氣流處理方法
【專利摘要】本文公開了一種處理含有至少一種汞化合物或物質(zhì)的氣流的方法，所述方法包括：在微粒物質(zhì)收集裝置之前將組合物應用到所述氣流中，其中所述組合物包含具有以下化學式(SiO2)x(OH)yMzSaF的化合物，其中(i)SiO2為任選組分；(ii)M包括以下金屬或準金屬陽離子的至少一種：硼、鎂、鋁、鈣、鈦、釩、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鋯、鉬、鈀、銀、鎘、錫、鉑、金以及鉍；(iii)S包括選自以下的至少一種的基于硫的物質(zhì)：硫化物鹽、二硫代氨基甲酸鹽、基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽以及多硫化物鹽；(iii)F為任選組分并且如果存在，包括處于0.01100%表面積覆蓋下的以下的至少一種：官能化的有機硅烷、含硫有機硅烷、含胺有機硅烷以及含烷基的有機硅烷；(iv)如果SiO2存在，y/x的摩爾比等于約0.01至約0.5并且x/z的摩爾比等于約0.1至約300，并且如果SiO2不存在，X為0并且Z為1；并且(v)a/z的摩爾比為約0.5至約5。
【專利說明】氣流處理方法
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]本文為2010年4月8日提交的已表決的美國專利申請序號12/756，491，“GasStream Treatment Process”的部分繼續(xù)申請,所述專利申請以引用的方式整體并入本文。
發(fā)明領(lǐng)域
[0003]本公開內(nèi)容總體上涉及一種處理含有至少汞的氣流的方法。更具體地說，本發(fā)明涉及包含金屬或準金屬組分、基于硫的組分以及任選的含有二氧化硅的組分的化合物。本發(fā)明具體涉及吸收汞或氧化存在于氣流中的汞的此類化合物。
[0004]發(fā)明背景
[0005]汞排放控制被發(fā)電行業(yè)所希望。行業(yè)尋求控制從熱發(fā)電系統(tǒng)排放汞的更容易的方式。目前實踐中已建立的用于控制汞排放的方法為添加含鹵化合物至燃料或煙道氣以便增強汞的氧化，從而促進它被吸附劑和滌氣液體所捕獲(參見美國專利號6，808，692和美國專利號6，878，358，所述專利兩者均以引用的方式并入本文)。
[0006]發(fā)明概述
[0007]本發(fā)明相應地提供了一種包含具有以下化學式(SiO2)x(OH)yMzSaF的化合物的組合物，其中SiO2為任選組分。M包括以下金屬或準金屬陽離子的至少一種:硼、鎂、鋁、鈣、鈦、釩、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鋯、鑰、鈀、銀、鎘、錫、鉬、金以及鉍。S包括選自以下的至少一種的基于硫的物質(zhì):硫化物鹽、二硫代氨基甲酸鹽、基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽以及多硫化物鹽。在實施方案中，S由至少一種此類基于硫的物質(zhì)組成。F為任選組分并且包括處于約0.01%至約100%表面積覆蓋下的以下的至少一種:含硫有機娃燒、含胺有機娃燒或含燒基的有機硅烷。在實施方案中，F(xiàn)由至少一種此類有機硅烷組成。在其中SiO2組分存在的實施方案中，y/x的摩爾比等于約0.01至約0.5并且x/z的摩爾比等于約0.5至約300。在其中SiO2組分不存在的實施方案中，y為O并且Z為I。a/z的摩爾比為約0.5至約5。
[0008]本發(fā)明還提供了一種包含化學式為(SiO2)15(OH)y.Cu1S5的化合物的組合物，其中y為殘余水分所測定的羥基物質(zhì)的相對表面濃度。
[0009]本發(fā)明進一步提供了一種通過從包含所公開的化合物的組合物中過濾基于水性的材料而產(chǎn)生的產(chǎn)品。
[0010]在一個實施方案中，本發(fā)明還提供了一種在100°C至350°C的溫度下由干燥所公開的組合物而產(chǎn)生的產(chǎn)品。
[0011]本發(fā)明還提供了一種形成含二氧化硅的產(chǎn)品/組合物的方法，所述方法包括:a.提供被包含在具有小于或等于pH約7的pH的溶液中的含二氧化硅的前體(SCP) ；b.任選地用一種或多種金屬物質(zhì)摻雜SCP，其中所述摻雜發(fā)生在溶液具有小于或等于pH約7的pH時；c.調(diào)節(jié)溶液的pH至大于約7 ;d.添加有效量的鹽至溶液以使得溶液的電導率大于或等于約4mS，其中所述添加發(fā)生在步驟Ic中的pH調(diào)節(jié)之前、與此同時或在此之后；e.任選地過濾和干燥SCP ;以及f.任選地使來自步驟e的干燥的產(chǎn)品與官能團反應并且任選地其中所得到的官能化的干燥的產(chǎn)品為以下的至少一種:官能化的金屬氧化物摻雜的或金屬硫化物摻雜的含二氧化硅的產(chǎn)品。
[0012]本發(fā)明還提供了一種形成含二氧化硅的產(chǎn)品/組合物的方法，所述方法包括:a.提供被包含在pH大于約7的溶液中的含二氧化硅的前體(SCP) ；b.調(diào)節(jié)溶液的pH至小于或等于約7 ;c.任選地用一種或多種金屬物質(zhì)摻雜SCP，其中所述摻雜發(fā)生在溶液具有小于或等于PH約7的pH時；d.調(diào)節(jié)溶液的pH至大于約7 ;e.添加有效量的鹽至溶液以使得溶液的電導率大于或等于約4mS，其中所述添加發(fā)生在步驟2d中的pH調(diào)節(jié)之前、與此同時或在此之后；f.任選地過濾和干燥SCP ;以及g.任選地使來自步驟f的干燥的產(chǎn)品與官能團反應并且任選地其中所得到的官能化的干燥的產(chǎn)品為以下的至少一種:官能化的金屬氧化物摻雜的或金屬硫化物摻雜的含二氧化硅的產(chǎn)品。 [0013]本發(fā)明還提供了一種形成不含二氧化硅的金屬硫化物產(chǎn)品/組合物的方法，所述方法包括:a.提供處于pH小于或等于約7下的金屬鹽溶液；b.調(diào)節(jié)溶液的pH至大于約7，其中用硫化物源發(fā)生PH調(diào)節(jié)；c.添加有效量的鹽至溶液以使得溶液的電導率大于或等于約4mS，其中所述添加發(fā)生在步驟c中的pH調(diào)節(jié)之前、與此同時或之后；d.任選地過濾和干燥產(chǎn)品；以及e.任選地使來自步驟d的干燥的產(chǎn)品與官能團反應并且任選地其中所得到的官能化的干燥的產(chǎn)品為官能化的金屬硫化物產(chǎn)品。
[0014]本發(fā)明進一步提供了一種處理含有汞的氣流的方法。方法包括在微粒物質(zhì)收集裝置之前將所公開的組合物應用到所述氣流中。在實施方案中，此種應用起到吸附、吸收或氧化至少一部分的存在于氣流中的汞或含汞化合物的作用。
[0015]發(fā)明詳述
[0016]如上所指出，本發(fā)明提供了一種包含具有硫組分的化合物(確切地化學式為(SiO2)x(OH)yMzSaF的化合物)的組合物，其中SiO2為任選組分。M包括以下金屬或準金屬陽離子的至少一種:硼、鎂、招、?丐、鈦、銀、猛、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、錯、鑰、鈕、銀、鎘、錫、鉬、金以及鉍。S包括選自以下的至少一種的基于硫的物質(zhì):硫化物鹽、二硫代氨基甲酸鹽以及基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽、多硫化物鹽。應了解，M可以包括至少一種所列舉的金屬、至少一種所列舉的準金屬陽離子或兩者的組合。在實施方案中，S由至少一種此類基于硫的物質(zhì)組成。F為任選組分并且包括處于約0.01%至約100%表面積覆蓋下的以下的至少一種:官能化的有機硅烷、含硫有機硅烷、含胺有機硅烷以及含烷基的有機硅烷。在實施方案中，F(xiàn)由至少一種此類有機硅烷組成。應了解，F(xiàn)的表面積覆蓋是指覆蓋F高達至M組分存在而獲得的剩余表面的100%(即，使用所有硅烷醇表面基團來附接有機硅烷)。在其中SiO2存在的實施方案中，y/x的摩爾比等于約0.01至約0.5并且x/z的摩爾比等于約0.1至約300。在其中SiO2F存在的實施方案中，y為O并且Z為I。a/z的摩爾比為約0.5至約5。
[0017]相對于組合物的組分，化合物可以處于各種形式和比例。另外，各種產(chǎn)品可以包含本發(fā)明所涵蓋的化合物。例如，以下化合物實施方案可以單獨存在，被化學和/或物理方式進一步改性或并入到其它產(chǎn)品(例如消費或工業(yè)產(chǎn)品)中。
[0018]在另一個實施方案中，本發(fā)明還提供了一種包含化學式為(SiO2)15(OH)y.Cu1S5的化合物的組合物，其中y為殘余水分所測定的羥基物質(zhì)的相對表面濃度。
[0019]在另一個實施方案中，化合物在基于水性的材料中構(gòu)成約3重量％至約15重量％。
[0020]在另一個實施方案中，化合物在濕餅形式中構(gòu)成約15重量％至約40重量％。
[0021]在另一個實施方案中，化合物在粉末形式中構(gòu)成約40重量％至約99重量％。[0022]在另一個實施方案中，化合物的粒徑大小為約5 μ m至約200 μ m，其包含約3nm至約500nm范圍內(nèi)的聚集的納米顆粒。
[0023]在另一個實施方案中，化合物的表面積為約30m2/g至約800m2/g。
[0024]在另一個實施方案中，化合物的孔體積為約0.3cc/g至約2.0cc/g。
[0025]在另一個實施方案中，產(chǎn)品通過從包含所公開的組合物中過濾基于水性的材料而產(chǎn)生。在此實施方案中，所公開的化合物在基于水性的材料中構(gòu)成約3重量％至約15重量％。在一個實施方案中，基于水性的材料為基于水性的泥漿。
[0026]在另一個實施方案中，產(chǎn)品由在約100°C至約350°C的溫度下干燥包含所公開的化合物的組合物而產(chǎn)生。
[0027]可以各種方式制得化合物，如美國專利申請公布號2007/0231249，所述專利申請以引用的方式并入本文。
[0028]如上所述，可以通過以下方法制得本發(fā)明所涵蓋的含硫產(chǎn)品。
[0029]一種方法涉及從酸性起點開始。
[0030]在一個實施方案中，方法包括形成含二氧化硅的產(chǎn)品，所述方法包括以下步驟:a.提供被包含在具有小于或等于pH約7的pH的溶液中的含二氧化硅的前體(SCP) ；b.任選地用一種或多種金屬物質(zhì)摻雜SCP，其中所述摻雜發(fā)生在溶液具有小于或等于pH約7的pH時；c.調(diào)節(jié)溶液的pH至大于約7 ;d.添加有效量的鹽至溶液以使得溶液的電導率大于或等于約4mS，其中所述添加發(fā)生在步驟Ic中的pH調(diào)節(jié)之前、與此同時或在此之后；e.任選地過濾和干燥SCP ;以及f.任選地使來自步驟e的干燥的產(chǎn)品與官能團反應并且任選地其中所得到的官能化的干燥的產(chǎn)品為以下的至少一種:官能化的金屬氧化物摻雜的或金屬硫化物摻雜的含二氧化硅的產(chǎn)品。
[0031]在另一個實施方案中，步驟f中的官能團為有機硅烷。
[0032]在另一個實施方案中，含硅前體選自以下的至少一種:硅酸、膠體二氧化硅、四乙基原硅酸鹽以及分散的熱解法二氧化硅。
[0033]在另一個實施方案中，步驟1(a)中的SCP的pH范圍為約3至約4。
[0034]在另一個實施方案中，通過在基于槳尖速度的6m/s至23m/s的剪切速率下，使所述SCP的分子與堿性溶液混合/相互作用來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于7。在另一個實施方案中，方法進一步包括通過經(jīng)由混合室使所述SCP與堿性溶液混合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于7。應了解，可以在本發(fā)明的方法中使用任何適合的混合裝置或室。混合室的實例被描述在美國專利號 7，550，060,“Method and Arrangement for Feeding Chemicals into a ProcessStream”中。此專利以引用的方式并入本文。在一個實施方案中，混合室包括:第一管道，其具有一個或多個入口和出口 ；第二管道，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第一管道固定至所述第二管道并且橫切所述第二管道；混合室，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第二管道固定至所述混合室并且其中所述第一管道的所述出口和所述第二管道的所述出口與所述混合室處于連通；以及適配器，其與所述混合室的所述出口處于連通并且固定至所述混合室?；旌鲜胰缓罂梢耘c容納/加工穿過(例如管道)的混合產(chǎn)品的容器附接或處于連通。在一個實施方案中，所述混合室然后可以與容納/加工由所述SCP的所述PH調(diào)節(jié)產(chǎn)生的混合產(chǎn)品的容器附接或處于連通。
[0035]另外，可以使用Ultra Turax 型號 UTI_25(從 Wilmington, NC 的IKA? Works 有限公司可獲得)的混合裝置。
[0036]設想在本發(fā)明的方法中可以使用任何適合的反應器或混合裝置/室。
[0037]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過用產(chǎn)生大于或等于2，000雷諾數(shù)的混合使所述SCP與堿性溶液組合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于約7以便形成含二氧化硅的產(chǎn)品。
[0038]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過在過渡流條件(即，雷諾數(shù)介于2，000與4，000之間)下使所述SCP與堿性溶液組合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于約7以便形成含二氧化硅的產(chǎn)品。
[0039]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過在湍流條件(即，雷諾數(shù)大于或等于4，000)下使所述SCP與堿性溶液組合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于7以便形成含二氧化硅的產(chǎn)
品O
[0040]在另一個實施方案中，通過使用選自以下的至少一種的化學品來將SCP的pH調(diào)節(jié)至約7至約11的pH范圍:氫氧化銨、碳酸銨、無機堿如但不限于氫氧化鈉和/或氫氧化鉀、有機堿如但不限于三甲基氫氧化銨、堿性硅酸鹽、硫化物鹽如但不限于硫化鈉以及含有多硫化物的鹽如但不限于多硫化鈣和/或多硫化鈉。
[0041]在另一個實施方案中，過濾和干燥由步驟d所得到的泥漿，以使得所述干燥和過濾的產(chǎn)品的固體濃度從約5wt%增加至約99wt%。
[0042]在另一個實施方案中，經(jīng)由注入到煙道氣管道系統(tǒng)中而干燥由步驟d所得到的泥衆(zhòng)，以使得所述干燥的產(chǎn)品的固體濃度從約5wt%增加至約99wt%。
[0043]在另一個實施方案中，經(jīng)由在至少一種方法中硅烷的控制的水解和縮合至二氧化硅表面來用有機硅烷表面處理來自步驟e的干燥的產(chǎn)品:有機溶劑法、超臨界溶劑法或無溶劑法。
[0044]另一種方法涉及從堿性起點開始。
[0045]在一個實施方案中，方法包括形成含二氧化硅的產(chǎn)品，所述方法包括以下步驟:a.提供被包含在pH大于約7的溶液中的含二氧化硅的前體(SCP) ；b.調(diào)節(jié)溶液的pH至小于或等于約7 ;c.任選地用一種或多種金屬物質(zhì)摻雜SCP，其中所述摻雜發(fā)生在溶液具有小于或等于PH約7的pH時；d.調(diào)節(jié)溶液的pH至大于約7 ;e.添加有效量的鹽至溶液以使得溶液的電導率大于或等于約4mS，其中所述添加發(fā)生在步驟2d中的pH調(diào)節(jié)之前、與此同時或在此之后；f.任選地過濾和干燥SCP ;以及g.任選地使來自步驟f的干燥的產(chǎn)品與官能團反應并且任選地其中所得到的官能化的干燥的產(chǎn)品為以下的至少一種:官能化的金屬氧化物摻雜的或金屬硫化物摻雜的含二氧化硅的產(chǎn)品。
[0046]在另一個實施方案中，步驟g中的官能團為有機硅烷。
[0047]在另一個實施方案中，含硅前體選自以下的至少一種:硅酸、膠體二氧化硅、堿性硅酸鹽、四乙基原硅酸鹽以及分散的熱解法二氧化硅。
[0048]在另一個實施方案中，通過使用以下的至少一種來調(diào)節(jié)含硅前體的pH以使得pH減小至約2至約7的范圍:碳酸、一種或多種有機酸如但不限于乙酸、一種或多種無機酸如但不限于硫酸和/或鹽酸。
[0049]在另一個實施方案中，用乙酸將SCP的pH范圍調(diào)節(jié)至約3至約4的范圍。
[0050]在另一個實施方案中，通過使用選自以下的至少一種的化學品來將SCP的pH調(diào)節(jié)至約7至約11的pH范圍:氫氧化銨、碳酸銨、無機堿、有機堿、堿性硅酸鹽、硫化物鹽以及含有多硫化物的鹽。
[0051]在另一個實施方案中，過濾和干燥由步驟e所得到的泥漿，以使得所述干燥和過濾的產(chǎn)品的固體濃度從約5wt%增加至約99wt%。
[0052]在另一個實施方案中，經(jīng)由注入到煙道氣管道系統(tǒng)中而干燥由步驟e所得到的泥衆(zhòng)，以使得所述干燥的產(chǎn)品的固體濃度從約5wt%增加至約99wt%。
[0053]在另一個實施方案中，經(jīng)由在以下的至少一種中硅烷的控制的水解和縮合至二氧化硅表面來用有機硅烷表面處理來自步驟f的干燥的產(chǎn)品:有機溶劑法、超臨界溶劑法或無溶劑法。
[0054]在另一個實施方案中，通過在基于槳尖速度的6m/s至23m/s的剪切速率下，使所述SCP與堿性溶液混合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于7。
[0055]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過經(jīng)由混合室使所述SCP與堿性溶液混合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于約7。混合室的實例被描述在美國專利號7，550，060，“Methodand Arrangement for Feeding Chemicals into a Process Stream” 中。此專利以弓I用的方式并入本文。在一個實施方案中，混合室包括:第一管道，其具有一個或多個入口和出口 ；第二管道，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第一管道固定至所述第二管道并且橫切所述第二管道；混合室，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第二管道固定至所述混合室并且其中所述第一管道的所述出口和所述第二管道的所述出口與所述混合室處于連通；以及適配器，其與所述混合室的所述出口處于連通并且固定至所述混合室?；旌鲜胰缓罂梢耘c容納/加工穿過(例如管道)的混合產(chǎn)品的容器附接或處于連通。在一個實施方案中，所述混合室然后可以與容納/加工由所述SCP的所述pH調(diào)節(jié)產(chǎn)生的混合產(chǎn)品的容器附接或處于連通。
[0056]另外，可以使用Ultra Turax 型號 UT1-25 (從 Wilmington, NC 的IK A R Works 有限公司可獲得)的混合裝置。設想在本發(fā)明的方法中可以使用任何適合的反應器或混合裝
置/室。
[0057]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過用產(chǎn)生大于或等于2，000雷諾數(shù)的混合使所述SCP與堿性溶液組合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于約7以便形成含二氧化硅的產(chǎn)品。
[0058]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過在過渡流條件(即，雷諾數(shù)介于2，000與4，000之間)下使所述SCP與堿性溶液組合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于約7以便形成基于
二氧化硅的產(chǎn)品。
[0059]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過在湍流條件(即，雷諾數(shù)大于或等于4，000)下使所述SCP與堿性溶液組合來調(diào)節(jié)SCP的pH至大于7以便形成含二氧化硅的產(chǎn)品。本發(fā)明的基于硫的物質(zhì)可以選自代表性列表，但不旨在為以下的至少一種的限制性列表:硫化物鹽、二硫代氨基甲酸鹽、基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽以及多硫化物鹽。硫化物鹽可以是但不限于硫化鈉、硫化鉀和/或金屬硫化物如硫化銅。二硫代氨基甲酸鹽可以是但不限于二甲基二硫代氨基甲酸鹽(DMDTC)或二乙基二硫代氨基甲酸鹽(DEDTC)?；诰酆衔锏亩虼被姿猁}包含了含有官能團RnCS2的有機聚合物，其中R為直鏈或支鏈的烷基。商業(yè)上可獲得的基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽的實例被描述在美國專利號5，164，095和5，346，627中，所述專利以引用的方式并入本文。在本發(fā)明中可以使用的多硫化物包括但不限于多硫化鈉和多硫化鈣。[0060]本發(fā)明進一步提供了 一種組合物，其中含二氧化硅的前體與金屬氧化物摻雜劑成團，以使得最終不連續(xù)的含二氧化硅的顆粒包含在高表面積、高孔體積結(jié)構(gòu)中均勻分散的金屬氧化物顆粒。預期貫穿含二氧化硅的顆粒構(gòu)架的均勻分散的不連續(xù)金屬氧化物顆粒為給定的金屬氧化物提供比凈金屬氧化物顆粒更多的反應表面積。
[0061]在一個實施方案中，本發(fā)明提供了一種涉及從不存在(SCP)的酸性起點開始的方法。
[0062]在一個實施方案中，方法包括形成基于硫的產(chǎn)品，所述方法包括以下步驟:a.提供處于pH小于或等于pH約7下的金屬鹽溶液；b.調(diào)節(jié)溶液的pH至大于約7,其中用硫化物源發(fā)生PH調(diào)節(jié)；c.添加有效量的鹽至溶液以使得溶液的電導率大于或等于約4mS，其中所述添加發(fā)生在步驟b中的pH調(diào)節(jié)之前、與此同時或在此之后；d.任選地過濾和干燥泥漿；以及e.任選地使來自步驟d的干燥的產(chǎn)品與官能團反應并且任選地其中所得到的官能化的干燥的產(chǎn)品為金屬硫化物產(chǎn)品。
[0063]在另一個實施方案中，步驟e中的官能團為有機硅烷。
[0064]在另一個實施方案中，步驟1(a)中的金屬鹽溶液的pH范圍為約2至約6。
[0065]在另一個實施方案中，通過在基于槳尖速度的約6m/s至約23m/s的剪切速率下，使所述金屬鹽的分子與堿性溶液混合/相互作用來調(diào)節(jié)金屬鹽溶液的PH至大于約7。在另一個實施方案中，方法進一步包括通過經(jīng)由混合室使所述金屬鹽溶液與堿性溶液混合來調(diào)節(jié)金屬鹽溶液的pH至大于約7。混合室的實例被描述在美國專利號7，550，060，“Methodand Arrangement for Feeding Chemicals into a Process Stream” 中。此專利以弓I用的方式并入本文。在一個實施方案中，混合室包括:第一管道，其具有一個或多個入口和出口 ；第二管道，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第一管道固定至所述第二管道并且橫切所述第二管道；混合室，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第二管道固定至所述混合室并且其中所述第一管道的所述出口和所述第二管道的所述出口與所述混合室處于連通；以及適配器，其與所述混合室的所述出口處于連通并且固定至所述混合室?；旌鲜胰缓罂梢耘c容納/加工穿過(例如管道)的混合產(chǎn)品的容器附接或處于連通。在一個實施方案中，所述混合室然后可以與容納/加工由所述金屬鹽溶液的所述PH調(diào)節(jié)產(chǎn)生的混合產(chǎn)品的接容器附接或處于連通。
[0066]另外，可以使用Ultra Turax 型號 UT1-25 (從 Wilmington, NC 的IKA? Works 有限公司可獲得)的混合裝置。設想在本發(fā)明的方法中可以使用任何適合的反應器或混合裝
置/室。
[0067]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過用產(chǎn)生大于或等于2000雷諾數(shù)的混合使所述金屬鹽溶液與包含硫化物源的堿性溶液組合來調(diào)節(jié)金屬鹽溶液的PH至大于約7以便形成基于硫的產(chǎn)品。
[0068]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過在過渡流條件(即，雷諾數(shù)介于2，000與4，000之間)下，使所述金屬鹽溶液與包含硫化物源的堿性溶液組合來調(diào)節(jié)金屬鹽溶液的PH至大于約7以便形成基于硫的產(chǎn)品。
[0069]在另一個實施方案中，方法進一步包括通過在湍流條件(即，雷諾數(shù)大于或等于4，000)下，使所述金屬鹽溶液與包含硫化物源的堿性溶液組合來調(diào)節(jié)金屬鹽溶液的pH至大于約7以便形成基于硫的產(chǎn)品。[0070]在另一個實施方案中，還通過使用選自以下的至少一種的化學品來將金屬鹽溶液的PH調(diào)節(jié)至約7至約11的pH范圍:氫氧化銨、碳酸銨、無機堿如但不限于氫氧化鈉和/或氫氧化鉀、有機堿如但不限于三甲基氫氧化銨、堿性硅酸鹽、硫化物鹽如但不限于硫化鈉以及含有多硫化物的鹽如但不限于多硫化鈣和/或多硫化鈉。
[0071]在另一個實施方案中，過濾和干燥由步驟c所得到的泥漿，以使得所述干燥和過濾的產(chǎn)品的固體濃度從約5wt%增加至約99wt%。
[0072]在另一個實施方案中，經(jīng)由用霧化器或噴嘴注入到煙道氣管道系統(tǒng)中而干燥由步驟c所得到的泥漿，以使得所述干燥的產(chǎn)品的固體濃度從約5wt%增加至約99wt%。
[0073]在另一個實施方案中，經(jīng)由在至少一種方法中硅烷的控制的水解和縮合至二氧化硅表面來用有機硅烷表面處理來自步驟e的干燥的產(chǎn)品:有機溶劑法、超臨界溶劑法或無溶劑法。
[0074]在本發(fā)明中可以使用的有機硅烷為本領(lǐng)域中眾所周知的，并且通?？梢杂蒖(4-a)-SiXa表示，其中a可以是I至3。有機官能團R-可以是含有官能團如丙基、丁基、3-氯丙基、胺、硫醇以及其組合的任何脂肪烴或烯烴。X代表可水解的烷氧基，通常為甲氧基或乙氧基。一些實例為3_硫代丙基和疏丙基娃燒。
[0075]在制備本發(fā)明的組合物的過程中，添加鹽以便增加反應溶液的電導率至4mS?？梢允褂玫柠}的實例包括但不限于堿金屬鹵化物和堿性鹵化物、硫酸鹽、磷酸鹽以及硝酸鹽，如亞硫酸鈉、氯化鉀、氯化鈉、硝酸鈉、硫酸鈣以及磷酸鉀。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將認識到，被添加以便達到希望的電導率的鹽的有效量將取決于選擇的鹽而變化。
[0076]硫醇和胺通常由含有通式為-B-(SH)或-B-(NH2)的胺或硫醇基團的有機化合物和無機化合物的類別表示，其中B為由碳原子組成的直鏈或支鏈基團如-(CH2)n-,其中η為I至15，具體地其中η為I至6，并且最優(yōu)選地其中η為3。
[0077]含二氧化硅的化學品或不含二氧化硅的化學品可以被應用至各種方法。
[0078]如上所述，本公開內(nèi)容涉及一種處理含有汞的氣流的方法，所述方法包括:在微粒物質(zhì)收集裝置之前將所公開的組合物應用到所述氣流中。
[0079]在一個實施方案中，組合物吸附氣流中的至少一部分的至少一種含汞化合物。
[0080]在一個實施方案中，組合物吸收氣流中的至少一部分的至少一種吸附的含汞化合物。
[0081]在一個實施方案中，組合物氧化氣流中的至少一種含汞化合物。
[0082]本文使用術(shù)語“吸附劑”、“泥漿”或類似的術(shù)語旨在涵蓋作為吸附劑、吸收劑或氧化劑的所公開的組合物。
[0083]在一個實施方案中，微粒物質(zhì)收集裝置為以下裝置的一種或多種:靜電沉淀(ESP)、過濾、慣性分離、集塵室、旋風分離器、噴霧干燥吸收器(SDA)、濕煙道氣脫硫器(wFGD)或其任何組合。
[0084]在另一個實施方案中，氣流源自熱發(fā)電系統(tǒng)，所述熱發(fā)電系統(tǒng)包含以下熱發(fā)電系統(tǒng)的至少一種:燃燒系統(tǒng)；發(fā)電廠燃燒系統(tǒng)；煤燃燒系統(tǒng)；廢物焚燒系統(tǒng)；窯爐；用于采礦操作的窯爐；回收鍋爐；煤的氣化加工流；煤氣生產(chǎn)流；生物質(zhì)燃燒系統(tǒng)以及礦石處理系統(tǒng)。
[0085]在另一個實施方案中，通過用載氣將所述吸附劑應用到氣流中來使吸附劑曝露于氣流；任選地其中所述載氣為空氣或氮氣；任選地其中在微?？刂蒲b置上游應用所述載氣；并且任選地其中所述微粒物質(zhì)收集裝置包含以下裝置的至少一種:ESP、集塵室或旋風分離器。
[0086]在另一個實施方案中，本發(fā)明的組合物包含吸附劑泥漿(例如，液體或水性泥漿)，所述吸附劑泥漿經(jīng)由用霧化器或噴嘴將所述泥漿注入到帶有載氣的氣流中而應用至氣流，這樣使得液體泥漿被分散成控制的液滴。
[0087]在另一個實施方案中，通過例如經(jīng)由噴霧干燥器應用作為與堿性硫氧化物吸附劑共混的泥漿來使吸附劑應用至氣流，所述吸附劑如但不限于天然堿、氫氧化鈣、石灰、熟石灰或含有如在美國專利號5，334，564和US5，520，898中描述的化合物或材料或其組合的氧化鈣，所述專利以引用的方式并入本文。
[0088]在另一個實施方案中，通過應用作為與堿性硫氧化物吸附劑共混的泥漿來使吸附劑泥漿應用至氣流(例如，經(jīng)由噴霧干燥器)，所述吸附劑如但不限于天然堿、氫氧化鈣、石灰、熟石灰或含有如在美國專利號5，334，564和US5，520，898中描述的化合物或材料或其組合的氧化鈣，所述專利以引用的方式并入本文。
[0089]在另一個實施方案中，在泥漿應用至氣流之前，在泥漿儲存罐、進料罐、再循環(huán)管線、進料管線中或與混合室成一直線而使吸附劑或吸附劑泥漿與堿性硫氧化物吸附劑泥漿混合。在一個實施方案中，混合室包括:第一管道，其具有一個或多個入口和出口 ；第二管道，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第一管道固定至所述第二管道并且橫切所述第二管道；混合室，其具有一個或多個入口和出口，其中所述第二管道固定至所述混合室并且其中所述第一管道的所述出口和所述第二管道的所述出口與所述混合室處于連通；以及適配器，其與所述混合室的所述出口處于連通并且固定至所述混合室?；旌鲜胰缓罂梢耘c容納/加工穿過(例如管道)的混合產(chǎn)品的容器附接或處于連通。
[0090]在另一個實施方案中，在吸附劑的上游應用堿性硫氧化物吸附劑。在另外的實施方案中，通過像FSI (爐膛吸附劑注入)這樣方法與吸附劑分開而添加含堿性硫氧化物的吸附劑。
[0091]在另一個實施方案中，通過將吸附劑容納在氣流會穿過其中的固定床裝置中而將吸附劑應用至氣流。
[0092]在另一個實施方案中，吸附劑與1%至50%的其它無機吸附劑組合，所述無機吸附劑如鋁硅酸鹽、含二氧化硅的材料或沸石或其組合。
[0093]在另一個實施方案中，吸附劑組合物進一步包含1%至50%活性炭。
[0094]在另一個實施方案中，吸附劑以1%至50%的比率與活性炭共混，所述活性炭由美國專利號6，521，021中描述的取碳工藝(Thief Carbon process)所產(chǎn)生,并且所述專利以引用的方式并入本文。
[0095]在另一個實施方案中，吸附劑組合物進一步包含1%至50%的基于二氧化硅或基于鋁硅酸鹽的汞吸附劑，如在美國專利號7，572,421中描述的汞吸附劑，并且所述專利以引用的方式并入本文。
[0096]在另一個實施方案中，方法進一步包括:將氧化劑應用至煙道氣。
[0097]在另一個實施方案中，在所述吸附劑之前應用氧化劑。
[0098]在另一個實施方案中，氧化劑選自由以下組成的組:不耐熱的分子鹵素、溴化鈣以及含齒化合物如但不限于溴化氫、氯化氫、溴化銨、氯化銨、氯化鈉、溴化鈉、氯化鈣或其組
口 O
[0099]在另一個實施方案中，存在多個微粒收集裝置；任選地其中所述微粒收集裝置中的一個跟隨另一個微粒收集裝置之后放置。
[0100]在另一個實施方案中，通過將吸附劑加熱到至少500°C以便使已被吸收在吸附劑上的汞脫附來再生吸附劑。
[0101]在另一個實施方案中，吸附劑或與其它材料組合的吸附劑被包含在用于過濾器集塵室中的纖維袋內(nèi)。
[0102]在另一個實施方案中，通過像FSI這樣的方法與吸附劑分開而添加含堿性硫氧化物的吸附劑。
[0103]在另一個實施方案中，吸附劑與其它無機汞吸附劑組合，所述無機汞吸附劑如但不限于天然或合成的鋁硅酸鹽、沸石或基于二氧化硅的材料。
[0104]在另一個實施方案中，活性炭被鹵化的活性炭替代或與鹵化的活性炭混合，所述鹵化的活性炭可以是但不限于氯化的活性炭或溴化的活性炭。
[0105]在另一個實施方案中，活性炭由基于碳的起始材料制備，如但不限于煤、褐煤、木材、木材副產(chǎn)品或樹皮。
[0106]在另一個實施方案中，用于控制汞排放和物種形成而將吸附劑或組合物應用至氣流的方法可以通過本領(lǐng)域中已知的各種方法來實現(xiàn)，例如通過噴槍、額外的介質(zhì)如燃料源(例如煤)、傳送帶、一個或與燃燒系統(tǒng)處于連通的端口(例如不對稱安放的端口)。
[0107]在另一個實施方案中，氣流包含以下鹵素的至少一種:氯化物、溴化物、碘化物以
及其鹽。
[0108]在另一個實施方案中，在所述煙道氣的所述處理之前使氧化劑與所述吸附劑組
口 ο
[0109]在另一個實施方案中，至少在以下時間點中的一個處將氧化劑應用至氣流:在所述吸附劑至煙道氣的所述應用之前、之后以及與此同時。
[0110]在另一個實施方案中，通過一種或介質(zhì)將氧化劑傳送到氣流中。
[0111]在另一個實施方案中，介質(zhì)為煤并且所述氣流源自至少煤燃燒系統(tǒng)。
[0112]在另一個實施方案中，吸附劑進一步包含一種或多種齒素。
[0113]在另一個實施方案中，吸附劑能夠在所述氣流中被示蹤。
[0114]在另一個實施方案中，吸附劑包含一個或多個部分或包含一個或多個能夠被一種或多種分析技術(shù)或定量試驗方案所定量的官能團。
[0115]在另一個實施方案中，部分為磁性的。例如，磁性部分被并入如本公開內(nèi)容所描述的含二氧化硅的顆粒及其等價物中。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將能夠使部分(例如磁性部分)并入到顆粒(例如含二氧化硅的顆粒)中。
[0116]在另一個實施方案中，通過熒光和/或吸光度測量來監(jiān)測吸附劑。
[0117]在另一個實施方案中，方法進一步包括監(jiān)測汞排放系統(tǒng)和根據(jù)所述系統(tǒng)中的汞水平作出添加所述吸附劑的反應。
[0118]實施例1
[0119]在本實施例中，將2180g的7wt%硅酸添加至被加熱至90°C的含有450g去離子(DI)水和150g娃酸的溶液(heel)。經(jīng)由螺動泵、在10ml/min下持續(xù)3h將娃酸饋送到5L反應燒瓶中。
[0120]在24.6g DI水中制備含有16.4g的25wt%氨溶液和5.84g碳酸銨的溶液。迅速將溶液添加至反應燒瓶，因此溶液的粘度顯著增加。攪拌混合物30分鐘，然后在20ml/min下饋送任何剩余的硅酸。當硅酸饋送完成時，關(guān)閉加熱并且允許溶液冷卻。
[0121]過濾二氧化硅泥漿，并且在150°C下冷凍干燥以便產(chǎn)生干燥粉末。在來自Quantachrome的Autosorb-1C單元上進行粉末的氮吸附分析。在300°C下使樣品脫氣2h,然后通過多點BET(Brunauer、Emmett和Teller—表面積測試)表征表面積、總孔體積以及BJH(Barrett-Joyner-Halenda)吸附孔徑分布。物理數(shù)據(jù)表明每克354平方米的表面積、
1.19cc/g的孔體積以及13.5nm的孔直徑。
[0122]實施例2
[0123]在本實施例中，將1414g的8.3wt%硅酸添加至被加熱至90°C的含有16.3g硫酸銅、400g DI水以及200g硅酸的溶液。經(jīng)由蠕動泵、在8ml/min下持續(xù)3h將硅酸饋送到5L反應燒瓶中。
[0124]在200g DI水中制備含有17.3g硫化鈉和11.8g的25wt%氨水的溶液。在3h的硅酸饋送之后迅速將溶液添加至反應燒瓶，其中溶液的粘度顯著增加。攪拌混合物30分鐘，然后在16ml/min下饋送任何剩余的硅酸。當硅酸饋送完成時，關(guān)閉加熱并且允許溶液冷卻。
[0125]過濾CuS摻雜的二氧化硅泥漿，并且在105°C下干燥以便產(chǎn)生干燥粉末。在來自Quantachrome的Autosorb-1C單元上進行粉末的氮吸附分析。在105°C下使樣品脫氣4h,然后通過多點BET表征表面積、總孔體積以及BJH吸附孔徑分布。氮吸附分析表明每克321平方米的表面積、1.46cc/g的孔體積以及18.2nm的孔直徑。
[0126]實施例3
[0127]在本實施例中，制備了三種溶液:A) 12kg的納爾科N8691 二氧化硅溶膠、B)溶解在
5.24kg DI水中的396g硫酸銅和360g冰醋酸以及C)溶解在16kg DI水中的1.1kg多硫化鈣溶液和900g25wt%氨水。將溶液B添加至溶液A，接著在高剪切速率下隨后添加溶液C。在過濾之前攬拌混合物I至2分鐘。可以從位于1601West Diehl Road, Naperville, IL.60563的納爾科公司獲得納爾科N8691。
[0128]過濾CuS摻雜的二氧化硅泥漿，并且在565 °F下快速干燥以便產(chǎn)生干燥粉末。在來自Quantachrome的Autosorb-1C單元上進行粉末的氮吸附分析。在105°C下使樣品脫氣4h，然后通過多點BET表征表面積、總孔體積以及BJH吸附孔徑分布。氮吸附分析表明每克227平方米的表面積、0.45cc/g的孔體積以及7.9nm的孔直徑。
[0129]實施例4
[0130]在本實施例中，制備了三種溶液:A)2kg的納爾科N8691 二氧化硅溶膠、B)溶解在887g DI水中的53.2g硫酸鐵和60g冰醋酸以及C)溶解在2667g DI水中的184g多硫化鈣溶液和150g25wt%氨水。將溶液B添加至溶液A，接著在高剪切速率下隨后添加溶液C。在過濾之前攪拌混合物I至2分鐘。然后過濾硫化鐵摻雜的二氧化硅泥漿，并且在565 °卩下快速干燥以便產(chǎn)生干燥粉末。
[0131]實施例5[0132]在本實施例中，制備了兩種溶液:A)溶解在25g DI水中的1.65g硫酸銅和B)稀釋在25g DI水中的4.6g多硫化鈣溶液和0.5g碳酸銨。在高剪切速率下，將溶液B添加至溶液A。在注入到氣流之前攪拌混合物I至2分鐘。
[0133]實施例6
[0134]在空氣預熱器與微粒控制裝置之間的位置將吸附劑注入到燃煤發(fā)電廠的煙道氣中。為了進行注入，吸附劑由料倉饋送并且通過被放置在煙道氣管道內(nèi)的注入噴槍由空氣運送至工作的位置上，從而在煙道氣內(nèi)提供材料的良好分散，覆蓋管道的全部截面積。重量分析測定吸附劑進料速率，并且根據(jù)希望的汞捕獲目標將其設定在0.llb/MMacf至IOlb/MMacf的范圍內(nèi)。通過由Appendix K吸附劑阱和連續(xù)汞排放監(jiān)測器(Hg-CEM)得到的煙道氣汞濃度的測量以及通過灰燼中的汞水平的測量來驗證通過吸附劑從煙道氣中捕獲汞。
[0135]專利申請中描述的組分的組合
[0136]在一個實施方案中，物質(zhì)權(quán)利要求的組合物包括吸附劑組分和相關(guān)的組合物的各種組合，如組成顆粒的摩爾比。在另外的實施方案中，所要求權(quán)利的組合物包括從屬權(quán)利要求的組合。在另外的實施方案中，具體組分的范圍或其等價物應包括在范圍內(nèi)的一種或多種單獨組分或在范圍內(nèi)的范圍。
[0137]在另一個實施方案中，用途權(quán)利要求的方法包括吸附劑組分和相關(guān)的組合物的各種組合，如組成顆粒的摩爾比。在另外的實施方案中，所要求權(quán)利的用途的方法包括從屬權(quán)利要求的組合。在另外的實施方案中，具體組分的范圍或其等價物應包括在范圍內(nèi)的一種或多種單獨組分或在范圍內(nèi)的范圍。
[0138]在另一個實施方案中，制造方法的權(quán)利要求包括吸附劑組分和相關(guān)的組合物的各種組合，如pH控制。在另外的實施方案中，所要求權(quán)利的用途的方法包括從屬權(quán)利要求的組合。在另外的實施方案中，具體組分的范圍或其等價物應包括在范圍內(nèi)的一種或多種單獨組分或在范圍內(nèi)的范圍。
[0139]按照本公開內(nèi)容不需要過度的實驗可以制得和實行本文公開和要求權(quán)利的所有組合物和方法。雖然可以許多不同形式實施本發(fā)明，但是本文詳細描述了本發(fā)明的具體優(yōu)選的實施方案。本公開內(nèi)容為本發(fā)明的原理的示范并不旨在將本發(fā)明限制于所說明的具體實施方案。另外，除非明確地相反說明，否則使用術(shù)語“a(—個)”旨在包括“至少一個”或“一個或多個”。例如，“一個裝置”旨在包括“至少一個裝置”或“一個或多個裝置”。
[0140]以絕對術(shù)語或以近似術(shù)語給出的任何范圍旨在涵蓋本文使用的所有和任何定義，所述定義旨在闡明并不限制。盡管本發(fā)明的廣范圍列出的數(shù)字范圍和參數(shù)為近似值，但是在具體實施例中列出的數(shù)值為盡可能被精確報道的。然而，任何數(shù)值固有地包含必然由它們各自測試測量中出現(xiàn)的標準偏差所產(chǎn)生的某些誤差。此外，本文公開的所有范圍應被理解為涵蓋歸入其中的任何和所有子范圍(包括所有分數(shù)和整數(shù)值)。
[0141]此外，本發(fā)明涵蓋本文描述的一些或所有各種實施方案的任何和所有可能的組合。本申請中引用的任何和所有的專利、專利申請、科技論文及其它參考文獻以及在此引用的任何參考文獻特此以引用的方式整體并入。還應理解，對本文所描述的目前優(yōu)選的實施方案的各種變化和修改將對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言清楚的?？梢圆槐畴x本發(fā)明的精神和范圍并且不減少本發(fā)明所意圖的優(yōu)點而作出此類變化和修改。因此意圖是，所附權(quán)利要求書涵蓋了此類變化和修改。
【權(quán)利要求】
1.一種處理含有至少一種汞化合物或物質(zhì)的氣流的方法，所述方法包括:在微粒物質(zhì)收集裝置之前將組合物應用到所述氣流中，其中所述組合物包含具有以下化學式(SiO2)x(OH)yMzSaF的化合物，其中(i)Si02為任選組分；(ii)M包括以下金屬或準金屬陽離子的至少一種:硼、鎂、招、?丐、鈦、銀、猛、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、錯、鑰、鈕、銀、鎘、錫、鉬、金以及鉍；(iii)S包括選自以下的至少一種的基于硫的物質(zhì):硫化物鹽、二硫代氨基甲酸鹽、基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽以及多硫化物鹽；(iii)F為任選組分并且如果存在，包括處于0.01%至100%表面積覆蓋下的以下的至少一種:官能化的有機硅烷、含硫有機硅烷、含胺有機硅烷以及含烷基的有機硅烷；(iv)如果SiO2存在，y/X的摩爾比等于約0.01至約0.5并且x/z的摩爾比等于約0.1至約300，并且如果SiO2不存在，X為O并且Z為I ;并且(V) a/z的摩爾比為約0.5至約5。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其進一步包括吸附至少一部分的所述至少一種汞化合物或物質(zhì)。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其進一步包括氧化至少一部分的所述至少一種汞化合物或物質(zhì)。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述微粒物質(zhì)收集裝置為以下裝置的一種或多種:靜電沉淀(ESP)、過濾、慣性分離、集塵室、旋風分離器以及噴霧干燥吸收器或濕煙道氣脫硫器。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述氣流源自熱發(fā)電系統(tǒng)，并且其中所述熱發(fā)電系統(tǒng)為以下的至少一種:燃燒系統(tǒng)；發(fā)電廠燃燒系統(tǒng)；煤燃燒系統(tǒng)；廢物焚燒系統(tǒng)；窯爐；用于采礦操作的窯爐；回收鍋爐；煤的氣化加工流；煤氣生產(chǎn)流；生物質(zhì)燃燒系統(tǒng)以及礦石加工系統(tǒng)。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過用載氣將所述組合物應用到所述氣流中而使所述組合物曝露于所述氣流。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中所述載氣包括空氣或氮氣。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述組合物包含吸附劑泥漿，并且經(jīng)由用霧化器或噴嘴將所述吸附劑泥漿注入到所述氣流中以使得所述吸附劑泥漿被分散成控制的液滴而將所述吸附劑泥漿應用至所述氣流。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過應用作為具有同時或分開應用的堿性硫氧化物吸附劑的泥漿狀共混物而將所述組合物應用至所述氣流。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中在將所述漿料應用至所述氣流之前，在儲存罐、進料罐、再循環(huán)管線、進料管線或混合室中使所述組合物或泥漿狀共混物與所述堿性硫氧化物吸附劑泥漿混合。
11.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過將所述組合物容納在所述氣流會穿過其中的固定床裝置中而將所述組合物應用至所述氣流。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過在流化床裝置中用所述氣流夾帶所述組合物而將所述組合物應用至所述氣流。
13.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述組合物進一步包含1%至50%活性炭或鹵化的活性炭。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其進一步包括在所述組合物被應用至所述氣流之前或之后將氧化劑應用至所述煙道氣。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述氧化劑包括以下的至少一種:不耐熱的分子鹵素、溴化鈣、含鹵化合物以及其組合。
16.如權(quán)利要求1所述的方法，其中存在多個微粒收集裝置；任選地其中所述微粒收集裝置中的一個跟隨另一個微粒收集裝置之后放置。
17.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述組合物通過將它加熱到至少500°C以便使已被吸附或吸收在所述組合物上的所述汞脫附而再生。
18.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述組合物與其它無機汞吸附劑組合，所述無機汞吸附劑選自天然或合成的鋁硅酸鹽、沸石、含二氧化硅的材料以及其組合的至少一種。
19.如權(quán)利要求1所述的方法，其中氣流包含以下鹵素的至少一種:氯化物、溴化物、碘化物以及其鹽。
20.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述組合物進一步包含至少一種鹵素。
21.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述組合物包含至少一個部分或包含至少一個能夠被一種或多種分析技術(shù)或定量試驗方案所定量的官能團。
22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中所述部分為磁性的。
23.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過用或不用惰性示蹤劑的熒光和/或吸光度測量來監(jiān)測所述組合物。
24.如權(quán)利要求1所述的方法，其進一步包括監(jiān)測汞排放系統(tǒng)和根據(jù)所述系統(tǒng)中的所述汞水平作出添加所述組合物`的反應。
【文檔編號】B01D53/02GK103796738SQ201280045302
【公開日】2014年5月14日 申請日期:2012年10月4日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月7日
【發(fā)明者】N·S·厄剛, B·A·凱瑟, R·米姆娜 申請人:納爾科公司