專利名稱：一種用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，可用于精餾生產(chǎn)中調(diào)節(jié)物料回流量和采出量的比例。
背景技術(shù)：
目前，傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室精餾裝置里的回流比控制器，采用電磁線圈的路線，電磁線圈長(zhǎng)時(shí)間工作，線圈會(huì)發(fā)熱升溫，導(dǎo)致磁力下降，有時(shí)甚至無(wú)法吸動(dòng)電磁漏斗而不能工作，當(dāng)采用直通式精餾頭時(shí)，高溫物料的氣相高溫會(huì)使線圈溫升更高，有時(shí)還會(huì)燒毀線圈。另外隨著塔釜容積增加，塔頭直徑擴(kuò)大后，電磁線圈吸引力太小吸不動(dòng)磁鐵漏斗。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的缺陷，提供一種更穩(wěn)定、壽命更長(zhǎng)、使用范圍更廣的回流比控制器。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為一種用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，所述實(shí)驗(yàn)室精餾裝置包括管壁，其中所述回流比控制器包括步進(jìn)電機(jī)，所述步進(jìn)電機(jī)與所述管壁之間有間距，所述步進(jìn)電機(jī)包括傳動(dòng)軸、方塊座、磁鋼和非磁性物塊，所述步進(jìn)電機(jī)的方塊座固定在所述傳動(dòng)軸上，所述磁鋼和所述非磁性物塊分別固定在所述方塊座的兩側(cè)且以所述傳動(dòng)軸為中心軸對(duì)稱，所述磁鋼和所述非磁性物塊體積相同。進(jìn)一步，所述的方塊座為不銹鋼方塊座，所述的非磁性物塊為非磁性不銹鋼塊。進(jìn)一步，所述的磁鋼為稀土磁鋼、鐵氧體磁鋼和鋁鎳鈷磁鋼中的任意一種。進(jìn)一步，所述步進(jìn)電機(jī)與所述管壁的間距為l-4mm，優(yōu)選為2mm。由上述技術(shù)方案可知本實(shí)用新型的回流比控制器采用了步進(jìn)電機(jī)，這樣使得回流比控制器穩(wěn)定性更高，使用壽命更長(zhǎng)，節(jié)約了成本，精餾效果也更好。

圖1是實(shí)驗(yàn)室精餾裝置及回流比控制器結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是精餾頭及步進(jìn)電機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是步進(jìn)電機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為使對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征及所達(dá)成的功效有更進(jìn)一步的了解與認(rèn)識(shí)，用以較佳的實(shí)施例及附圖配合詳細(xì)的說(shuō)明，說(shuō)明如下如圖1所示，包括實(shí)驗(yàn)室精餾裝置100和回流比控制器200，回流比控制器200包括步進(jìn)電機(jī)2和電氣控制裝置24。如圖2所示，實(shí)驗(yàn)室精餾裝置100包括精餾頭9，精餾頭9包括冷凝器15、下水口 16、上水口 17、塔頂測(cè)溫計(jì)18、管壁19、出料管13和磁鐵漏斗12 ；繼續(xù)參照?qǐng)D3，步進(jìn)電機(jī)2包括傳動(dòng)軸20、不銹鋼方塊座、稀土磁鋼和非磁性不銹鋼塊，稀土磁鋼和非磁性不銹鋼塊體積相同，并且以傳動(dòng)軸20為中心軸對(duì)稱，分別安裝在不銹鋼方塊座的兩側(cè)，步進(jìn)電機(jī)2與精餾頭9的管壁19的間距為2mm，并且步進(jìn)電機(jī)2與精餾頭9中的磁鐵漏斗12在同一水平線上。當(dāng)蒸發(fā)氣體經(jīng)塔釜從精餾頭9下端流入時(shí)，上升至塔頂冷凝器15，冷卻水從精餾頭9的下水口 16流進(jìn)，經(jīng)冷凝器15后，從上水口 17流出，對(duì)蒸汽流進(jìn)行冷凝，物料冷凝成液體后，流入磁鐵漏斗12后進(jìn)入出料管13,冷凝液從磁鐵漏斗12流入出料管13的狀態(tài)由回流比控制器200控制，步進(jìn)電機(jī)2做180° 二位動(dòng)作，當(dāng)稀土磁鋼旋轉(zhuǎn)至精餾頭9管壁19處時(shí)，磁力就吸引磁鐵漏斗12擺動(dòng)，使物料能從磁鐵漏斗12中流入出料管13，當(dāng)步進(jìn)電機(jī)2再做180度轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，無(wú)磁力的非磁性不銹鋼塊把磁鐵漏斗12送回回流狀態(tài)，步進(jìn)電機(jī)2在電氣控制裝置24的程序指揮下，按1:99/99:1的時(shí)間比例，周而復(fù)始的做回流和出料二位式動(dòng)作，使精餾頭9把物質(zhì)一一分開(kāi)。
權(quán)利要求1.一種用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，所述精餾裝置(100)包括管壁(19)，其特征在于:所述回流比控制器(200)包括步進(jìn)電機(jī)(2)，所述步進(jìn)電機(jī)(2)與所述管壁(19)之間有間距，所述步進(jìn)電機(jī)(2)包括傳動(dòng)軸(20)、方塊座(23)、磁鋼(21)和非磁性物塊(22),所述步進(jìn)電機(jī)(2)的方塊座(23)固定在所述傳動(dòng)軸(20)上，所述磁鋼(21)和所述非磁性物塊(22)分別固定在所述方塊座(23)的兩側(cè)且以所述傳動(dòng)軸(20)為中心軸對(duì)稱，所述磁鋼(21)和所述非磁性物塊(22)體積相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，其特征在于:所述方塊座(23)為不銹鋼方塊座。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，其特征在于:所述非磁性物塊(22)為非磁性不銹鋼塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，其特征在于:所述磁鋼(23)為稀土磁鋼、鐵氧體磁鋼和鋁鎳鈷磁鋼中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，其特征在于:所述步進(jìn)電機(jī)(2)與所述管壁(19)的間距為l_4mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，其特征在于:所述步進(jìn)電機(jī)(2)與所述管壁(19)的間距為2mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于實(shí)驗(yàn)室精餾裝置的回流比控制器，包括步進(jìn)電機(jī)和電氣控制裝置，步進(jìn)電機(jī)包括傳動(dòng)軸、不銹鋼方塊座、稀土磁鋼和非磁性不銹鋼塊，不銹鋼方塊座安裝在傳動(dòng)軸上，稀土磁鋼和同體積的非磁性不銹鋼塊分別安裝在不銹鋼方塊座的兩側(cè)，并且以傳動(dòng)軸為中心軸對(duì)稱。本實(shí)用新型具有的有益效果采用步進(jìn)電機(jī)，工作可靠穩(wěn)定，可長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作，增加了設(shè)備壽命。
文檔編號(hào)B01D3/42GK202909478SQ201220499500
公開(kāi)日2013年5月1日 申請(qǐng)日期2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月27日
發(fā)明者徐德榮 申請(qǐng)人:常州市常順精細(xì)化學(xué)品有限公司