專利名稱：一種多用加樣盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種生化實(shí)驗(yàn)室、分子實(shí)驗(yàn)室及醫(yī)院化驗(yàn)室等常用實(shí)驗(yàn)加樣用具，尤其是涉及一種主要用于四道、八道和十二道加樣器的加樣盒。
背景技術(shù)：
中國(guó)專利公開號(hào)為CN202049157U于2011年11月23日公開了一種多用加樣槽。將該加樣槽內(nèi)部設(shè)計(jì)為聯(lián)體的V形凹槽，凹槽為十二道，間隔為四道及八道加樣器槍頭之間的間隔。該結(jié)構(gòu)的加樣槽只方便大中劑量取液使用，很多生化或者分子試驗(yàn)，試劑用量超微且價(jià)格昂貴。當(dāng)V形凹槽內(nèi)只有少量液體試劑時(shí)，液體試劑在V形凹槽的底部會(huì)呈現(xiàn)斷流、分布不均勻等現(xiàn)象，用多道加樣器吸取液體試劑時(shí)，則會(huì)導(dǎo)致加樣器各槍頭吸取的液體試劑量不相同，這會(huì)造成試驗(yàn)的誤差。甚至部分液體試劑無法被吸取而倒掉，造成不必要的浪費(fèi)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種即使微小劑量時(shí)，仍能夠被加樣器所均勻吸取，從而節(jié)約試劑和減少試驗(yàn)誤差的多用加樣盒。本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種多用加樣盒，包括框架和第一 V型凹槽，第一 V型凹槽設(shè)置在框架內(nèi)，其特征在于所述的第一 V型凹槽底部設(shè)置有多個(gè)凹孔，相鄰凹孔的孔底之間的距離為多道加樣器相鄰槍頭間距，所述的凹孔的口徑為2mm 11mm，所述的凹孔的深度為2mm 7_。第一 V型凹槽的底部設(shè)置有匯流通道，所述的匯流通道的底部呈弧形面，凹孔設(shè)置在匯流通道的底部。還包括一個(gè)框架，框架包括四個(gè)側(cè)邊，第一 V形凹槽的開口朝上，框架的反面形成兩個(gè)第二 V形凹槽，第二 V形凹槽的開口朝下，第一 V形凹槽位于兩個(gè)第二 V形凹槽之間。所述的框架呈梯形臺(tái)，框架的下邊寬度為L(zhǎng)I，框架的上邊寬度為L(zhǎng)2，L1=2L2。所述的第二 V形凹槽內(nèi)設(shè)置有隔板，分隔成兩個(gè)加樣槽，一個(gè)為八道加樣器槍頭的加樣槽，另一個(gè)為四道加樣器槍頭的加樣槽。所述的相鄰凹孔之間的上邊緣直接相連。避免過多的液體試劑留在相鄰凹孔的平臺(tái)處。所述的相鄰凹孔之間的分隔壁上設(shè)置有導(dǎo)通孔，所述的導(dǎo)通孔的口徑為O. 8mm
I.2mm。導(dǎo)通孔的設(shè)置，使凹孔之間的試劑也能流通，進(jìn)一步保證加樣器的槍頭取樣的均勻性。所述的凹孔的口徑為9mm,所述的凹孔的深度為3. 5mm,導(dǎo)通孔的口徑I mm。根據(jù)大量的實(shí)驗(yàn)證明，采用上述尺寸時(shí)，取樣的均勻性最好。所述的第一 V型凹槽和第二 V型凹槽內(nèi)設(shè)置有防水膜。當(dāng)一滴液體試劑時(shí)在防水膜上會(huì)呈現(xiàn)球形狀，少量液體試劑在V形凹槽時(shí)，液體是斷斷續(xù)續(xù)的，不會(huì)連成一片，此時(shí)加樣器各槍頭很難吸取均勻。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于V型凹槽只有微劑量液體時(shí)，能避免試劑彌散在V型凹槽的底部各處，液體試劑會(huì)集中在各凹孔中，如此，取樣時(shí)加樣器的槍頭與凹孔相對(duì)應(yīng)，從而節(jié)約試劑并且減少試驗(yàn)誤差。匯流通道有利液體試劑集中到各凹孔?？蚣艿恼嬗幸粋€(gè)第一 V形凹槽，框架的反面形成兩個(gè)第二 V形凹槽，增加了加樣盒的用途。

圖I為本實(shí)用新型的立體圖(正面)；圖2為本實(shí)用新型的立體圖(反面)；圖3為本實(shí)用新型的V形凹槽的側(cè)視圖；圖4為本實(shí)用新型的俯視圖；圖5為本實(shí)用新型的仰視圖；圖6為實(shí)施例一中相鄰凹孔的示意圖；圖7為實(shí)施例二中相鄰凹孔之間導(dǎo)通孔的示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。實(shí)施例一一種多用加樣盒，包括框架I和第一 V型凹槽2，第一 V型凹槽2設(shè)置在框架I內(nèi)，第一 V型凹槽I底部設(shè)置有多個(gè)凹孔3，相鄰凹孔3的孔底之間的距離為多道加樣器相鄰槍頭間距，凹孔3的口徑為2mm或3 mm或9mm或11mm，凹孔3的深度為2mm或
3.5mm 或 7mm η第一 V型凹槽2的底部設(shè)置有匯流通道5，匯流通道5的底部呈弧形面，凹孔3設(shè)置在匯流通道5的底部。還包括一個(gè)框架1，框架包括四個(gè)側(cè)邊，第一 V形凹槽2的開口朝上，框架I的反面形成兩個(gè)第二 V形凹槽6，第二 V形凹槽6的開口朝下，第一 V形凹槽2位于兩個(gè)第二 V形凹槽6之間?？蚣躀呈梯形臺(tái)，框架I的下邊寬度為L(zhǎng)I，框架的上邊寬度為L(zhǎng)2，L1=2L2。第二 V形凹槽6內(nèi)設(shè)置有隔板7，分隔7成兩個(gè)加樣槽，一個(gè)為八道加樣器槍頭的加樣槽61，另一個(gè)為四道加樣器槍頭的加樣槽62。相鄰凹孔3之間的上邊緣33直接相連。實(shí)施例二 其他部分與實(shí)施例一相同，不同之處在于相鄰凹孔3之間的分隔壁31上設(shè)置有導(dǎo)通孔32，導(dǎo)通孔32的口徑為O. 8mm或Imm或I. 2mm。
權(quán)利要求1.一種多用加樣盒，包括框架和第一 V型凹槽，第一 V型凹槽設(shè)置在框架內(nèi)，其特征在于所述的第一 V型凹槽底部設(shè)置有多個(gè)凹孔，相鄰凹孔的孔底之間的距離為多道加樣器相鄰槍頭間距，所述的凹孔的口徑為2mm Ilmm,所述的凹孔的深度為2mm 7mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種多用加樣盒，其特征在于第一V型凹槽的底部設(shè)置有匯流通道，所述的匯流通道的底部呈弧形面，凹孔設(shè)置在匯流通道的底部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多用加樣盒，其特征在于還包括一個(gè)框架，框架包括四個(gè)側(cè)邊，第一 V形凹槽的開口朝上，框架的反面形成兩個(gè)第二 V形凹槽，第二 V形凹槽的開口朝下，第一 V形凹槽位于兩個(gè)第二 V形凹槽之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種多用加樣盒，其特征在于所述的框架呈梯形臺(tái)，框架的下邊寬度為L(zhǎng)I，框架的上邊寬度為L(zhǎng)2，L1=2L2。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種多用加樣盒，其特征在于所述的第二V形凹槽內(nèi)設(shè)置有隔板，分隔成兩個(gè)加樣槽，一個(gè)為八道加樣器槍頭的加樣槽，另一個(gè)為四道加樣器槍頭的加樣槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種多用加樣盒，其特征在于所述的相鄰凹孔之間的上邊緣直接相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種多用加樣盒，其特征在于所述的相鄰凹孔之間的分隔壁上設(shè)置有導(dǎo)通孔，所述的導(dǎo)通孔的口徑為O. 8mm I. 2mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種多用加樣盒，其特征在于所述的凹孔的口徑為9mm，所述的凹孔的深度為3. 5mm,導(dǎo)通孔的口徑I mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種多用加樣盒，其特征在于所述的第一V型凹槽和第二 V型凹槽內(nèi)設(shè)置有防水膜。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種多用加樣盒，包括框架和第一V型凹槽，第一V型凹槽設(shè)置在框架內(nèi)，第一V型凹槽底部設(shè)置有多個(gè)凹孔，相鄰凹孔的孔底之間的距離為多道加樣器相鄰槍頭間距，凹孔的口徑為2mm～11mm，凹孔的深度為2mm～7mm，其優(yōu)點(diǎn)是V型凹槽只有微劑量液體時(shí)，能避免試劑彌散在V型凹槽的底部各處，液體試劑會(huì)集中在各凹孔中，如此，取樣時(shí)加樣器的槍頭與凹孔相對(duì)應(yīng)，從而節(jié)約試劑并且減少試驗(yàn)誤差。
文檔編號(hào)B01L3/00GK202741157SQ20122034219
公開日2013年2月20日 申請(qǐng)日期2012年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月16日
發(fā)明者沈錫權(quán), 趙永威, 吳祖芳, 翁佩芳 申請(qǐng)人:寧波大學(xué)