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用于處理顆粒狀物質(zhì)的設(shè)備的制作方法

文檔序號:4917131閱讀:137來源:國知局
用于處理顆粒狀物質(zhì)的設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種設(shè)備(10),用于處理顆粒狀的物質(zhì),具有用于容納和處理物質(zhì)的過程腔(20)。底面(16)具有含大量穿通孔,過程空氣(21)能夠穿過所述穿通孔被引入所述過程腔(20),其中,所述穿通孔被設(shè)計(jì)為,產(chǎn)生兩個(gè)在徑向上相反地定向的流(29、49),所述流沿圓形的破碎區(qū)(52)相遇且向上折轉(zhuǎn)。在所述破碎區(qū)(52)中能夠向物質(zhì)施加處理介質(zhì)。所述破碎區(qū)(52)既在徑向上的內(nèi)側(cè)也在徑向上的外側(cè)被在圓周上豎起的壁(54、56)界定,所述壁分別成一間距地位于所述底面(16)上方。
【專利說明】用于處理顆粒狀物質(zhì)的設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于處理顆粒狀物質(zhì)的設(shè)備,具有用于容納和處理物質(zhì)的過程腔,具有含多個(gè)穿通孔的底面,過程空氣能夠穿過所述穿通孔引入過程腔,其中,穿通孔被設(shè)計(jì)為,產(chǎn)生兩個(gè)在徑向上相反地定向的流,所述流沿圓形的破碎區(qū)相遇且向上折轉(zhuǎn),其中,在破碎區(qū)中能夠?yàn)槲镔|(zhì)施加處理介質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0002]此類設(shè)備比如在W002 / 100527A1中公開。
[0003]在這種技術(shù)中,顆粒狀物質(zhì)通過所謂的過程空氣在過程腔中運(yùn)動。在最簡單的情況下,運(yùn)動的物質(zhì)通過提到的過程空氣被干燥。
[0004]另一種處理方法是?;虬?所謂的包衣)顆粒狀物質(zhì)。
[0005]在?;?,大多將微細(xì)的粉末、特別是制藥工業(yè)中有價(jià)值的材料借助于粘性的介質(zhì)凝聚成較大的體。為此。微細(xì)的粉末通過過程空氣被翻轉(zhuǎn)且為被翻轉(zhuǎn)的物質(zhì)微粒施加以精細(xì)噴出的液體霧形式的處理介質(zhì)。
[0006]在覆蓋中,一點(diǎn)一點(diǎn)地向已經(jīng)存在的體、比如藥丸或藥片涂覆包覆層。該包覆層應(yīng)該比如用于使得此類被包覆的、口服的藥片在胃腸分段的一定階段才被溶解。
[0007]該技術(shù)的原則上的致力方向在于,實(shí)現(xiàn)盡可能均勻的處理結(jié)果。
[0008]這在粒化中表示,應(yīng)該實(shí)現(xiàn)凝聚物的盡可能接近的顆粒大小分布。在?;锌梢酝ㄟ^后續(xù)的篩選進(jìn)程再次稍稍改進(jìn)相對不均勻的結(jié)果。
[0009]但在包覆中這是不可能的,因?yàn)闊o法提供經(jīng)濟(jì)上有意義的、允許挑選具有太薄或太厚的涂層的體的進(jìn)程。在包覆中還存在的問題是,最初就相對較大的體、比如剛剛壓出的藥片坯對于機(jī)械撞擊相對敏感,從而在翻轉(zhuǎn)時(shí),特別是在初始階段存在很大產(chǎn)生破碎的風(fēng)險(xiǎn),這種風(fēng)險(xiǎn)會導(dǎo)致不美觀以及最終會導(dǎo)致不完全的體。
[0010]在 Bauer / FrOmming / Fiiiihrer 的《Lehrbuch der PharmazeutischenTechnologie))(制藥技術(shù)教科書)2006年第8版第14章“Feste Arzneiformen” (固定的藥品成形)第344頁中,描述了根據(jù)所謂的“WURSTER方法”的飛行層或空氣滑動層包覆機(jī)。底面由穿孔的板制成。在過程腔的內(nèi)部且在打孔的板上方一定距離的位置中,在中央設(shè)置既在上面也在下面敞開的引導(dǎo)圓柱體。噴嘴位于敞開的圓柱體的下端上且豎直地向上向圓柱體定向地噴入噴射介質(zhì)。底面中的孔現(xiàn)在如下定向:穿過底面引入的過程空氣的大部分從下流向引導(dǎo)圓柱體,同時(shí),物質(zhì)的一部分被吸引且豎直向上運(yùn)動。這樣,在圓柱體的內(nèi)部,向上運(yùn)動的物質(zhì)被處理介質(zhì)噴射。在物質(zhì)離開引導(dǎo)圓柱體的上端之后,其在側(cè)部向外且由于重力再次向底面的方向落下。隨后,物質(zhì)在底面的區(qū)域中重新向內(nèi)、向敞開的圓柱體的下端部上的下抽吸口的方向被吸走。
[0011]在包覆中,圓柱體的直徑變大,且根據(jù)需要,取代一個(gè)噴嘴采用多個(gè)豎直向上的噴嘴。在非常大的設(shè)備中,多個(gè)此類圓柱體在圓形的底面上均勻分布地排列,且根據(jù)大小的不同,將相應(yīng)數(shù)量的噴嘴分別置入敞開的圓柱體的下部區(qū)域中。[0012]在實(shí)際使用中斷定,在此類過程腔中會產(chǎn)生強(qiáng)烈的渦流且(特別是對于較大的設(shè)備)存在各引導(dǎo)圓柱體的抽吸區(qū)域的重疊。同時(shí),遠(yuǎn)離重疊區(qū)域存在一定的死區(qū),其是不利的且離抽吸區(qū)域太遠(yuǎn),從而造成不均勻的處理結(jié)果。較大的渦流還可能(特別是對于包覆)導(dǎo)致體的損壞。
[0013]在另一個(gè)在該教科書中描述的系統(tǒng)(所謂的“Η?ΤΤΙ.ΙΝ系統(tǒng)”)中,過程空氣以基本上水平且在圓周上定向的分量穿過底面被引入過程腔。因此,在底面的區(qū)域中產(chǎn)生一種氣墊,從上面落下的物質(zhì)微粒能夠損壞較小地落到該氣墊上且再次折轉(zhuǎn)到向上定向的運(yùn)動中且加速。通過額外的在圓周上定向的運(yùn)動分量形成了在底面上振動的、螺旋形翻轉(zhuǎn)的、大多為環(huán)狀的物質(zhì)床,各物質(zhì)微粒非常均勻地在該物質(zhì)床中運(yùn)動。
[0014]前述設(shè)備根據(jù)這種HtJTTLlN系統(tǒng)工作。這里,在底面的區(qū)域中觀察,產(chǎn)生了兩個(gè)相互反向的、徑向相向運(yùn)動的流,其在圓形的破碎區(qū)中相遇且向上折轉(zhuǎn)??梢赃@樣考慮,圓形的破碎區(qū)的兩側(cè)分別存在旋轉(zhuǎn)的、螺旋形相同形式翻轉(zhuǎn)的物質(zhì)床,其在底面的區(qū)域中具有上述的兩個(gè)徑向上方向相反定向的流,這兩個(gè)流在破碎區(qū)中以90°向上折轉(zhuǎn)。在破碎區(qū)中,設(shè)置多個(gè)點(diǎn)狀或沿圓形破碎區(qū)延伸的噴嘴,其在破碎區(qū)中將處理介質(zhì)豎直向上噴射。在兩側(cè)引過來的流將物質(zhì)引導(dǎo)到噴射束中。在那里,物質(zhì)在其豎直向上運(yùn)動時(shí)被加載噴射介質(zhì)。
[0015]之后,產(chǎn)品流再次被分為徑向向外和徑向向內(nèi)的、由于重力下落的物質(zhì)流,其中,過程空氣豎直向上流向出口。在此運(yùn)動階段中(即徑向折轉(zhuǎn)和向下掉落),處理介質(zhì)被干燥,從而之后能夠?qū)嵤├靡簯B(tài)的處理介質(zhì)(比如開始時(shí)是液態(tài)的包覆層)的重新的處理進(jìn)程。
[0016]在前述W002 / 100527Α1中,兩個(gè)對向的流在底面上通過上下布置、部分重疊、平的環(huán)形板實(shí)現(xiàn),其中,在平的環(huán)形板之間產(chǎn)生相應(yīng)的環(huán)形間隙噴嘴,其對穿過的過程空氣施加水平的運(yùn)動分量。該水平運(yùn)動的過程空氣量以針對需處理的產(chǎn)品的氣墊的形式起作用。通過各相疊的環(huán)形板之間的相應(yīng)的導(dǎo)向葉片或折轉(zhuǎn)元件,穿流的過程空氣同時(shí)還可以被施加在圓周方向上定向的運(yùn)動分量,其用于使得物質(zhì)床旋轉(zhuǎn)。在與物質(zhì)微粒的上升和下降的疊加中,在此類環(huán)狀的翻轉(zhuǎn)床內(nèi)產(chǎn)生了螺旋狀回轉(zhuǎn)的運(yùn)動路徑。
[0017]DE102009051584A1公開了,如下產(chǎn)生兩個(gè)對向的流:底面由激光穿孔的板制成,在該板中,采用激光制成相應(yīng)定向且傾斜的縫隙。
[0018]利用這兩種設(shè)備已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)非常好的處理結(jié)果,特別是在包覆中可以實(shí)現(xiàn)大小非常合適的包覆層。但還是能夠確定所實(shí)現(xiàn)的包覆層的一定的帶寬。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0019]因此,本發(fā)明的目的在于,改進(jìn)具有此類對向的流的前述類型的設(shè)備,使得能夠?qū)崿F(xiàn)更好的、均勻的處理結(jié)果。
[0020]按照本發(fā)明,該目的如下實(shí)現(xiàn),所述破碎區(qū)既在徑向上的內(nèi)側(cè)也在徑向上的外側(cè)被在圓周上豎起的壁界定,所述壁分別成一間距地位于所述底面上方。
[0021]該措施的優(yōu)點(diǎn)在于,在破碎區(qū)的區(qū)域中在一定高度上通過壁產(chǎn)生在徑向上位于內(nèi)側(cè)以及在徑向上位于外側(cè)的界定。
[0022]因此,針對豎直向上運(yùn)動的介質(zhì)(即過程空氣和噴射介質(zhì)以及在其中翻轉(zhuǎn)的產(chǎn)品微粒)在一定的豎直運(yùn)動路徑上(即在兩個(gè)壁的高度上)產(chǎn)生強(qiáng)制引導(dǎo),使得不會有在該區(qū)域中的介質(zhì)比這些壁所允許的更遠(yuǎn)地徑向向外或向內(nèi)運(yùn)動。
[0023]在噴射介質(zhì)盡可能均勻地涂布到向上加速的產(chǎn)品微粒上的區(qū)域中,實(shí)現(xiàn)了豎直運(yùn)動路徑的分段的持續(xù)性,從而不會產(chǎn)生除了豎直方向以外的偏離。因此,能夠在該區(qū)域中在每一時(shí)間單元中施加相對較高的量的處理介質(zhì)。存在于環(huán)形空腔中的過程空氣保持了環(huán)形空腔中均勻且方向正確的翻轉(zhuǎn)運(yùn)動。換句話說,在豎直方向上的運(yùn)動分量和同時(shí)圓周方向上定向的運(yùn)動分量負(fù)責(zé)在壁與隨著被弓I導(dǎo)的物質(zhì)之間的區(qū)域中的均勻的翻轉(zhuǎn)運(yùn)動??梢詳喽ǎ趦蓚€(gè)豎起的壁之間的加速區(qū)中,待噴射的介質(zhì)不僅以相對較大的量而且也以非常均勻的分布涂布到物質(zhì)體上。
[0024]在離開環(huán)形空腔的上端部之后,氣體被解除負(fù)荷,徑向地展開,物質(zhì)微??梢栽趶较蛏舷蛲饣蛳騼?nèi)定向的下落運(yùn)動路徑上運(yùn)動。這里,物質(zhì)微粒相互離開運(yùn)動,從而不會產(chǎn)生如下風(fēng)險(xiǎn):在該區(qū)域中還帶有潮濕的、有粘性的介質(zhì)表面的物質(zhì)微粒相遇且粘連成較大的凝聚物。在下落的時(shí)間持續(xù)中以及在重新與穿過底面引導(dǎo)的新鮮過程空氣的接觸中,噴射出的介質(zhì)盡可能地被干燥。之后,微粒又向破碎區(qū)的方向輸送且在那里重新豎直向上被加速和噴射。
[0025]總體上來看,特別是在涂覆包覆層時(shí)實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步改進(jìn)的結(jié)果,換句話說,可以實(shí)現(xiàn)均勻的包覆層厚度。這特別是在制藥領(lǐng)域是非常有意義的。這種包覆層應(yīng)該在口服之后在一定的持續(xù)時(shí)間之后才溶解,從而在胃腸分段的一定階段才能夠釋放在藥片內(nèi)部存在的作用成分。在作用成分中(其在釋放到其他位置時(shí)會產(chǎn)生巨大的副作用或者根本不起作用,因?yàn)楸热缱饔贸煞忠呀?jīng)在胃中被那里存在的胃酸完全中和)合理的是,具有較高的尺寸穩(wěn)定性的包覆層是關(guān)鍵因素。現(xiàn)在,這利用進(jìn)一步實(shí)施的改進(jìn)可以通過設(shè)置兩個(gè)壁(其在徑向上包圍破碎區(qū))實(shí)現(xiàn)。
[0026]可以簡單地如下實(shí)現(xiàn)按比例增加“Scaling-up”,在設(shè)備較大時(shí),使得環(huán)狀的破碎區(qū)的圓周尺寸更大且由此相應(yīng)地?cái)U(kuò)大壁內(nèi)部的空間。這里,在過程腔中的翻轉(zhuǎn)和涂覆特性保持不變,不會產(chǎn)生死區(qū)。
[0027]在本發(fā)明的設(shè)計(jì)中,壁由同軸的管段形成。
[0028]該措施的優(yōu)點(diǎn)在于,通過結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上特別簡單的構(gòu)造元件實(shí)現(xiàn)界定破碎區(qū)的壁。此類構(gòu)造元件能夠簡單地清潔,從而使得能夠滿足在制藥工業(yè)中相關(guān)的高要求。
[0029]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,兩個(gè)壁在下部分段中圓柱形地設(shè)計(jì),在上部分段中徑向地彎曲或傾斜且在圓周方向上觀察,沿波紋線延伸。
[0030]因此,在豎直的產(chǎn)品加速區(qū)中產(chǎn)生圓周分段,在這些圓周分段中,產(chǎn)品能夠向內(nèi)或向外運(yùn)動且還可以部分地落回。
[0031]這里可以實(shí)現(xiàn)所謂的十字交叉混合效應(yīng)。因此,可以在豎直的加速區(qū)中實(shí)現(xiàn)更強(qiáng)烈的混合,其中,曲折或波紋形的引導(dǎo)較小地影響產(chǎn)品的圓周上的圓形運(yùn)動。
[0032]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,壁相互間的徑向間距被設(shè)計(jì)為,使得由壁界定的橫截面是所述底面的自由橫截面的10%至40%。自由橫截面是底面的如下區(qū)域:物質(zhì)能夠放置在該區(qū)域中。
[0033]在另一個(gè)有利的設(shè)計(jì)中,壁的徑向間距被設(shè)計(jì)為,由壁界定的橫截面是所述底面的自由橫截面的15%至35%或10%至30%。[0034]已經(jīng)斷定,在該橫截面的區(qū)域中,能夠利用產(chǎn)品微粒穿過豎直的破碎區(qū)或加速區(qū)的較高的通過量實(shí)現(xiàn)非常好的處理結(jié)果。
[0035]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,壁的下端部與所述底面的高度差被設(shè)計(jì)為,使得在所述破碎區(qū)中向上折轉(zhuǎn)的過程空氣的大部分都能夠流入兩個(gè)壁之間的環(huán)形空腔中。
[0036]因此,確保了用于處理的過程空氣的大部分都能夠被引入環(huán)形空腔中且被提供用于在該區(qū)域中進(jìn)行處理。這還有助于進(jìn)一步地均勻化在設(shè)備內(nèi)部的整體上的涂層運(yùn)動,即在豎直的破碎區(qū)中的豎直定向的加速運(yùn)動以及在該區(qū)之外的徑向的解除負(fù)荷的運(yùn)動,其允許與過程空氣和物質(zhì)微粒的分離,從而使得過程空氣能夠流出到上端部且物質(zhì)微粒均勻翻轉(zhuǎn)地向回向底面運(yùn)動。
[0037]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,所述高度差是兩個(gè)壁相互間的徑向間距的大致30%至70%。這里,已經(jīng)斷定,當(dāng)高度差是兩個(gè)壁相互間的徑向間距的40%至60%、特別是50%時(shí),同樣能夠?qū)崿F(xiàn)非常好的結(jié)果。
[0038]這些值允許過程空氣在流動方面有利地進(jìn)入環(huán)形空腔,而不會產(chǎn)生流動中斷或漩渦,其可能會不利地影響處理結(jié)果。在高度差與壁的徑向間距之間的上述比例關(guān)系的范疇內(nèi),可以較好地實(shí)現(xiàn)在破碎區(qū)中從水平向豎直強(qiáng)制弓I導(dǎo)的流動的均勻的過渡。
[0039]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,在內(nèi)壁的高度差與外壁的高度差之間存在第一比例關(guān)系,在關(guān)于所述破碎區(qū)位于內(nèi)側(cè)的底面自由橫截面與關(guān)于所述破碎區(qū)位于外側(cè)的底面自由橫截面之間存在第二比例關(guān)系,所述第一比例關(guān)系與所述第二比例關(guān)系相關(guān)。
[0040]在徑向上位于破碎區(qū)內(nèi)側(cè)的底面自由橫截面的面積通常與在徑向上位于破碎區(qū)外側(cè)的底面自由橫截面的面積不同。
[0041]如果底面的內(nèi)分段的自由橫截面小于徑向外分段,穿過內(nèi)分段可以相應(yīng)地流過較少的過程空氣且向破碎區(qū)運(yùn)動。在相反的方向上,相應(yīng)較大的過程空氣量從外向內(nèi)定向地向破碎區(qū)運(yùn)動。各壁的下沿與位于其下面的底面的高度差根據(jù)該比例關(guān)系進(jìn)行選擇。如果比如在底面的內(nèi)分段中穿過的過程空氣量較小,則內(nèi)壁與底面的高度差小于外壁的高度差。高度差相互間的比例關(guān)系相當(dāng)于內(nèi)和外底面分段的自由橫截面的比例關(guān)系。
[0042]如果比如過程空氣量的40%穿過位于破碎區(qū)徑向內(nèi)側(cè)的底面分段且相應(yīng)地,60%穿過底面的徑向外分段,則內(nèi)壁的高度差與外壁的高度差的比例為40: 60。
[0043]因此,可以滿足流入的不同的過程空氣量,其中,同樣確保了流入的過程空氣量中較高的比例折轉(zhuǎn)到內(nèi)環(huán)形空腔中。這種措施也有助于均勻的處理結(jié)果。
[0044]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,壁的高度被設(shè)計(jì)為,使得在由所述高度界定的環(huán)形空腔中能夠?qū)崿F(xiàn)穿過環(huán)形空腔豎直運(yùn)動的物質(zhì)微粒與被輸送到所述破碎區(qū)的處理介質(zhì)之間的理想的接觸。
[0045]每一個(gè)噴嘴(其噴射處理介質(zhì))都具有一定的噴射特性。這樣,可以如下實(shí)現(xiàn)理想的、可監(jiān)控的以及穩(wěn)定的結(jié)果:由噴嘴噴射的整個(gè)噴射物體的量在破碎區(qū)的區(qū)域中均勻地施加到物質(zhì)微粒上。因此,防止了比如噴射介質(zhì)逐漸地落到壁上或者噴射介質(zhì)在過程腔中運(yùn)動,而在過程腔中本來已經(jīng)應(yīng)該開始干燥進(jìn)程。還可以避免的是,已經(jīng)被加載噴射介質(zhì)的物質(zhì)微粒再一次地在另一個(gè)位置不希望地被施加噴射介質(zhì)。該高度的選擇實(shí)現(xiàn)了調(diào)節(jié)強(qiáng)制引導(dǎo)路徑,從而實(shí)現(xiàn)在豎直向上加速的物質(zhì)微粒與噴出的以液滴形式的處理介質(zhì)之間的所希望的強(qiáng)烈的交換,但之后實(shí)現(xiàn)解除負(fù)荷以及被噴射的物質(zhì)微粒在徑向上向側(cè)向的離開運(yùn)動。因此,強(qiáng)化的干燥進(jìn)程可以在離開豎直的加速區(qū)之后馬上開始,從而使得微粒在其再次到達(dá)底面之前盡可能被干燥。
[0046]在本發(fā)明的另一個(gè)設(shè)計(jì)中,在徑向上位于內(nèi)側(cè)的壁在上端部向內(nèi)彎曲且在徑向上位于外側(cè)的壁向外彎曲地延伸。
[0047]該措施的優(yōu)點(diǎn)在于,環(huán)形空腔的上端部喇叭形地?cái)U(kuò)展,且利用物質(zhì)微粒的徑向運(yùn)動促進(jìn)了從該位置開始的以及可能的負(fù)荷解除。
[0048]不言而喻,前述的以及接下來還將闡述的特征不僅可以在各個(gè)給出的組合中,也可以在其它的組合中使用或單獨(dú)使用,而不會脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0049]下面,結(jié)合附圖且借助于選出的實(shí)施例詳細(xì)闡述本發(fā)明。其中,
[0050]圖1示出了按照本發(fā)明的設(shè)備的第一實(shí)施例的豎直截面圖,
[0051]圖2示出了圖1中的右半部分的放大圖,用于闡述流動表現(xiàn),
[0052]圖3示出了按照本發(fā)明的設(shè)備的第二實(shí)施例的與圖1類似的截面圖,具有波紋狀的壁部,
[0053]圖4示出了圖3的設(shè)備的底面的俯視圖,
[0054]圖5示出了按照本發(fā)明的設(shè)備的第三實(shí)施例的縱向截面圖,具有激光打孔的底面和帶物質(zhì)回收裝置的除塵設(shè)備,以及
[0055]圖6示出了圖5的設(shè)備的底面的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0056]在圖1和2中示出的按照本發(fā)明的設(shè)備的第一實(shí)施例在其整體上以附圖標(biāo)記10表不。
[0057]該設(shè)備10具有立式空心圓柱體形狀的殼體12,其下端部14封閉。在該設(shè)備10的內(nèi)部設(shè)置底面16,在該底面下方存在所謂的風(fēng)室18。在底面16上方延伸有過程腔20。
[0058]底面16具有在徑向上位于外側(cè)的第一組環(huán)形板22-26,這些環(huán)形板是平的且相互間部分地重合且相疊放置。這里,環(huán)形板22代表在徑向上位于最內(nèi)側(cè)的環(huán)形板,下一個(gè)、更大一些的環(huán)形板23放置在環(huán)形板22上,其方式為,環(huán)形板23 (徑向向內(nèi)觀察)與環(huán)形板22有一些重疊。相應(yīng)地,逐步地放置的環(huán)形板24、25和26也是這種情況。
[0059]因此,在環(huán)形板之間形成了環(huán)形間隙,其中,在圖1中在左側(cè)比如示例性地示出了在最外側(cè)的環(huán)形板26與位于其下面的環(huán)形板25之間的環(huán)形間隙27或者在環(huán)形板24與位于其下面的環(huán)形板23之間的環(huán)形間隙28。如果穿過風(fēng)室18(如通過箭頭所示)將過程空氣21引導(dǎo)到第一組環(huán)形板22-26的下側(cè)面上的相應(yīng)的腔室30中,則產(chǎn)生了大致水平的、在徑向上從外向內(nèi)定向的第一流29。
[0060]最內(nèi)側(cè)的環(huán)形板22位于環(huán)形元件32上,該環(huán)形元件在上端部上具有塔頂34的形狀。
[0061]在環(huán)形元件32中集成了在直徑上相對的兩個(gè)環(huán)形間隙噴嘴36和37,其分別在環(huán)形元件32的一定的圓周區(qū)域上延伸。原則上還可以在設(shè)備較小的情況下在這里采用在點(diǎn)上向上噴射的噴嘴或者在設(shè)備特別大的情況下采用多個(gè)環(huán)形間隙噴嘴或甚至采用360°環(huán)圍的環(huán)形間隙噴嘴。環(huán)形間隙噴嘴36和37中的每一個(gè)都具有相應(yīng)的輸送裝置38,用于由環(huán)形間隙噴嘴噴射的介質(zhì)。這些介質(zhì)大多為噴射空氣和噴射液體。
[0062]因此,輸送裝置38與豎直向上定向的噴射口 40連接,這些介質(zhì)能夠從該噴射口中噴出。噴射口以豎直向上定向的環(huán)形間隙的形狀存在。這里,比如在中央使得噴射液體排出,噴射液體在噴射空氣間隙的兩側(cè)被噴射成微細(xì)的噴霧。
[0063]底面16還具有第二組環(huán)形板42-46。這里,環(huán)形板42作為在徑向上位于最外側(cè)的環(huán)形板在環(huán)形元件32的塔頂34上與環(huán)形板22面對面地貼靠。在環(huán)形板42上放置與其部分重疊(搭接)的更大的環(huán)形板43。該系列環(huán)形板一直設(shè)置到位于最高處的環(huán)形板46,在直徑最小的環(huán)形板46的中央插入錐體50。
[0064]如上所述,在環(huán)形板42-46之間形成相應(yīng)的環(huán)形間隙,在這里,比如示出了環(huán)形板44與43之間的環(huán)形間隙47以及環(huán)形板42與塔頂34的上升的塔面之間的環(huán)形間隙48。因此,如果從風(fēng)室18的另一個(gè)腔室31將過程空氣引到第二組環(huán)形板42-46的底面上,則產(chǎn)生了大致水平的、在徑向上從內(nèi)向外定向的第二流49。
[0065]在環(huán)形板22-26和42-46之間設(shè)置空氣引導(dǎo)元件,比如相應(yīng)地彎曲的、環(huán)形板上下之間的間隔保持件,其還為穿過環(huán)形板的過程空氣21施加在圓周上定向的分量。該分量在這里在逆時(shí)針方向上定向。
[0066]從圖1中可以看到,在環(huán)形元件32的區(qū)域中也存在腔室39,過程空氣21能夠被引入該腔室中,從而,如上所述,在兩側(cè)貼靠在塔頂34上的環(huán)形板42之間產(chǎn)生了環(huán)形間隙48。
[0067]此類構(gòu)造元件的詳細(xì)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)比如在前面提到的W002 / 100527A1中描述和說明。
[0068]從圖1中的流動箭頭可以看出,兩個(gè)反向的流29和49在環(huán)形元件32的區(qū)域中相遇且豎直向上折轉(zhuǎn)。因此,產(chǎn)生了所謂的豎直的破碎區(qū)52。塔頂34促進(jìn)兩個(gè)對向的流29和49的水平的運(yùn)動分量豎直向上的折轉(zhuǎn)。在破碎區(qū)52的區(qū)域中,存在豎起的圓柱形的第一壁54,其被設(shè)計(jì)為管段62。從圖1的截面圖中可以看到,內(nèi)壁54從環(huán)形板42的區(qū)域中被抬起一些。壁54的下端部在這里具有與環(huán)形板42的間距68。此外,還具有與最高的外環(huán)形板26的間距。
[0069]此外,還設(shè)置有另一個(gè)在徑向上更向外的壁56,其也被設(shè)計(jì)為管段64。該壁56與第一壁54同軸延伸且由此也與該設(shè)備10的中央縱軸線同軸延伸,該中央縱軸線從錐體50的頂端豎起。這里,在徑向上位于外側(cè)的壁56的下端部也具有與環(huán)形板42的間距68以及與最上面的最外側(cè)的環(huán)形板26的間距。
[0070]因此,在破碎區(qū)52的區(qū)域中,通過兩個(gè)同軸的壁54和56限定了環(huán)形空腔70,其中,該環(huán)形空腔70在下面和上面都是敞開的。兩個(gè)壁54和56的高度72是相同的。
[0071]壁54和56通過徑向接板58或60與殼體12連接。
[0072]由此,兩個(gè)壁54和56保持在一定的徑向間距66中。該尺寸如下選擇:環(huán)形空腔70的橫截面占據(jù)底面16的總自由表面的大致30%。在壁54和56的下端部與底面16最低的點(diǎn)之間的高度差為壁54和56相互間的徑向間距66的大致一半。
[0073]該設(shè)備的工作方式以及額外的壁54和56的優(yōu)點(diǎn)借助于圖1以及特別是結(jié)合圖2描述。該設(shè)備10被用于為藥片涂覆包覆層。[0074]為此,將涂覆介質(zhì)溶解在溶劑中,輸送給環(huán)形間隙噴嘴36和37且通過其豎直噴射的噴射口 40豎直向上噴射。因此,如圖2所示,產(chǎn)生了由噴射的處理介質(zhì)的最微細(xì)的小滴組成的豎直向上定向的噴射束74。如上所述,過程空氣21通過風(fēng)室18輸送到底面16的下側(cè)面。通過相應(yīng)地在腔室30、31中的分配且通過之前描述的兩組環(huán)形板22-26或42-46的定向,實(shí)現(xiàn)了兩個(gè)相互反向地定向的流29和49,即徑向上從外向內(nèi)流動的第一流29以及在內(nèi)側(cè)的、在徑向上從內(nèi)向外定向的第二流49。這兩個(gè)流在環(huán)形元件32的區(qū)域中相遇且豎直向上折轉(zhuǎn)。
[0075]這里,在兩個(gè)壁54和56的下端部與底面16之間的過程空氣量進(jìn)入環(huán)形空腔70。
[0076]所輸送的過程空氣21的速度和量被調(diào)節(jié)為,使得穿過底面16的過程空氣量21的大部分、比如80%進(jìn)入環(huán)形空腔70。因此,物質(zhì)微粒76獲得了在豎直方向上的巨大的加速度。
[0077]如果底面16在徑向上外部分段中的自由橫截面(即在第一組環(huán)形板22-26上的自由橫截面)與在第二組環(huán)形板42-46上的自由橫截面大小相同,壁54、56的下沿與底面16的高度差68可以相同。
[0078]如果上述橫截面不同,則該高度差可以被置于相應(yīng)的比例中。如果外部分段的橫截面為總底面面積的60%,則外壁56的高度差與內(nèi)壁54的高度差的比為60: 40。
[0079]在過程腔20中還存在以一個(gè)個(gè)物質(zhì)微粒76的形式的待處理的物質(zhì)(此處為需涂覆包覆層的藥片)。該物質(zhì)76首先放置在底面16上。
[0080]如果現(xiàn)在穿過引導(dǎo)過程空氣21,物質(zhì)微粒76(根據(jù)其位于底面16的哪一區(qū)域)在徑向上向內(nèi)或在徑向上向外向破碎區(qū)52的方向運(yùn)動。隨后,物質(zhì)微粒76從下面被帶入壁54和56之間的環(huán)形空腔70且豎直向上運(yùn)動。這里,物質(zhì)微粒76被強(qiáng)烈地加速。
[0081]在環(huán)形空腔70的區(qū)域中,物質(zhì)微粒76被施加微細(xì)噴射的處理介質(zhì)74,這由于破碎區(qū)52通過豎起的壁54和56的側(cè)部限定非常均勻地實(shí)現(xiàn)。
[0082]壁54和56的高度72結(jié)合過程空氣引導(dǎo)參數(shù)被選擇為,使得所有處理介質(zhì)74最晚在壁54和56的上端區(qū)域中噴射到物質(zhì)微粒76上。
[0083]但物質(zhì)微粒76在環(huán)形空腔70中還沿圓周分量運(yùn)動,如在圖2中通過箭頭77所示。換句話說,物質(zhì)微粒76在環(huán)形空腔70中額外以在圓周方向上、呈螺旋線狀向上盤繞的運(yùn)動分量運(yùn)動。
[0084]在離開環(huán)形空腔70的上端部之后,過程空氣21豎直向上地在過程腔中向出口流動。
[0085]由于重力和之前施加到物質(zhì)微粒76上的運(yùn)動力矩,物質(zhì)微粒76的一部分徑向向外運(yùn)動且在有些情況下在通過殼體12的內(nèi)壁的折轉(zhuǎn)下、向下向底面16落下。隨后,物質(zhì)微粒被由流入的過程空氣21組成的氣墊在底面16上方制動且接住,從而不會產(chǎn)生損壞的風(fēng)險(xiǎn)。隨后,物質(zhì)微粒76再次徑向向內(nèi)運(yùn)動。
[0086]相應(yīng)地,物質(zhì)微粒76的另一部分徑向向內(nèi)運(yùn)動。這些物質(zhì)微粒76隨后由于重力落下且通過錐體50向下且徑向向內(nèi)折轉(zhuǎn)。這里,落下的物質(zhì)微粒76也通過氣墊在環(huán)形板42-46上方被制動且再次徑向向外向破碎區(qū)52的方向運(yùn)動。物質(zhì)微粒76的運(yùn)動可以如下被促進(jìn):內(nèi)壁54在上端部55上向內(nèi)且外壁56在上端部57上向外彎曲。
[0087]如上所述,壁54和56的下端部的高度差被選擇為,使得空氣量的最大80%能夠進(jìn)入環(huán)形空腔70且能夠引起物質(zhì)微粒76的運(yùn)動和加速。
[0088]在環(huán)形空腔70的區(qū)域中定義的比例關(guān)系允許在較短的時(shí)間內(nèi)將處理介質(zhì)74的大部分非常均勻地分布地施加到豎直向上運(yùn)動且加速的物質(zhì)微粒76上。
[0089]在離開環(huán)形空腔70之后,在過程腔20中提供了足夠的空間(在該空間中,物質(zhì)微粒76首先主要相互離開地運(yùn)動),從而可以馬上開始干燥進(jìn)程且形成凝聚物的風(fēng)險(xiǎn)被盡可能避免。
[0090]在圖3和4中示出的按照本發(fā)明的設(shè)備的第二實(shí)施例在其整體上以附圖標(biāo)記80來標(biāo)記。
[0091]該設(shè)備80在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上在很多構(gòu)件上與圖1和2中示出的實(shí)施例相同地設(shè)計(jì),從而使得相同的附圖標(biāo)記用于相同的構(gòu)件。
[0092]現(xiàn)在,主要借助于與第一實(shí)施例的不同描述第二實(shí)施例。
[0093]其區(qū)別在于壁的設(shè)計(jì)方式。內(nèi)壁84在其在底面16的區(qū)域中的下端部上圓柱形地設(shè)計(jì)且在其上端部上逐漸地過渡到在圓周上成波紋線85的輪廓,如特別是圖4所示。
[0094]外壁86也在其下端部上圓柱形地成形且在其高度上觀察逐漸過渡到圓周上的波紋線87。
[0095]特別是從圖4的截面圖中可以看出,當(dāng)在壁84中存在波谷時(shí),壁86的相應(yīng)的波谷與壁84的波谷面對。同樣的也適用于波峰。
[0096]特別是從圖3的截面圖中可以看出,兩個(gè)壁向外有些傾斜,但相互間平行延伸。
[0097]壁84和86相互間的徑向間距88小于之前描述的間距66。
[0098]因此,相應(yīng)地波紋設(shè)計(jì)的環(huán)形空腔89在當(dāng)前的情況下僅占據(jù)底面16的自由橫截面的20%。
[0099]特別是從圖4的截面圖中可以看出,通過這種波紋形狀在環(huán)形空腔89中還實(shí)現(xiàn)了物質(zhì)微粒76向內(nèi)及向外定向的運(yùn)動。這里,十字交叉混合效應(yīng)(Kreuz-Mischungs-Effekt)還有助于處理結(jié)果的進(jìn)一步改進(jìn)。波紋的形狀和數(shù)量可以變化,且還可以使其波紋更曲折或更平滑。在波紋線特別平滑的情況下,置入易于破碎的物質(zhì)微粒76。對于較小的物質(zhì)微粒來說(其不易碎),可以產(chǎn)生更強(qiáng)的十字交叉混合效應(yīng),而不會產(chǎn)生破碎的風(fēng)險(xiǎn)。
[0100]從圖4的截面圖中(比如在右側(cè))可以看到,在該區(qū)域中設(shè)置在環(huán)形間隙噴嘴37上方的物質(zhì)微粒76除了上升的運(yùn)動分量和圓周方向上的運(yùn)動分量之外還被施加在徑向上(此處為徑向向外)的分量,其在下一個(gè)波紋段中折返。因此,產(chǎn)生了十字交叉混合效應(yīng)。
[0101]在圖5和6中示出了整體上以100標(biāo)記的按照本發(fā)明的設(shè)備的第三實(shí)施例。
[0102]該設(shè)備100也具有豎立的空心圓柱體形狀的殼體102。下端部104是閉合的且提供風(fēng)室120,在該風(fēng)室中設(shè)置用于過程空氣121的不同入口。風(fēng)室120的上接口通過底面106形成。
[0103]底面106具有外側(cè)的第一環(huán)形板108,在第一環(huán)形板中,通過激光切割方法留出多個(gè)縫隙109。從截面圖中可以看到,這些縫隙109傾斜地延伸,從圖6的俯視圖中可以看到,縫隙109在切線方向上被引導(dǎo)到環(huán)狀的破碎區(qū)115上。因此,產(chǎn)生了在徑向上從外向內(nèi)定向的第一流110。
[0104]底面106還可以內(nèi)側(cè)的第二環(huán)形板111,在第二環(huán)形板中留出相應(yīng)的縫隙112。
[0105]因此,提供了第二流113,其在徑向上從內(nèi)向外定向,如特別是圖6所示。[0106]在環(huán)形板108與111之間,在中央存在環(huán)形體114,其確定了破碎區(qū)115。在環(huán)形體114中,也設(shè)置相應(yīng)的間隙噴嘴116和117。在中央也存在錐體118。
[0107]底面106的詳細(xì)設(shè)計(jì)方式以及詳盡的空氣引導(dǎo)方式和方法也在前面提到的、作為參照的DE102009051584A1中描述。
[0108]在破碎區(qū)115的區(qū)域中(如上所述)豎起內(nèi)壁124,其被設(shè)計(jì)為管段。
[0109]該內(nèi)壁被空心圓柱形的外壁126包圍,該外壁同樣被設(shè)計(jì)為管段。
[0110]兩個(gè)與錐體118同軸的管段通過接板125和127與殼體102連接,該殼體(如上所述)以一定的高度差將壁124和126保持在底面106上方。
[0111]原則上,在運(yùn)行中,在底面上方存在與之前描述相同的流動比例關(guān)系。這也適用于壁124與126之間的環(huán)形空腔122。
[0112]在圖5中還示出了,在過程腔128的上端部上設(shè)置蓋板130,其被設(shè)計(jì)為過濾器132。
[0113]對于特別微細(xì)的物質(zhì)微粒來說,不能排除向上流入過程腔128的過程空氣121帶走微粒。這些微粒通過過濾器132來過濾,從而僅被過濾的過程空氣才能夠通過出口 136從收集腔134中流出。在過濾器132上方設(shè)置圍繞軸143回轉(zhuǎn)的排出靴138,其被供給排出空氣140。該回轉(zhuǎn)的排出靴138借助于排出空氣140周期性地將從過濾器132回收的物質(zhì)微粒排出,從而使其再次向下落到過程腔128中且能夠參與處理進(jìn)程。馬達(dá)142圍繞該設(shè)備100的中心縱軸線轉(zhuǎn)動排出靴138。
[0114]壁124和126的高度可以延伸到接板125和126的固定裝置處。殼體102在那里通過環(huán)圍的、可膨脹的環(huán)形密封件146由上部的圓柱形分段148和所謂的產(chǎn)品容器150組合而成。換句話說,壁、也包括前述實(shí)施例的壁可以延伸到產(chǎn)品容器150的上沿。
【權(quán)利要求】
1.一種設(shè)備,用于處理顆粒狀的物質(zhì)(76),具有用于容納和處理物質(zhì)(76)的過程腔(20、128),具有含大量穿通孔的底面(16、106),過程空氣(21、121)能夠穿過所述穿通孔被引入所述過程腔(20、128),其中,所述穿通孔被設(shè)計(jì)為,產(chǎn)生兩個(gè)在徑向上相反地定向的流(29、49 ;110、113),所述流沿圓形的破碎區(qū)(52、115)相遇且向上折轉(zhuǎn),其中,在所述破碎區(qū)(52、115)中能夠向物質(zhì)(76)施加處理介質(zhì)(74),其特征在于,所述破碎區(qū)(52、115)既在徑向上的內(nèi)側(cè)也在徑向上的外側(cè)被在圓周上豎起的壁(54、56 ;84、86 ; 124、126)界定,所述壁分別成一間距地位于所述底面(16、106)上方。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,兩個(gè)壁(54、56;84、86 ;124、126)由同軸的管段形成。
3.如權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,其特征在于,兩個(gè)壁(84、86)在下部分段中圓柱形地設(shè)計(jì),在上部分段中徑向地彎曲且在圓周方向上觀察,沿波紋線(85、87)延伸。
4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,壁(54,56;84、86 ;124、126)相互間的徑向間距(66)被設(shè)計(jì)為,使得由壁界定的橫截面是所述底面(16、106)的自由橫截面的10%至40%。
5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其特征在于,由壁界定的橫截面是所述底面(16、106)的自由橫截面的15%至35%。
6.如權(quán)利要求4或5所述的設(shè)備,其特征在于,由壁界定的橫截面是所述底面(16、106)的自由橫截面的20%至30%。
7.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,壁(54、56;84、86 ;124、126)的下端部與所述底面(16、106)的高度差(68)被設(shè)計(jì)為,使得在所述破碎區(qū)(52、115)中向上折轉(zhuǎn)的過程空氣的 大部分都能夠流入兩個(gè)壁(54、56 ;84、86 ;124、126)之間的環(huán)形空腔(70,89)中。
8.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備,其特征在于,所述高度差(68)是兩個(gè)壁(54、56;84、86 ;124.126)相互間的徑向間距(66)的大致30%至70%。
9.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其特征在于,所述高度差(68)是兩個(gè)壁(54、56;84、86 ;124.126)相互間的徑向間距(66)的大致40%至60%。
10.如權(quán)利要求8或9所述的設(shè)備,其特征在于,所述高度差(68)是兩個(gè)壁(54、56;84,86 ;124、126)相互間的徑向間距(66)的大致50%。
11.如權(quán)利要求7-10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,在內(nèi)壁(54、84、124)的高度差(68)與外壁(56、86、126)的高度差(68)之間存在第一比例關(guān)系,在關(guān)于所述破碎區(qū)(52、115)位于內(nèi)側(cè)的底面(16、106)自由橫截面與關(guān)于所述破碎區(qū)(52、115)位于外側(cè)的底面(52,115)自由橫截面之間存在第二比例關(guān)系,所述第一比例關(guān)系與所述第二比例關(guān)系相關(guān)。
12.如權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,壁(54,56;84、86 ;124、126)的高度(72)被設(shè)計(jì)為,使得在由所述高度界定的環(huán)形空腔(70、89、122)中能夠?qū)崿F(xiàn)穿過環(huán)形空腔(70、89、122)豎直運(yùn)動的物質(zhì)(76)與被輸送到所述破碎區(qū)(52、115)的處理介質(zhì)(74)之間的理想的接觸。
13.如權(quán)利要求1-12中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,在徑向上位于內(nèi)側(cè)的壁(54)在上端部向內(nèi)彎曲(55)且在徑向上位于外側(cè)的壁(56)向外(58)彎曲地延伸。
【文檔編號】B01J2/16GK103702750SQ201180072502
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2011年6月16日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月16日
【發(fā)明者】赫伯特·許特林 申請人:赫伯特·許特林
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