)過(guò)程也已知為熱分解。 已經(jīng)提出，太陽(yáng)能可以用來(lái)至少部分地提供必要的熱量用于揮發(fā)性有機(jī)化合物的處理。然而，在使用來(lái)自太陽(yáng)光的能量來(lái)加熱大量揮發(fā)性有機(jī)化合物時(shí)，存在一些實(shí)際問(wèn)題。揮發(fā)性有機(jī)化合物是不透明氣體，如基本上不被太陽(yáng)光穿透。這樣的結(jié)果是，如果聚集的太陽(yáng)光被引導(dǎo)進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物的儲(chǔ)存器中，僅鄰近太陽(yáng)光的進(jìn)入點(diǎn)的氣體被加熱。聚集的太陽(yáng)光產(chǎn)生強(qiáng)烈的、聚集形式的熱量，并且因此，如果用于加熱揮發(fā)性有機(jī)化合物，太陽(yáng)光無(wú)法穿透揮發(fā)性有機(jī)化合物導(dǎo)致局部加熱和熱點(diǎn)發(fā)生。正如上文所述，對(duì)于將氧化的揮發(fā)性有機(jī)化合物，需要將揮發(fā)性有機(jī)化合物保持在其升高的溫度下最少的停留時(shí)間。在具有在其中處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物的大的腔的系統(tǒng)中，這通常意味著該腔的全部?jī)?nèi)容物必須被保持在最低的溫度處。在容易出現(xiàn)熱點(diǎn)的系統(tǒng)中，如果輸入適當(dāng)量的能量以將全部?jī)?nèi)容物保持在最低所需溫度處，雖然平均溫度和停留時(shí)間可以滿足氧化要求，但熱點(diǎn)的存在導(dǎo)致處理腔中存在具有低于最低所需溫度的溫度的區(qū)域，即具有非常不均勻的溫度分布。通常通過(guò)用來(lái)確保整個(gè)處理區(qū)域內(nèi)的最低保持溫度以實(shí)現(xiàn)完全氧化的多余能量克服這類問(wèn)題。由此太陽(yáng)光的利用可能是提供熱量用于揮發(fā)性有機(jī)化合物的處理的不可靠方式，并且其效率沒(méi)有最大化。此外，在揮發(fā)性有機(jī)化合物在被用熱的方法加熱而不燃燒并且產(chǎn)生合成氣的情況下，期望將合成氣加熱到較高溫度，通常超過(guò)1000°c，從而打破合成氣中的長(zhǎng)鏈烴分子，例如焦油。這通常在相同的腔中利用不會(huì)氧化揮發(fā)性有機(jī)化合物的加熱系統(tǒng)進(jìn)行。在這種情況中，問(wèn)題甚至是更大的，因?yàn)閾]發(fā)性有機(jī)化合物(大和小分子)基本上是不透明的，因此聚集的太陽(yáng)光根本不能穿透。因此，使用聚集的太陽(yáng)光以提供能量來(lái)加熱合成氣遇到與在用于處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物中使用聚集的太陽(yáng)光的使用相關(guān)聯(lián)的相同問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供用于處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物的聚集的太陽(yáng)光的改進(jìn)使用的設(shè)備和方法。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，用于處理基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物，所述處理設(shè)備包括處理腔，揮發(fā)性有機(jī)化合物在處理腔中被處理；太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置，所述太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置包括管狀結(jié)構(gòu)，所述管狀結(jié)構(gòu)具有第一端部，位于處理腔的外部，并且具有第一入口和第二入口，聚集的太陽(yáng)光通過(guò)第一入口被接收，大致光學(xué)上透明的氣體流通過(guò)第二入口被接收；和第二端部，通向處理腔并且終止在噴嘴中，噴嘴提供用于大致光學(xué)上透明的氣體和聚集的太陽(yáng)光的出口 ；其中，在使用中，光上透明的氣體以射流排出所述太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的第二端部，以在處理腔內(nèi)的基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物中形成光學(xué)上透明的區(qū)域，太陽(yáng)光能夠在所述光學(xué)上透明的區(qū)域中傳播。通過(guò)提供大致光學(xué)上透明的氣體流進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物，在處理設(shè)備中形成區(qū)域，該區(qū)域在使用中將充滿基本上光學(xué)不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物，聚集的太陽(yáng)光可以通過(guò)該揮發(fā)性有機(jī)化合物進(jìn)入該設(shè)備。因此，來(lái)自太陽(yáng)光的能量因而可以穿透揮發(fā)性有機(jī)化 合物到較大深度。此外，朝向進(jìn)入該設(shè)備的大致光學(xué)上透明的氣體的射流的端部，大致光學(xué)上透明的氣體在一距離內(nèi)將開(kāi)始與揮發(fā)性有機(jī)化合物混合，即大致光學(xué)上透明的氣體的流動(dòng)將逐漸變得更稀。這樣做的結(jié)果在于，代替來(lái)自太陽(yáng)光的全部能量在小區(qū)域中沉積進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物(如將是其中不存在揮發(fā)性有機(jī)化合物的逐漸稀釋的情況)，能量可以在較大區(qū)域內(nèi)沉積進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物。在優(yōu)選的布置中，揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備還包括控制裝置，控制裝置適于在所述大致光學(xué)上透明的氣體排出噴嘴時(shí)控制大致所述光學(xué)上透明的氣體的速度，從而改變所述光學(xué)上透明的區(qū)域在揮發(fā)性有機(jī)化合物內(nèi)的深度，并且因此改變聚集的太陽(yáng)光在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透深度。通過(guò)控制大致光學(xué)上透明的氣體的速度，可以改變大致光學(xué)上透明的氣體將將穿透揮發(fā)性有機(jī)化合物以形成用于太陽(yáng)光的光學(xué)通路的深度。以這種方式，來(lái)自太陽(yáng)光的能量可以在不同的穿透深度處被傳輸進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物。優(yōu)選地，所述處理設(shè)備進(jìn)一步包括電控制單元，所述電控制單元控制用于控制所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度的所述控制裝置，從而保持熱氧化器的內(nèi)容物超過(guò)750°C當(dāng)在750°C以上需要兩秒鐘的停留時(shí)間以破壞揮發(fā)性有機(jī)化合物時(shí)，那么溫度的局部變化可能影響處理的效率。通過(guò)改變速度，因此改變太陽(yáng)能的穿透深度，可以設(shè)置在處理腔的不同區(qū)域中局部加熱，以減少或消除低于750°C的局部冷點(diǎn)。在優(yōu)選的布置中，控制器周期性地增大和減小所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度，從而周期性地增大和減小聚集的太陽(yáng)光在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透。以這種方式，來(lái)自聚集的太陽(yáng)光的能量被傳遞的“熱區(qū)”可以橫掃處理腔的不同深度，因此沿著處理腔的高度沉積能量。此外，通過(guò)延伸聚集的太陽(yáng)光的深度，太陽(yáng)光柱的表面積憑借增加太陽(yáng)光柱的長(zhǎng)度而增加。表面積的增加顯著地增加從太陽(yáng)光柱內(nèi)側(cè)的更熱的傳輸氣體傳輸進(jìn)入處理腔中的熱量，因?yàn)樗沟媚軌虬l(fā)射更大量的熱輻射傳輸，由下式給出P = e σ A (T4-TC4)
其中P =凈福射功率；e =福射率；σ = Stefan常數(shù)；A =福射面積；T =太陽(yáng)光柱的溫度jPTc =熱氧化器中的溫度。當(dāng)由輻射引起的熱量傳輸與溫度差的四次冪成比例時(shí)，增加這種輻射顯著地增加傳遞到處理腔的熱量。在代替的優(yōu)選實(shí)施例中，該設(shè)備可以包括多個(gè)傳感器，用于輸出指示在處理腔中的不同位置處的局部溫度的信號(hào)；并且其中，所述電控制單元接收來(lái)自傳感器的信號(hào)，并且響應(yīng)于所述信號(hào)控制所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度，從而聚集的太陽(yáng)光穿透處理腔到所需的深度，以在所需的深度中提供局部加熱。以這種方式，可以提供封閉環(huán)反饋，其測(cè)量處理腔內(nèi)的局部溫度，并且然后可以響應(yīng)于測(cè)得的溫度引導(dǎo)來(lái)自聚集的太陽(yáng)光的能量，以優(yōu)選地確保整個(gè)處理腔內(nèi)的大致恒定溫度，但是最低地，確保處理腔沒(méi)有區(qū)域低于750°C。在一個(gè)布置中，揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備可以包括熱氧化器，并且揮發(fā)性有機(jī)化合物在氧氣存在的情況下在揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備中完全燃燒。在這種布置中，排出每個(gè)噴嘴的揮發(fā)性有機(jī)化合物可以被燃燒并且每個(gè)噴嘴可以包括燃燒器。在代替的布置中，該裝置可以包括氣體發(fā)生器，揮發(fā)性有機(jī)化合物在缺氧的情況下被加熱以產(chǎn)生填滿CO和H2的合成氣。該設(shè)備還可以包括合成氣出口 ；合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)，用于將合成氣轉(zhuǎn)化為電能；和合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)排氣再循環(huán)管，連接到合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣出口和太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的用于大致光學(xué)上透明的氣體的入口；其中來(lái)自合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣包括所述大致光學(xué)上透明的氣體。在一種布置中，該設(shè)備還包括用于后燃?xì)怏w的排氣出口 ；再循環(huán)導(dǎo)管，用于將后燃?xì)怏w輸送到太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的大致光學(xué)上透明的氣體的入口 ；其中所述后燃?xì)怏w包括所述大致光學(xué)上透明的氣體。燃燒后排氣的至少一部分在系統(tǒng)內(nèi)重新循環(huán)。由于合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣將包括大比例的CO2和具有相對(duì)高的熱容量的H2O,在這種實(shí)施例中，作為太陽(yáng)光束的結(jié)果，排氣將甚至變得被加熱到更高程度，因?yàn)榕艢鈱⑼ㄟ^(guò)該裝置并用作聚集的太陽(yáng)光和揮發(fā)性有機(jī)化合物之間的另一個(gè)熱傳輸機(jī)構(gòu)。在這種情況下，熱傳遞將受益于CO2和H2O的光學(xué)和熱學(xué)性能，并且因此太陽(yáng)光柱將載送來(lái)自太陽(yáng)的更高能量，并且提供甚至較高的增強(qiáng)的熱傳輸?shù)教幚砬坏钠溆嗖糠帧Ｔ趦?yōu)選的結(jié)構(gòu)中，噴嘴包括用于聚集的太陽(yáng)光和大致光學(xué)傳輸氣體的共用中央流路和圍繞中央流路的同心流路，同心流路用于在使用中載送揮發(fā)性有機(jī)化合物流。任選地，另一個(gè)同心流路可以圍繞揮發(fā)性有機(jī)化合物流路并在使用中載送氧化劑的流。在這種方式中，在揮發(fā)性有機(jī)化合物進(jìn)入時(shí)，該設(shè)備立即在聚集的太陽(yáng)光附近這樣做，到進(jìn)入該設(shè)備的揮發(fā)性有機(jī)化合物的熱傳輸可以被迅速地加熱。此外，在沒(méi)有足夠太陽(yáng)光使聚集太陽(yáng)光加熱有效的幾小時(shí)期間，噴嘴可以用來(lái)以沒(méi)有太陽(yáng)光輔助的標(biāo)準(zhǔn)方式使燃燒揮發(fā)性有機(jī)化合物和氧化劑燃燒。在優(yōu)選布置中，用于聚集的太陽(yáng)光的入口包括透鏡，該透鏡用于改變?nèi)肷湓谕哥R上的光的方向以產(chǎn)生平行光。在這種方式中，聚集的太陽(yáng)光的強(qiáng)度大致獨(dú)立于離開(kāi)其入口的距離，并且因此加熱特性將獨(dú)立于太陽(yáng)光進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物的滲透深度保持基本恒定。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，所述控制裝置包括用于控制光學(xué)上透明的氣體的速度的流量控制閥。在代替的優(yōu)選的實(shí)施例中，管狀結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度是可變的，并且控制裝置包括改變管狀結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度，以在使用中，增加或減少通過(guò)管狀結(jié)構(gòu)的大致光學(xué)上透明的氣體的停留時(shí)間，以控制管狀結(jié)構(gòu)中的氣體的溫度，并且因此控制管狀結(jié)構(gòu)中的氣體的膨脹，從而在氣體通過(guò)管狀結(jié)構(gòu)并且排出噴嘴時(shí)加速氣體到較大或較小程度。以這種方式，來(lái)自太陽(yáng)光本身的能量可以用來(lái)加速大致光學(xué)上透明的氣體。在進(jìn)一步優(yōu)選的實(shí)施例中，控制裝置可以包括可變幾何形狀噴嘴，其中改變噴嘴的幾何形狀導(dǎo)致通過(guò)噴嘴氣體加速到更大或更小程度。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種用于處理基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物的方法，包括下述步驟將揮發(fā)性有機(jī)化合物包含在揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔中；引導(dǎo)大致 光學(xué)上透明的氣體的射流通過(guò)噴嘴進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔，以在處理腔中形成大致光學(xué)上透明的路徑；以及通過(guò)同一噴嘴將聚集的太陽(yáng)光與大致光學(xué)上透明的氣體的射流同心地引導(dǎo)進(jìn)入處理腔，以提高處理腔中的揮發(fā)性有機(jī)化合物的溫度。該方法可以進(jìn)一步包括下述步驟改變進(jìn)入處理腔的大致光學(xué)上透明的氣體的速度，從而改變大致光學(xué)上透明的路徑在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透深度，并且因此改變聚集的太陽(yáng)光在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透深度。優(yōu)選的方法包括下述步驟獲得指示在所述處理腔內(nèi)的多個(gè)位置處的溫度的電信號(hào)；處理所述電信號(hào)以確定處理腔的哪些區(qū)域需要太陽(yáng)能，以提高這些區(qū)域的溫度；以及控制所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度以傳送太陽(yáng)能到需要太陽(yáng)能的區(qū)域。該方法可以包括引導(dǎo)足夠的氧化劑進(jìn)入處理腔以在處理腔中實(shí)現(xiàn)揮發(fā)性有機(jī)化合物的全部熱氧化。代替地，它可以包括下述步驟消耗處理腔的大氣中的氧氣，從而在處理腔中實(shí)現(xiàn)揮發(fā)性有機(jī)化合物的熱分解，使得揮發(fā)性有機(jī)化合物基本上熱分解成較小的分子，以產(chǎn)生主要填滿CO和H2的合成氣。含有合成氣的這種CO和H2可以從處理腔中提取，并用于為發(fā)動(dòng)機(jī)提供動(dòng)力，并且來(lái)自合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的后燃排氣(主要是然后被燃燒，并且主要由CO2和H2O和組成)可以被重新循環(huán)，并且被作為所述大致光學(xué)上透明的氣體弓I導(dǎo)進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔中。該方法可以包括引導(dǎo)基本上不透明的介質(zhì)進(jìn)入所述大致光學(xué)上透明的氣體，從而減小聚集的太陽(yáng)光在處理腔中的穿透深度。在一些情況下，來(lái)自燃燒室的信號(hào)可以要求太陽(yáng)光沉積較少能量在處理腔的該深度中，和沉積更多的能量在處理腔的上部中，并且為實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，光學(xué)上透明的氣體需要具有減小的透光度從而迫使太陽(yáng)的能量束接近該腔的頂部沉積其能量。這通過(guò)引導(dǎo)至少部分不透明的物質(zhì)(例如灰、非燃燒器揮發(fā)性有機(jī)化合物等)進(jìn)入光學(xué)上透明的氣體而實(shí)現(xiàn)。這將增加該裝置的控制的附加的靈活性。特別地，在處理腔處理來(lái)自其中揮發(fā)性有機(jī)化合物輸出隨著時(shí)間的推移變化的批處理系統(tǒng)的揮發(fā)性有機(jī)化合物時(shí)，可能需要這樣的系統(tǒng)。有時(shí)，在產(chǎn)生較少揮發(fā)性有機(jī)化合物時(shí)，在處理腔中的氣體的不透明度將較低(由于不透明揮發(fā)性有機(jī)化合物的較低百分比含量)，并且光學(xué)上透明的氣體的不透明度沿著聚集的陽(yáng)光的進(jìn)入路徑的增加防止太陽(yáng)光穿透至和可能破壞處理腔的下表面。在另一種布置中，反射顆?；驓怏w(例如鋁粉塵或其他金屬粉塵)被引入大致光學(xué)上透明的氣體，從而反射在所述處理腔內(nèi)的太陽(yáng)能。這種方法使太陽(yáng)光能夠更徑向地和遠(yuǎn)離聚集的太陽(yáng)光束分散其能量，并且因此可以在整個(gè)處理腔中實(shí)現(xiàn)更均勻的熱分散。反射粒子或氣體反射來(lái)自聚集光束的太陽(yáng)光到燃燒室的其他部分，從而在處理腔內(nèi)部實(shí)現(xiàn)更好的溫度均勻性。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種用于處理基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物的方法，包括下述步驟將揮發(fā)性有機(jī)化合物包含在揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔中；引導(dǎo)大致光學(xué)上透明的氣體的射流通過(guò)噴嘴進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔，以在處理腔中形成大致光學(xué)上透明的路徑；以及通過(guò)同一噴嘴將聚集的太陽(yáng)光與大致光學(xué)上透明的氣體的射流同心地引導(dǎo)進(jìn)入處理腔，以提高處理腔中的揮發(fā)性有機(jī)化合物的溫度。


現(xiàn)在將通過(guò)舉例的方式參照附圖描述本發(fā)明的具體實(shí)施例，其中
圖I示出具有根據(jù)本發(fā)明的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的廢物處理系統(tǒng)的透視圖；圖2示出圖I的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的頂視圖；圖3示出圖I的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的頂部的近視圖；圖4示出穿過(guò)根據(jù)本發(fā)明的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的部分剖視圖；圖5示出穿過(guò)根據(jù)本發(fā)明的具有大量多太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的部分剖視圖；圖6示出揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔的頂部的近透視圖，以及全部揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的顯示可變長(zhǎng)度結(jié)構(gòu)的頂視圖；圖7示出在第一操作模式中的裝置；圖8示出在第二操作模式中的裝置；圖9和圖10示出在第三操作模式中的裝置；和圖11示出在第四操作模式中的裝置。
具體實(shí)施例方式參照?qǐng)DI至3，顯示包括廢物處理器2的廢物處理系統(tǒng)，，在廢物處理器2中，諸如有機(jī)涂層廢物和有機(jī)材料之類的材料通過(guò)熱解處理，有機(jī)材料包括用作燃料或能源的生物燃料、工業(yè)廢棄物、城市固體廢物和污泥，如在歐洲專利申請(qǐng)?zhí)朎P1875146中所描述的那樣。廢料的熱解產(chǎn)生包含必須被處理的揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)的熱氣。揮發(fā)性有機(jī)化合物通過(guò)出口導(dǎo)管4排出處理器2，并且被引導(dǎo)到揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置6。揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置6包括大致圓筒形的處理腔24，在處理腔24中通過(guò)燃燒或氣化處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物。位于處理腔的頂部的是多個(gè)太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置8。拋物面反射鏡10收集和集中太陽(yáng)光在鏡子12上，鏡子12又反射被聚集的太陽(yáng)光進(jìn)入太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置8。太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置8通過(guò)在其一端處的入口 14接收被聚集的太陽(yáng)光。入口 14是接收來(lái)自聚能器10和鏡子12的太陽(yáng)光并改變光的路徑以在裝置8中產(chǎn)生平行光的透鏡。代替地，可以理解，鏡子12可以被設(shè)計(jì)為具有適當(dāng)?shù)妮喞?，使得從其反射的光是平行的并且入?14可以包括透明材料。代替地，鏡子和入口配置的尺寸可以形成為使得聚集的太陽(yáng)光具有稍微會(huì)聚的焦點(diǎn)路徑。由于與聚集的太陽(yáng)光相關(guān)的高溫，應(yīng)理解，在入口附近可能需要局部冷卻，以將材料保持在一溫度處，在該溫度處，所述材料在結(jié)構(gòu)上和/或光學(xué)上是完好的。入口 14可以具有關(guān)閉裝置(為清楚起見(jiàn)省略)，以防止聚集的太陽(yáng)光進(jìn)入，例如入口可以具有可拆除的蓋子。代替地和優(yōu)選地，拋物面反射鏡10安裝在電動(dòng)支座上并且在不需要來(lái)自太陽(yáng)光的熱時(shí)，拋物面反射鏡10被移動(dòng)到不將太陽(yáng)光反射到鏡子12上的位置。具體地參照?qǐng)D3和4，裝置的基本操作如下。裝置8具有入口 16，入口 16被連接到大致光學(xué)上透明的氣體的供給裝置34。裝置8具有分別地連接到氧化劑和揮發(fā)性有機(jī)化合物的供給裝置的兩個(gè)另外的入口 20、22。揮發(fā)性有機(jī)化合物的供給裝置被連接到廢物處理器2的出口導(dǎo)管4(圖I)。參照?qǐng)D4，每個(gè)裝置8包括中央管狀導(dǎo)管，大致光學(xué)上透明的氣體通過(guò)所述中央管狀導(dǎo)管。大致光學(xué)上透明的氣體以射流排出噴嘴18的末端，并且清潔在處理裝置的處理腔 24中穿過(guò)不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物的路徑。該裝置具有透明頂部表面，該透明頂部表面用作用于與大致光學(xué)上透明的氣體的射流成一條線地通過(guò)該裝置并且排出噴嘴18的聚集的太陽(yáng)光的入口 14。當(dāng)所述射流清潔不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物中的路徑時(shí)，太陽(yáng)光可以穿透揮發(fā)性有機(jī)化合物到由射流的作用力確定的深度。揮發(fā)性有機(jī)化合物和氧化劑通過(guò)外部同心導(dǎo)管和通過(guò)噴嘴18進(jìn)入處理腔24。大致光學(xué)上透明的氣體、揮發(fā)性有機(jī)化合物和氧化劑的流量可以根據(jù)設(shè)備內(nèi)所需的反應(yīng)改變。同心地圍繞光學(xué)上透明的氣體排出噴嘴的揮發(fā)性有機(jī)化合物和氧化劑也用來(lái)防止光學(xué)上透明的氣體的射流與所述處理腔的內(nèi)容物的湍流混合。這使得光學(xué)上透明的氣體，并且因此聚集的太陽(yáng)光，能夠比沒(méi)有同心流的情況進(jìn)一步穿透到處理腔中。在圖7中所示的第一操作模式中，在存在不足以提供所需熱量的太陽(yáng)光的情況下，不需要大致光學(xué)上透明的氣體并且只要求揮發(fā)性有機(jī)化合物和氧化劑的流動(dòng)。在一種操作模式中，揮發(fā)性有機(jī)化合物在氧氣存在的情況下燃燒成火焰，以完全地燃燒并且在超過(guò)750°C中被保持兩秒的最小時(shí)間周期，從而破壞揮發(fā)性有機(jī)化合物。來(lái)自處理腔的排氣的一部分被重新循環(huán)回到廢物處理器2，并且熱排氣的其余部分通過(guò)出口導(dǎo)管(26，圖I)排出，并且被用于產(chǎn)生蒸汽，蒸汽又例如通過(guò)驅(qū)動(dòng)蒸汽渦輪機(jī)產(chǎn)生動(dòng)力。以這種方式，在有足夠的太陽(yáng)光時(shí)，該設(shè)備可以以常規(guī)的方式用來(lái)通過(guò)完全燃燒熱氧化揮發(fā)性有機(jī)化合物。如用于諸如天然氣之類的燃料的常規(guī)系統(tǒng)一樣，燃燒器也可以被使用以最初提高所述腔的溫度到燃燒溫度，并且此后僅在由被燃燒的揮發(fā)性有機(jī)化合物的體積產(chǎn)生的熱量不足以將處理腔24的溫度保持在所需水平處時(shí)才被使用。例如，這可能在廢物處理器2是其中所產(chǎn)生的揮發(fā)性有機(jī)化合物的水平在整個(gè)過(guò)程中不恒定的批處理裝置時(shí)是需要。代替地，在沒(méi)有太陽(yáng)光的情況下，燃料燃燒器(未顯示)可以被結(jié)合在處理腔中。燃料燃燒器可以被提供有按化學(xué)計(jì)量比添加的燃料和氧化劑，或可以燃燒氧氣和天然氣，或空氣和天然氣，其中所述氧化劑僅以足夠天然氣燃燒的量存在。以這種方式，揮發(fā)性有機(jī)化合物在沒(méi)有氧氣用于其燃燒的環(huán)境中被加熱，因此揮發(fā)性有機(jī)化合物熱分解成較小的分子種類，主要具有C0、H2、C02和H2O,從而以已知方式產(chǎn)生合成氣。在圖8中所示的第二操作模式中，聚集的太陽(yáng)光被允許進(jìn)入裝置8和通過(guò)噴嘴18排出，進(jìn)入處理腔24中。大致光學(xué)上透明的氣體的流動(dòng)被關(guān)閉，并且因此聚集的太陽(yáng)光基本上不穿透揮發(fā)性有機(jī)化合物，但是在揮發(fā)性有機(jī)化合物和氧化劑的進(jìn)入點(diǎn)處提供高的局部加熱。以這種方式，在存在用于完全燃燒的充足氧氣的情況下，聚集的太陽(yáng)光的熱量被用來(lái)加熱揮發(fā)性有機(jī)化合物到他們的燃燒溫度。這樣可以減少和/或消除了對(duì)用來(lái)在由揮發(fā)性有機(jī)化合物的燃燒單獨(dú)提供的熱量不夠時(shí)啟動(dòng)燃燒或升高揮發(fā)性有機(jī)化合物的溫度到其燃燒溫度的任何其它類型的燃料燃燒器的需求。在圖9和圖10中顯示的第三操作模式中，大致光學(xué)上透明的氣體的流動(dòng)被接通，如圖9所示，以射流28排出噴嘴18，射流28移動(dòng)任何揮發(fā)性有機(jī)化合物以形成大致光學(xué)上透明的路徑。圖10顯示聚集的太陽(yáng)光已經(jīng)被引導(dǎo)進(jìn)入裝置8并且從中穿過(guò)，排出噴嘴，并穿過(guò)光上透明的路徑，以加熱進(jìn)一步進(jìn)入處理腔24的揮發(fā)性有機(jī)化合物。當(dāng)光學(xué)上透明的氣體穿過(guò)該裝置時(shí)，它變得被聚集的太陽(yáng)光迅速加熱并且膨脹。在氣體的側(cè)向膨脹被導(dǎo)管阻止時(shí)，氣體縱向地膨脹，在它在中央導(dǎo)管中這樣做時(shí)加速，從而以比在沒(méi)有太陽(yáng)光存在的情況下這樣做時(shí)更快的速度排出射流。因此，在由太陽(yáng)光加熱時(shí)，光學(xué)上透明的氣體的射流比太陽(yáng)光不存在時(shí)(圖9)進(jìn)一步穿透到揮發(fā)性有機(jī)化合物中(圖10)。 通過(guò)入口進(jìn)入處理腔20和22的氧化劑和揮發(fā)性有機(jī)化合物的這種相對(duì)數(shù)量可以變化，使得揮發(fā)性有機(jī)化合物處理可以在具有足夠氧化劑以實(shí)現(xiàn)完全熱氧化的環(huán)境中發(fā)生，或者可以在減少的氧氣環(huán)境中進(jìn)行揮發(fā)性有機(jī)化合物處理，以熱分解揮發(fā)性有機(jī)化合物，從而在處理腔中產(chǎn)生小分子種類的合成氣。在這些模式中的的第二操作模式中，處理腔24可以被保持在通常超過(guò)1000°C的較高的溫度處，從而打破存在于合成氣中的例如焦油等之類的任何長(zhǎng)鏈烴類。在產(chǎn)生合成氣時(shí)，合成氣可以通過(guò)出口 26排出處理腔24，并且被用來(lái)提向合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)提供動(dòng)力以產(chǎn)生電力?，F(xiàn)在參照?qǐng)D5和6，顯示揮發(fā)性有機(jī)化合物處理裝置的頂部具有位于其中的多個(gè)裝置8。裝置8如上文描述的那樣操作。正如從圖5中可以看出，每個(gè)裝置8的中央管狀導(dǎo)管36可以延伸從而增加其長(zhǎng)度。這通過(guò)已知裝置實(shí)現(xiàn)，例如使用伸縮部分實(shí)現(xiàn)。將大致光學(xué)上透明的氣體傳輸?shù)饺肟?16的導(dǎo)管在這種情況中將需要是柔性導(dǎo)管，或者具有用于提供運(yùn)動(dòng)的其它裝置，因?yàn)殡S著光學(xué)上透明的氣體的傳輸，入口 16將根據(jù)中央管狀導(dǎo)管的延伸程度移動(dòng)。當(dāng)中心管狀導(dǎo)管36的延伸延長(zhǎng)光學(xué)上透明的氣體通過(guò)的導(dǎo)管部分時(shí)，用于光學(xué)上透明的氣體與聚集的太陽(yáng)光接觸的停留時(shí)間以及因此光學(xué)上透明的氣體的由聚集的太陽(yáng)光的加熱的時(shí)間的量增加。光學(xué)上透明的氣體的附加加熱的效果是其膨脹到更大程度，因此以更高的速度加速和排出噴嘴18，并且穿透處理腔24中的揮發(fā)性有機(jī)化合物到更大深度(圖11)。以這種方式，光學(xué)上透明的氣體進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物的穿透深度，并且因此來(lái)自每個(gè)裝置8的聚集的太陽(yáng)光進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物的穿透深度，可以通過(guò)延長(zhǎng)或縮短每個(gè)裝置8的中央管狀導(dǎo)管36來(lái)控制。中央管狀導(dǎo)管的伸縮運(yùn)動(dòng)由連接到控制器的電動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)，以能夠電控制每個(gè)裝置8的穿透。處理腔24在其周圍的各個(gè)位置和不同深度處具有多個(gè)溫度傳感器30。所述傳感器檢測(cè)處理腔24的內(nèi)容物的溫度，并且發(fā)送指示溫度的信號(hào)到用于控制所述裝置的控制器(未顯不)。在一種操作模式中，控制器控制伸縮部分周期性地伸出和縮回，使得太陽(yáng)光的滲透深度在處理腔中以掃動(dòng)運(yùn)動(dòng)循環(huán)向上和向下，從而將來(lái)自聚集的太陽(yáng)光能量均勻地分配到處于處理腔24中的不同深度處的揮發(fā)性有機(jī)化合物中。所述多個(gè)裝置8可以被以同步的方式控制，或者所述多個(gè)裝置8可以被彼此異步地控制，使得當(dāng)一個(gè)裝置8加熱一個(gè)深度處的揮發(fā)性有機(jī)化合物時(shí)，其它裝置8加熱其它深度處的揮發(fā)性有機(jī)化合物。在第二操作模式中，控制器接收來(lái)自溫度傳感器30的信號(hào)，并響應(yīng)于所檢測(cè)的溫度控制裝置8的伸出或縮回，從而傳輸來(lái)自聚集的太陽(yáng)光的能量到處理腔24的所需區(qū)域。以這種方式，使得能夠運(yùn)行控制量至處理腔的所需區(qū)域的局部傳送的閉環(huán)控制系統(tǒng)。這種操作模式能夠非常有效地使用可用的能量，因?yàn)?，在溫度被局部地控制且熱量被局部地傳送時(shí)，此操作減少或者甚至消除過(guò)熱某些區(qū)域的需要，以避免在其它區(qū)域中的冷點(diǎn)，并且因此，處理腔24可以被保持在最低所需溫度處，以保持目標(biāo)加熱溫度。
雖然以上改變中央導(dǎo)管長(zhǎng)度以控制太陽(yáng)光的穿透深度的使用描述了上述操作，但相同的控制方法當(dāng)然可以與控制光學(xué)上透明的氣體的穿透深度的其它方法結(jié)合使用，例如，改變光學(xué)上透明氣體的流量或使用可變幾何形狀噴嘴。大致光學(xué)上透明的氣體可以是任何合適的氣體，例如，其可以是氧化劑氣體，例如空氣，或惰性氣體，例如氮?dú)??？蛇x地，如上所述，當(dāng)處理腔產(chǎn)生在合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)中燃燒的合成氣時(shí)，來(lái)自合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的后燃排氣可以用作所述大致光學(xué)上透明的氣體。由于所述排氣將含有濃度例如比空氣中高的CO2和H2O,并且由于CO2和H2O具有高的熱容量，當(dāng)CO2和H2O在導(dǎo)管內(nèi)變?yōu)橛删奂奶?yáng)光加熱時(shí)，它們將用作更有效的傳熱導(dǎo)管以來(lái)自太陽(yáng)光的熱量載送到處理腔大氣24和揮發(fā)性有機(jī)化合物中。在上述操作方法中，其中通過(guò)完全燃燒處理?yè)]發(fā)性有機(jī)化合物，來(lái)自完全燃燒的熱排氣排出處理腔24并且可以用作熱源，用于各種應(yīng)用，但是優(yōu)選地被用于加熱水，以產(chǎn)生用于驅(qū)動(dòng)蒸汽發(fā)生器的蒸汽。以這種方式，可以從處理后的廢物中回收電力。
權(quán)利要求
1.一種揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，用于處理基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物，所述處理設(shè)備包括 處理腔，揮發(fā)性有機(jī)化合物在處理腔中被處理； 太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置，所述太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置包括管狀結(jié)構(gòu)，所述管狀結(jié)構(gòu)具有第一端部，位于處理腔的外部，并且具有第一入口和第二入ロ，聚集的太陽(yáng)光通過(guò)第一入口被接收，大致光學(xué)上透明的氣體流通過(guò)第二入口被接收；和第二端部，通向處理腔并且終止在噴嘴中，噴嘴提供用于大致光學(xué)上透明的氣體和聚集的太陽(yáng)光的出ロ； 其中，在使用中，光上透明的氣體以射流排出所述太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的第二端部，以在處理腔內(nèi)的基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物中形成光學(xué)上透明的區(qū)域，太陽(yáng)光能夠在所述光學(xué)上透明的區(qū)域中傳播。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，還包括控制裝置，控制裝置適于在所述大致光學(xué)上透明的氣體排出噴嘴時(shí)控制大致所述光學(xué)上透明的氣體的速度，從而改變所述光學(xué)上透明的區(qū)域在揮發(fā)性有機(jī)化合物內(nèi)的深度，并且因此改變聚集的太陽(yáng)光在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透深度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，還包括 電控制単元，所述電控制單元控制用于控制所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度的所述控制裝置，從而保持熱氧化器的內(nèi)容物超過(guò)750°C。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，其中控制器周期性地增大和減小所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度，從而周期性地增大和減小聚集的太陽(yáng)光在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，還包括 多個(gè)傳感器，用于輸出指示在處理腔中的不同位置處的局部溫度的信號(hào)；并且 其中，所述電控制単元接收來(lái)自傳感器的信號(hào)，并且響應(yīng)于所述信號(hào)控制所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度，從而聚集的太陽(yáng)光穿透處理腔到所需的深度，以在所需的深度中提供局部加熱。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，其中該揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備包括熱氧化器，并且揮發(fā)性有機(jī)化合物在氧氣存在的情況下在揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備中完全燃燒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，其中揮發(fā)性有機(jī)化合物在它們排出每個(gè)噴嘴時(shí)燃燒，從而每個(gè)噴嘴包括燃燒器。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至5中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，其中揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備包括氣體發(fā)生器，揮發(fā)性有機(jī)化合物在缺氧的情況下被加熱以產(chǎn)生填滿CO和H2的合成氣。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，還包括 合成氣出口； 合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)，用于將合成氣轉(zhuǎn)化為電能；和 合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)排氣再循環(huán)管，連接到合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣出ロ和太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的用于大致光學(xué)上透明的氣體的入口 ；其中 來(lái)自合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣包括所述大致光學(xué)上透明的氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求I至9中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，還包括 用于后燃?xì)怏w的排氣出口； 再循環(huán)導(dǎo)管，用于將后燃?xì)怏w輸送到太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置的大致光學(xué)上透明的氣體的入口 ；其中 所述后燃?xì)怏w包括所述大致光學(xué)上透明的氣體。
11.根據(jù)權(quán)利要求I至10中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，其中噴嘴包括共用中央流路和揮發(fā)性有機(jī)化合物入口，共用中央流路用于聚集的太陽(yáng)光和所述大致光學(xué)上透明的氣體，揮發(fā)性有機(jī)化合物入口包括圍繞共用中央流路的同心流路。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，進(jìn)一步包括氧化劑入口，氧化劑入口包括圍繞揮發(fā)性有機(jī)化合物入口的另一個(gè)同心流路。
13.根據(jù)權(quán)利要求I至12中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，其中，用于聚集的太陽(yáng)光的入口包括透鏡，該透鏡用于改變?nèi)肷湓谕哥R上的光的方向以產(chǎn)生平行光。
14.根據(jù)權(quán)利要求3至13中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，在引用權(quán)利要求2時(shí)，其中控制裝置包括用于控制所述光學(xué)上透明的氣體的速度的流量控制閥。
15.根據(jù)權(quán)利要求3至13中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，在引用權(quán)利要求2時(shí)，其中控制裝置包括可變長(zhǎng)度的管狀結(jié)構(gòu)，其中改變管狀結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度增加或減少通過(guò)管狀結(jié)構(gòu)的大致光學(xué)上透明的氣體的停留時(shí)間，以控制管狀結(jié)構(gòu)中的氣體的溫度并且因此控制管狀結(jié)構(gòu)中的氣體的膨脹，從而在氣體通過(guò)管狀結(jié)構(gòu)并且排出噴嘴時(shí)加速氣體到較大或較小程度。
16.根據(jù)權(quán)利要求3至13中任何一項(xiàng)所述的揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，在引用權(quán)利要求2時(shí)，其中控制裝置包括可變幾何形狀噴嘴，其中，改變噴嘴幾何形狀導(dǎo)致通過(guò)噴嘴的氣體加速到更大或更小程度。
17.一種用于處理基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物的方法，包括下述步驟 將揮發(fā)性有機(jī)化合物包含在揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔中； 引導(dǎo)大致光學(xué)上透明的氣體的射流通過(guò)噴嘴進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔，以在處理腔中形成大致光學(xué)上透明的路徑；以及 通過(guò)同一噴嘴將聚集的太陽(yáng)光與大致光學(xué)上透明的氣體的射流同心地引導(dǎo)進(jìn)入處理腔，以提高處理腔中的揮發(fā)性有機(jī)化合物的溫度。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，還包括下述步驟 改變進(jìn)入處理腔的大致光學(xué)上透明的氣體的速度，從而改變大致光學(xué)上透明的路徑在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透深度，并且因此改變聚集的太陽(yáng)光在揮發(fā)性有機(jī)化合物中的穿透深度。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述方法進(jìn)一步包括下述步驟 獲得指示在所述處理腔內(nèi)的多個(gè)位置處的溫度的電信號(hào)； 處理所述電信號(hào)以確定處理腔的哪些區(qū)域需要太陽(yáng)能，以提高這些區(qū)域的溫度；以及 控制所述大致光學(xué)上透明的氣體的速度以傳送太陽(yáng)能到需要太陽(yáng)能的區(qū)域。
20.根據(jù)權(quán)利要求17至19中的任何一項(xiàng)所述的方法，其中該方法進(jìn)一步包括下述步驟 引導(dǎo)足夠的氧化劑進(jìn)入處理腔以在處理腔中實(shí)現(xiàn)揮發(fā)性有機(jī)化合物的完全熱氧化。
21.根據(jù)權(quán)利要求17至19中的任何一項(xiàng)所述的方法，其中所述方法進(jìn)一步包括下述步驟 消耗處理腔的大氣中的氧氣，從而在處理腔中實(shí)現(xiàn)揮發(fā)性有機(jī)化合物的熱分解，使得揮發(fā)性有機(jī)化合物基本上熱分解成較小的分子，以產(chǎn)生主要填滿CO和H2的合成氣。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述方法進(jìn)一步包括下述步驟 從處理腔提取合成氣，并且使用合成氣為發(fā)動(dòng)機(jī)提供動(dòng)力；以及 引導(dǎo)來(lái)自合成氣發(fā)動(dòng)機(jī)的后燃排氣作為所述大致光學(xué)上透明的氣體進(jìn)入揮發(fā)性有機(jī)化合物處理腔中。
23.根據(jù)權(quán)利要求17至22中的任何一項(xiàng)所述的方法，還包括以下步驟 引導(dǎo)基本上不透明的介質(zhì)進(jìn)入所述大致光學(xué)上透明的氣體，從而減小聚集的太陽(yáng)光在處理腔中的穿透深度。
24.根據(jù)權(quán)利要求17至22中的任何一項(xiàng)所述的方法，還包括以下步驟 引導(dǎo)反射粒子進(jìn)入所述大致光學(xué)上透明的氣體，從而反射在處理腔內(nèi)的太陽(yáng)能。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種揮發(fā)性有機(jī)化合物處理設(shè)備，用于處理基本上不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物，所述處理設(shè)備包括揮發(fā)性有機(jī)化合物在其中被處理的處理腔(24)和太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置(8)。太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置(8)包括管狀結(jié)構(gòu)，所述管狀結(jié)構(gòu)具有第一端部，位于處理腔(24)的外部，并具有第一入口(14)和第二入口(16)，聚集的太陽(yáng)光通過(guò)第一入口被接收，大致光學(xué)上透明的氣體流通過(guò)第二入口被接收。太陽(yáng)能引導(dǎo)裝置(8)具有第二端部(18)，第二端部通向處理腔(24)并且終止在噴嘴中，噴嘴提供用于大致光學(xué)上透明的氣體和聚集的太陽(yáng)光的出口。在使用中，光學(xué)上透明的氣體以射流中排出該裝置的第二端部，以在處理腔(24)內(nèi)的基本不透明的揮發(fā)性有機(jī)化合物中形成光學(xué)上透明的區(qū)域，太陽(yáng)光能夠在所述光學(xué)上透明的區(qū)域中傳播。
文檔編號(hào)B01D53/72GK102821834SQ201180016190
公開(kāi)日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2011年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月27日
發(fā)明者勒法特·埃爾·查勒比, 奧弗奈爾·亨利·帕瑞 申請(qǐng)人:勒法特·埃爾·查勒比, 奧弗奈爾·亨利·帕瑞