專利名稱：高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，屬于合成氨或氣液接觸吸收技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
隨著合成氨行業(yè)的向前發(fā)展，企業(yè)生產(chǎn)能力越來越大，為了使變脫后能達(dá)到穩(wěn)定的工藝條件，企業(yè)對(duì)裝置效果要求越來越高。變換后，變脫塔起著二次脫硫的作用，為保護(hù)著后續(xù)工段的觸媒起著非常重要的作用，背景技術(shù)的變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)為填料塔、板式塔、泡罩塔等。存在問題是結(jié)構(gòu)不合理，投資大，變脫塔脫硫效率達(dá)不到設(shè)計(jì)要求，脫硫效率低 下。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的是提供一種高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、實(shí)用、投資少、使用壽命長、維護(hù)費(fèi)用低，脫硫效率高，解決背景技術(shù)中存在的上述問題。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，包含塔體、進(jìn)氣管、上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管，塔體的中部設(shè)置塔盤，塔盤上設(shè)置氣體分布器主管和氣體分布器支管，氣體分布器支管與氣體分布器主管連接，氣體分布器主管和氣體分布器支管上設(shè)置若干個(gè)氣孔，上氣管短節(jié)位于塔盤下方，穿過塔盤與氣體分布器主管連接，塔盤上設(shè)有降液管，上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管在塔體內(nèi)構(gòu)成一個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)；進(jìn)氣管設(shè)置在塔體的下部。塔體的頂部設(shè)有變脫塔氣體出口、脫硫液進(jìn)液管,塔體的底部設(shè)有變脫塔液體出□。所說的上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管構(gòu)成的氣液接觸脫硫系統(tǒng)，在塔體內(nèi)設(shè)置多個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)，分層布置，氣體分布器主管、氣體分布器支管開孔方式為只有下部有氣孔，保證氣體能由變脫液下部到上部，實(shí)現(xiàn)氣液的充分接觸，上下兩層氣液接觸脫硫系統(tǒng)之間通過降液管連接在一起。塔盤上設(shè)有凹坑，下層塔盤上的凹坑與上層氣液接觸脫硫系統(tǒng)的降液管相匹配。每個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)設(shè)置兩個(gè)降液管，分別設(shè)置在氣體分布器主管的兩側(cè)，且相距最遠(yuǎn)距離。氣體分布器主管與主氣體分布器支管垂直連接。本實(shí)用新型改變了背景技術(shù)的氣液接觸方式，通過采用氣體分布器主管和氣體分布器支管開氣孔方式，與降液管有機(jī)結(jié)合，使氣液接觸更徹底，更完全達(dá)到有效去除硫化氫的目的。降液管上部為齒狀，用降液管高度控制液位。氣體分布器主管和氣體分布器支管上所開的氣孔，位于氣體分布器支管的水平軸線以下，目的是讓變換氣下翻、在液體底部上升后，由液體頂部排出，做到氣液充分接觸。本實(shí)用新型垂直布置，當(dāng)氣體由進(jìn)氣管進(jìn)入塔體后氣體充滿塔體下部空間，由上氣管短節(jié)進(jìn)入塔盤上部氣體分布器主管，然后進(jìn)入氣體分布器支管，通過氣孔排出，與塔盤上的液體充分接觸，氣體分布器支管使氣體與塔盤上脫硫液最大限度的接觸，起到充分被吸收的效果。本實(shí)用新型的積極效果是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、實(shí)用、投資少、使用壽命長、維護(hù)費(fèi)用低，脫硫效率高；能使脫硫效率比背景技術(shù)提高10%，使變脫塔出口 H2S含量達(dá)到10mg/m3指標(biāo)之內(nèi)。

附圖I是本實(shí)用新型實(shí)施例示意圖；附圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例剖面示意圖；附圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例氣孔位置示意圖；附圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例氣體分布器支管氣孔位置示意圖；圖中進(jìn)氣管I,上氣管短節(jié)2、11，氣體分布器主管3、12，氣體分布器支管4、13，降液管5、6，塔盤7、8，凹坑9，變脫塔氣體出口 10，變脫塔液體出口 14，脫硫液進(jìn)液管15、氣孔16、氣體分布器支管的水平軸線17、塔體18。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖，通過實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。參照附圖1、2、3、4，高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，包含塔體18、進(jìn)氣管I、上氣管短節(jié)2、氣體分布器主管3、氣體分布器支管4、塔盤7和降液管5，塔體的中部設(shè)置塔盤，塔盤上設(shè)置氣體分布器主管和氣體分布器支管，氣體分布器支管與氣體分布器主管連接，氣體分布器主管和氣體分布器支管上設(shè)置若干個(gè)氣孔16，上氣管短節(jié)位于塔盤下方，穿過塔盤與氣體分布器主管連接，塔盤上設(shè)有降液管，上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管在塔體內(nèi)構(gòu)成一個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)；進(jìn)氣管設(shè)置在塔體的下部。塔體的頂部設(shè)有變脫塔氣體出口 10、脫硫液進(jìn)液管15，塔體的底部設(shè)有變脫塔液體出口 14。所說的上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管構(gòu)成的氣液接觸脫硫系統(tǒng)，在塔體內(nèi)設(shè)置多個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)，分層布置，上下兩層氣液接觸脫硫系統(tǒng)之間通過降液管連接在一起。塔盤上設(shè)有凹坑9，下層塔盤上的凹坑與上層氣液接觸脫硫系統(tǒng)的降液管相匹配。參照附圖2，每個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)設(shè)置兩個(gè)降液管，分別設(shè)置在氣體分布器主管的兩側(cè)，且相距最遠(yuǎn)距離。氣體分布器主管與主氣體分布器支管垂直連接。降液管上部為齒狀，用降液管高度控制液位。參照附圖3、4，氣體分布器主管和氣體分布器支管上所開的氣孔，位于氣體分布器支管的水平軸線17以下。在實(shí)施例中，降液管頂端高出塔盤700— 800mm距離，目的是讓塔盤上氣體阻力在設(shè)計(jì)范圍內(nèi)，有足夠的脫硫液來吸收氣體中的硫化氫。最下層塔盤的降液管下端插入脫硫液內(nèi)，使脫硫液起到充分液封的作用。上一層塔盤降液管最下端與下一層塔盤相水平，下一層塔盤留有一凹坑，凹坑大小以凹坑與降液管水平間隙、凹坑與降液管最下端垂直間隙都應(yīng)大于等于降液管流通面積為準(zhǔn)。氣體離開脫硫液后進(jìn)入下一個(gè)上氣管短節(jié)后，進(jìn)入下一個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)。最終氣體由變脫塔氣體出口離開變脫塔。氣體分布器主管最低端與塔盤距離控制在15mm,氣體分布器支管與氣體分布器主管的最下端位于同一水平面上，氣體分布器支管的水平軸線以下，密布直徑12mm的氣孔，氣孔成規(guī)則分布。氣體分布器主管與氣體分布器支管最頂端有一排直徑10_圓孔，圓孔分布與狀態(tài)與氣體分布器主管、氣體分布器支管軸向走向一致。工作過程氣體由進(jìn)氣管I進(jìn)入塔內(nèi)，由上氣管短節(jié)2進(jìn)入氣體分布器主管3，隨后進(jìn)入氣體分布器支管4，氣體與塔盤7上的脫硫液充分接觸被吸收后離開脫硫液，由上氣管短節(jié)11進(jìn)入上一層塔盤8上的氣體分布器主管12及氣體分布器支管13，最終氣體由變脫塔氣體出口 10離開變脫塔。脫硫液由脫硫液進(jìn)液管15進(jìn)入塔內(nèi)，由上一層塔盤8通過降液管向下流入下一層塔盤7上的凹坑9內(nèi)；脫硫液與降液管6上端持平后，多余的脫硫液 通過降液管6流入塔底，最終脫硫液由變脫塔液體出口 14離開變脫塔。
權(quán)利要求1.一種高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于包含塔體(18)、進(jìn)氣管(I)、上氣管短節(jié)(2)、氣體分布器主管(3 )、氣體分布器支管(4 )、塔盤(7 )和降液管(5 ),塔體的中部設(shè)置塔盤,塔盤上設(shè)置氣體分布器主管和氣體分布器支管，氣體分布器支管與氣體分布器主管連接，氣體分布器主管和氣體分布器支管上設(shè)置若干個(gè)氣孔(16)，上氣管短節(jié)位于塔盤下方，穿過塔盤與氣體分布器主管連接，塔盤上設(shè)有降液管，上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管在塔體內(nèi)構(gòu)成一個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)；進(jìn)氣管設(shè)置在塔體的下部。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于塔體的頂部設(shè)有變脫塔氣體出口(10)、脫硫液進(jìn)液管(15)，塔體的底部設(shè)有變脫塔液體出口(14)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于在塔體內(nèi)設(shè)置多個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)，分層布置，氣體分布器主管、氣體分布器支管開孔方式為只有下部有氣孔，上下兩層氣液接觸脫硫系統(tǒng)之間通過降液管連接在一起。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于塔盤上設(shè)有凹坑(9)，下層塔盤上的凹坑與上層氣液接觸脫硫系統(tǒng)的降液管相匹配。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于每個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)設(shè)置兩個(gè)降液管，分別設(shè)置在氣體分布器主管的兩側(cè)，且相距最遠(yuǎn)距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于氣體分布器主管與主氣體分布器支管垂直連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于氣體分布器主管和氣體分布器支管上所開的氣孔，位于氣體分布器支管的水平軸線(17)以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述之高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，其特征在于降液管頂端高出塔盤700—800mm距離,氣體分布器主管最低端與塔盤距離15mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種高效變脫塔內(nèi)件結(jié)構(gòu)，屬于合成氨或氣液接觸吸收技術(shù)領(lǐng)域。技術(shù)方案是塔體(18)的中部設(shè)置塔盤(7)，塔盤上設(shè)置氣體分布器主管(3)和氣體分布器支管(4)，氣體分布器支管與氣體分布器主管連接，氣體分布器主管和氣體分布器支管上設(shè)置若干個(gè)氣孔(16)，上氣管短節(jié)(2)位于塔盤下方，穿過塔盤與氣體分布器主管連接，塔盤上設(shè)有降液管(5)，上氣管短節(jié)、氣體分布器主管、氣體分布器支管、塔盤和降液管在塔體內(nèi)構(gòu)成一個(gè)氣液接觸脫硫系統(tǒng)。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、實(shí)用、投資少、使用壽命長、維護(hù)費(fèi)用低，脫硫效率高；能使脫硫效率比背景技術(shù)提高10%，使變脫塔出口H2S含量達(dá)到10mg/m3指標(biāo)之內(nèi)。
文檔編號(hào)B01D53/18GK202460421SQ20122000919
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者張鵬飛 申請(qǐng)人:河北凱躍化工集團(tuán)有限公司