專利名稱：非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置及處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種廢氣的凈化裝置，具體涉及一種非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置及處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域產(chǎn)生的氣態(tài)污染，如H2S、SO2、NOx、VOCs等問(wèn)題也日益嚴(yán)重。國(guó)家的相關(guān)法律法規(guī)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)都對(duì)氣體的排放標(biāo)準(zhǔn)有嚴(yán)格的限定，對(duì)污染氣體進(jìn)行治理是改善環(huán)境質(zhì)量的關(guān)鍵。傳統(tǒng)治理污染氣體的方法有燃燒法、吸附法、生物法、膜分離法、光催化法等。燃燒法的缺點(diǎn)是消耗的輔助燃料較多，浪費(fèi)熱能和不完全燃燒時(shí)會(huì)造成二次污染等；吸附法缺點(diǎn)是需要的吸附劑用量大和再生能耗高，氣流阻力大，而使風(fēng)機(jī)驅(qū)動(dòng)能耗高，流程復(fù)雜、吸附元件不能連續(xù)操作，當(dāng)廢氣中有膠粒物質(zhì)或其它雜質(zhì)時(shí)，吸附劑易失效等；生物法的實(shí)質(zhì)是利用介質(zhì)上聚集的活性微生物以氣體污染物作為其生命活動(dòng)的能源或養(yǎng)分，經(jīng)代謝降解，缺點(diǎn)是微生物對(duì)溫度和濕度變化敏感。低溫等離子技術(shù)是近年來(lái)氣態(tài)污染物治理領(lǐng)的熱點(diǎn)技術(shù)。相比于傳統(tǒng)的空氣凈化技術(shù)，低溫等離子體技術(shù)具有處理流程短、效率高、能耗低、二次污染少、適用范圍廣等特點(diǎn)。等離子體是電子、正負(fù)離子、激發(fā)態(tài)原子、原子以及自由基的混合狀態(tài)。等離子體的狀態(tài)主要取決于它的化學(xué)成分、粒子密度和粒子溫度等物理化學(xué)參量，其中粒子的密度和溫度是等離子體的兩個(gè)最基本的參量。在等離子體環(huán)境中，各種化學(xué)反應(yīng)都是在高激發(fā)態(tài)下進(jìn)行的，比通常的化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性更強(qiáng)、更易于和廢氣中的污染物發(fā)生反應(yīng)，在較短時(shí)間內(nèi)使得污染物分子分解，從而達(dá)到降解污染物的目的。而低溫等離子體技術(shù)常見(jiàn)的放電形式有:電弧、介質(zhì)阻擋放電、輝光放電和電暈放電。電弧的高溫以及電極損耗難以在污染氣體中獲得應(yīng)用。實(shí)現(xiàn)大氣壓下的輝光形式均勻穩(wěn)定的放電十分困難。電暈放電的電暈區(qū)較小僅限于電暈電極附近，放電電流也比較弱。介質(zhì)阻擋放電具有電流密度大、電子密度高和可在常壓下運(yùn)行的特點(diǎn)，使其在工業(yè)污染氣體的處理中具有良好的應(yīng)用前景。常規(guī)的介質(zhì)阻擋放電結(jié)構(gòu)由于介質(zhì)存在，使得其擊穿場(chǎng)強(qiáng)較高，而且放電區(qū)域較小(如同軸式)。由于放電區(qū)域較小，在同樣流量下，氣體與等離子體作用時(shí)間較短，污染氣體未能充分反應(yīng)或者有部分氣體未經(jīng)等離子體處理即隨尾氣排出，處理效率較低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置及處理系統(tǒng)，其能夠在較低的擊穿場(chǎng)強(qiáng)下產(chǎn)生高密度的等離子體，處理氣體全部通過(guò)等離子體區(qū)域，同時(shí)延長(zhǎng)污染氣體與等離子體作用時(shí)間，提高處理效率，降低能耗。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案為:一種非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置，其中包括等離子殼體，所述等離子殼體上設(shè)有進(jìn)、出氣口，位于進(jìn)、出氣口之間的等離子殼體的內(nèi)腔部分上至少一個(gè)橫截面內(nèi)安裝有若干個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)，位于同一橫截面內(nèi)的所述等離子處理機(jī)構(gòu)相互沿外緣方向連接且填滿所在的橫截面，所述等離子處理機(jī)構(gòu)垂直于等離子殼體的進(jìn)氣口，所述等離子處理機(jī)構(gòu)包括框形基座，所述基座由絕緣材料制成，所述基座的內(nèi)腔壁沿周向延伸有環(huán)狀凸緣，所述凸緣的前、后面分別連接地電極板和高壓電極板，所述地電極板的外緣與凸緣之間設(shè)有出風(fēng)口，所述凸緣與地電極板之間設(shè)有絕緣介質(zhì)板，所述地電極板的外表面設(shè)有第一絕緣層，所述地電極板上連接有地電極引出線，所述地電極引出線穿過(guò)第一絕緣層后與高壓交流電源的接地端連接，所述高壓電極板的前表面具有若干個(gè)尖錐體，各所述尖錐體的后表面為相應(yīng)的錐形槽，各所述尖錐體的尖端分別設(shè)有第一通孔，所述高壓電極板的后表面設(shè)有第二絕緣層，所述第二絕緣層上與各第一通孔位置前、后對(duì)應(yīng)的部位分別設(shè)有第二通孔，所述高壓電極板連接高壓電極引出線，所述高壓電極引出線穿出基座后與高壓電源的高壓端連接。本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置，其中所述等離子殼體為長(zhǎng)方體箱式結(jié)構(gòu)，其左、右兩端分別設(shè)有變徑的所述進(jìn)、出氣口，所述等離子處理機(jī)構(gòu)的基座為矩形框架結(jié)構(gòu)，相鄰等離子處理機(jī)構(gòu)的基座之間及相鄰的基座與等離子殼體之間分別通過(guò)C型槽鋼和固定螺釘連接在一起。本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置，其中所述等離子殼體上設(shè)有檢修門。本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置的廢氣處理系統(tǒng)，包括至少一個(gè)進(jìn)氣管和一個(gè)排氣管，其中各所述進(jìn)氣管分別與填料塔的進(jìn)氣口連通，各所述填料塔的排氣口分別通過(guò)第一連接管與所述處理裝置的等離子殼體的進(jìn)氣口連通，各所述等離子殼體的出氣口分別通過(guò)第二連接管與離心風(fēng)機(jī)連通，所述離心風(fēng)機(jī)分別通過(guò)第三連接管與至少一個(gè)排氣管連通。本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)，其中各所述等離子殼體的進(jìn)氣口與各第二連接管之間分別串連至少一個(gè)內(nèi)部裝有等離子處理機(jī)構(gòu)的等離子殼體。本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)，其中所述進(jìn)氣管上設(shè)有進(jìn)氣蝶閥。本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)，其中所述進(jìn)氣管與第一旁通管的一端連通，所述第一旁通管上設(shè)有旁路蝶閥，所述第一旁通管的另一端與第二連接管連通。采用上述方案后，本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置與廢氣接通，廢氣全部經(jīng)過(guò)等離子殼體內(nèi)腔的各等離子處理機(jī)構(gòu)，接通高壓交流電源，在高壓電極板的各尖錐體的尖端產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng)，使得該裝置可以在較低的擊穿電壓下產(chǎn)生高密度等離子體，該結(jié)構(gòu)克服了常規(guī)的介質(zhì)阻擋放電結(jié)構(gòu)由于介質(zhì)存在使得其擊穿場(chǎng)強(qiáng)較高的問(wèn)題，由于尖錐體的尖端開有通氣孔，它既作為放電電極，同時(shí)全部污染氣體均可通過(guò)，提高了氣體的處理效率，降低能耗，由于高介電常數(shù)絕緣介質(zhì)的作用，容易在放電區(qū)形成穩(wěn)定的等離子體，延長(zhǎng)等離子體與污染氣體作用時(shí)間，廢氣通過(guò)等離子體處理機(jī)構(gòu)時(shí)，高壓放電區(qū)產(chǎn)生的較低能量的電子與廢氣中的顆粒和微生物碰撞，使之荷電，從而被靜電場(chǎng)吸附清除；高壓放電區(qū)產(chǎn)生的能量較高的電子直接與廢 氣中的化學(xué)物質(zhì)碰撞，使之電離分解；高壓放電區(qū)產(chǎn)生的能量較高的電子與廢氣中多種成分相互作用，產(chǎn)生自由基，有害物質(zhì)與自由基進(jìn)行兩體甚至三體碰撞變?yōu)闊o(wú)害物。[0015]本實(shí)用新型的進(jìn)一步有益效果是:將等離子殼體設(shè)計(jì)為長(zhǎng)方體箱式結(jié)構(gòu)，將等離子處理機(jī)構(gòu)的基座設(shè)計(jì)為矩形框架結(jié)構(gòu)，相鄰等離子處理機(jī)構(gòu)的基座之間及相鄰的基座與等離子殼體之間分別通過(guò)C型槽鋼和固定螺釘連接在一起，這樣設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，方便安裝。本實(shí)用新型的進(jìn)一步有益效果是:在等離子殼體上設(shè)檢修門是為了方便檢修等離子殼體內(nèi)腔的等離子處理機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型的進(jìn)一步有益效果是:本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)的各進(jìn)氣管與廢氣接通，廢氣經(jīng)填料塔初步凈化后，全部經(jīng)過(guò)等離子殼體內(nèi)腔的各等離子處理機(jī)構(gòu)，接通高壓交流電源，在高壓電極板的各尖錐體的尖端產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng)，使得該裝置可以在較低的擊穿電壓下產(chǎn)生高密度等離子體，該結(jié)構(gòu)克服了常規(guī)的介質(zhì)阻擋放電結(jié)構(gòu)由于介質(zhì)存在使得其擊穿場(chǎng)強(qiáng)較高的問(wèn)題，由于尖錐體的尖端開有通氣孔，它既作為放電電極，同時(shí)全部污染氣體均可通過(guò)，提高了氣體的處理效率，降低能耗，由于高介電常數(shù)絕緣介質(zhì)的作用，容易在放電區(qū)形成穩(wěn)定的等離子體，延長(zhǎng)等離子體與污染氣體作用時(shí)間，廢氣通過(guò)等離子體處理機(jī)構(gòu)時(shí)，高壓放電區(qū)產(chǎn)生的較低能量的電子與廢氣中的顆粒和微生物碰撞，使之荷電，從而被靜電場(chǎng)吸附清除；高壓放電區(qū)產(chǎn)生的能量較高的電子直接與廢氣中的化學(xué)物質(zhì)碰撞，使之電離分解；高壓放電區(qū)產(chǎn)生的能量較高的電子與廢氣中多種成分相互作用，產(chǎn)生自由基，有害物質(zhì)與自由基進(jìn)行兩體甚至三體碰撞變?yōu)闊o(wú)害物。本實(shí)用新型的進(jìn)一步有益效果是:在各等離子殼體的進(jìn)氣口與各第二連接管之間分別串連至少一個(gè)內(nèi)部裝有等離子處理機(jī)構(gòu)的等離子殼體，其目的是為了進(jìn)一步延長(zhǎng)污染氣體與等離子體作用時(shí)間，提高處理效率。本實(shí)用新型的進(jìn)一步有益效果是:在進(jìn)氣管上設(shè)進(jìn)氣蝶閥的目的是為了調(diào)節(jié)廢氣流量和在緊急情況時(shí)關(guān)閉進(jìn)氣蝶閥，保護(hù)系統(tǒng)安全。本實(shí)用新型的進(jìn)一步有益效果是:在進(jìn)氣管與第二連接管之間連接第一旁通管，目的是為了在系統(tǒng)裝置出 現(xiàn)故障時(shí)，廢氣還可以經(jīng)第一旁通管排出。

圖1是本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)的實(shí)施例一結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置的等離子處理機(jī)構(gòu)的主視首丨J視圖;圖3是本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置的等離子處理機(jī)構(gòu)的俯視圖；圖4是本實(shí)用新型的單個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)的主視圖；圖5是本實(shí)用新型的單個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)的后視圖；圖6是本實(shí)用新型的單個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)的右視圖；圖7是圖4的A-A向剖視圖；圖8是圖5的B-B向剖視圖；圖9是本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)的實(shí)施例二結(jié)構(gòu)示意圖；圖10是本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)的實(shí)施例三結(jié)構(gòu)示意圖。
以下結(jié)合附圖，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明；具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)的實(shí)施例一結(jié)構(gòu)示意圖，其包括一個(gè)進(jìn)氣管I和一個(gè)排氣管2。進(jìn)氣管I上安裝有進(jìn)氣蝶閥22。進(jìn)氣管I與第一旁通管23的一端連通，第一旁通管23上安裝有旁路蝶閥24。進(jìn)氣管I與填料塔3的進(jìn)氣口連通。填料塔3的排氣口通過(guò)第一連接管4與等離子殼體5的進(jìn)氣口連通。等離子殼體5為空腔長(zhǎng)方體箱式結(jié)構(gòu)，其左、右端分別設(shè)有變徑的進(jìn)、出氣口，其下面通過(guò)支撐件29支撐，其前面加工有檢修門26。等離子殼體5的出氣口通過(guò)第二連接管6與離心風(fēng)機(jī)8連通。第二連接管6與第一旁通管23的另一端連通。離心風(fēng)機(jī)8通過(guò)第三連接管7與排氣管2連通。該離心風(fēng)機(jī)8的處理風(fēng)量為2000m3/h。結(jié)合圖2和圖3所示，等離子殼體5的內(nèi)腔同一橫截面內(nèi)安裝有4X5個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)9。即橫向排列4個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)9，縱向排列5個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)9。各個(gè)相鄰的等離子處理機(jī)構(gòu)9通過(guò)沿外緣方向相互連接且填滿該橫截面。等離子處理機(jī)構(gòu)9垂直于等離子殼體5的進(jìn)氣口。結(jié)合圖4至圖8所示，單個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)9包括基座10，基座10為矩形框架結(jié)構(gòu)。其尺寸為30CmX30Cm?；?0由絕緣材料制成。相鄰基座10之間、相鄰的基座10與等離子殼體5之間分別通過(guò)C型槽鋼27和固定螺釘28相互連接在一起?；?0的內(nèi)腔壁沿周向延伸有方環(huán)狀凸緣11。凸緣11的前、后面分別通過(guò)固定螺釘連接地電極板12和高壓電極板13。地電極板12和高壓電極板13由耐腐蝕的金屬板制成。地電極板12的外緣與凸緣11之間設(shè)有出風(fēng)口14。凸緣11與地電極板12之間設(shè)有絕緣介質(zhì)板15。地電極板12的外表面設(shè)有第一絕緣層16。地電極板12連接地電極引出線(圖中未示出)，該地電極引出線穿過(guò)第一絕緣層16后與高壓交流電源的接地端連接，高壓電極板13的前表面均布有若干個(gè)尖錐體17。尖錐體17的高度為5mm。各尖 錐體17的后表面為相應(yīng)的錐形槽。各尖錐體17的尖端分別加工有第一通孔18。第一通孔18的直徑為2mm。相鄰兩個(gè)第一通孔18的間距為10mm。高壓電極板13與地電極板12之間的距離為8mm。高壓電極板13的后表面設(shè)有第二絕緣層19。第二絕緣層19上與各第一通孔18位置前、后對(duì)應(yīng)的部位分別加工有第二通孔20。第二通孔20均布在第二絕緣層19上，使第二絕緣層19形成均流板。高壓電極板13連接高壓電極引出線21。高壓電極引出線21穿出基座10后與高壓交流電源的高壓端連接。使用時(shí)，廢氣與進(jìn)氣管I接通，啟動(dòng)離心風(fēng)機(jī)8，并且接通高壓電源。在離心風(fēng)機(jī)8的作用下，廢氣中的苯乙烯(C8H8)、二硫化碳(CS2)、硫化氫(H2S)和甲硫醇(CH3SH)經(jīng)氣體均配后，首先經(jīng)過(guò)填料塔3凈化過(guò)濾，然后進(jìn)入等離子殼體5的內(nèi)腔中，通過(guò)均布在等離子殼體5內(nèi)腔同一橫截面布置的20個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)9。接通高壓交流電源，在高壓電極板13的各尖錐體17的尖端產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng)，使得該系統(tǒng)可以在較低的擊穿電壓下產(chǎn)生高密度等離子體，由于尖錐體17的尖端開有第一通孔18，它既作為放電電極，同時(shí)全部污染氣體均可通過(guò)，提高了氣體的處理效率，降低能耗，廢氣通過(guò)等離子體處理機(jī)構(gòu)時(shí)，高壓放電區(qū)產(chǎn)生的較低能量的電子與廢氣中的顆粒和微生物碰撞，使之荷電，從而被靜電場(chǎng)吸附清除；高壓放電區(qū)產(chǎn)生的能量較高的電子直接與廢氣中的化學(xué)物質(zhì)碰撞，使之電離分解；高壓放電區(qū)產(chǎn)生的能量較高的電子與廢氣中多種成分相互作用，產(chǎn)生自由基，有害物質(zhì)與自由基進(jìn)行兩體甚至三體碰撞變?yōu)闊o(wú)害物，其具體過(guò)程為:(I)在等離子體產(chǎn)生區(qū)，在高能粒子的作用下，強(qiáng)氧化性自由基O產(chǎn)生；02+e — 20[0035](2)0與有機(jī)物分子、小基團(tuán)、其他自由基相互作用，最終產(chǎn)物為C0、C02、H20等。而苯乙烯(C8H8)被分解成二氧化碳和水。最后經(jīng)過(guò)處理的氣體經(jīng)排氣管2排出。在該系統(tǒng)每次運(yùn)行30min后，在排氣管2處采樣。苯乙烯(C8H8)的采樣測(cè)定方法按照國(guó)標(biāo)GB/T14677氣相色譜法；二硫化碳(CS2)的采樣測(cè)定方法按照國(guó)標(biāo)GB/T 14680 二乙胺分光光度法；硫化氫(H2S)和甲硫醇(CH3SH)的采樣測(cè)定方法按照國(guó)標(biāo)GB/T14678氣相色譜法；檢測(cè)結(jié)果(按惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)GB1455493)。實(shí)施效果如下表所示
權(quán)利要求1.一種非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置，其特征在于:包括等離子殼體(5)，所述等離子殼體(5)上設(shè)有進(jìn)、出氣口，位于進(jìn)、出氣口之間的等離子殼體(5)的內(nèi)腔部分上至少一個(gè)橫截面內(nèi)安裝有若干個(gè)等離子處理機(jī)構(gòu)(9)，位于同一橫截面內(nèi)的所述等離子處理機(jī)構(gòu)(9)相互沿外緣方向連接且填滿所在的橫截面，所述等離子處理機(jī)構(gòu)(9)垂直于等離子殼體(5)的進(jìn)氣口，所述等離子處理機(jī)構(gòu)(9)包括框形基座(10)，所述基座(10)由絕緣材料制成，所述基座(10)的內(nèi)腔壁沿周向延伸有環(huán)狀凸緣(11)，所述凸緣(11)的前、后面分別連接地電極板(12)和高壓電極板(13)，所述地電極板(12)的外緣與凸緣(11)之間設(shè)有出風(fēng)口(14)，所述凸緣(11)與地電極板(12)之間設(shè)有絕緣介質(zhì)板(15)，所述地電極板(12)的外表面設(shè)有第一絕緣層(16)，所述地電極板(12)上連接有地電極引出線，所述地電極引出線穿過(guò)第一絕緣層(16)后與高壓交流電源的接地端連接，所述高壓電極板(13)的前表面具有若干個(gè)尖錐體(17)，各所述尖錐體(17)的后表面為相應(yīng)的錐形槽，各所述尖錐體(17)的尖端分別設(shè)有第一通孔(18)，所述高壓電極板(13)的后表面設(shè)有第二絕緣層(19)，所述第二絕緣層(19)上與各第一通孔(18)位置前、后對(duì)應(yīng)的部位分別設(shè)有第二通孔(20)，所述高壓電極板(13)連接高壓電極引出線(21)，所述高壓電極引出線(21)穿出基座(10)后與高壓電源的高壓端連接。
2.如權(quán)利要求1所述的非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置，其特征在于:所述等離子殼體(5)為長(zhǎng)方體箱式結(jié)構(gòu)，其左、右兩端分別設(shè)有變徑的所述進(jìn)、出氣口，所述等離子處理機(jī)構(gòu)(9)的基座(10)為矩形框架結(jié)構(gòu)，相鄰等離子處理機(jī)構(gòu)(9)的基座(10)之間及相鄰的基座(10)與等離子殼體(5)之間分別通過(guò)C型槽鋼(27)和固定螺釘(28)連接在一起。
3.如權(quán)利要求2所述的非均勻 場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置，其特征在于:所述等離子殼體(5)上設(shè)有檢修門(26)。
4.一種使用如權(quán)利要求1-3之一所述的非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置的廢氣處理系統(tǒng)，包括至少一個(gè)進(jìn)氣管(I)和一個(gè)排氣管(2)，其特征在于:各所述進(jìn)氣管(I)分別與填料塔(3)的進(jìn)氣口連通，各所述填料塔(3)的排氣口分別通過(guò)第一連接管(4)與所述處理裝置的等離子殼體(5)的進(jìn)氣口連通，各所述等離子殼體(5)的出氣口分別通過(guò)第二連接管(6)與離心風(fēng)機(jī)(8)連通，所述離心風(fēng)機(jī)(8)分別通過(guò)第三連接管(7)與至少一個(gè)排氣管⑵連通。
5.如權(quán)利要求4所述的非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)，其特征在于:各所述等離子殼體(5)的進(jìn)氣口與各第二連接管(6)之間分別串連至少一個(gè)內(nèi)部裝有等離子處理機(jī)構(gòu)(9)的等尚子殼體(5) ο
6.如權(quán)利要求5所述的非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)，其特征在于:所述進(jìn)氣管(I)上設(shè)有進(jìn)氣蝶閥(22)。
7.如權(quán)利要求6所述的非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理系統(tǒng)，其特征在于:所述進(jìn)氣管(I)與第一旁通管(23)的一端連通，所述第一旁通管(23)上設(shè)有旁路蝶閥(24)，所述第一旁通管(23)的另一端與第二連接管(6)連通。
專利摘要一種非均勻場(chǎng)強(qiáng)等離子體廢氣處理裝置及處理系統(tǒng)，處理系統(tǒng)包括進(jìn)氣管、填料塔、處理裝置、離心風(fēng)機(jī)和排氣管依次連通，處理裝置的等離子殼體內(nèi)安裝若干層等離子處理機(jī)構(gòu)，等離子處理機(jī)構(gòu)包括基座，基座內(nèi)設(shè)有環(huán)狀凸緣，凸緣前、后面連接地電極板和高壓電極板，地電極板與凸緣間有出風(fēng)口且二者之間有絕緣介質(zhì)板，高壓電極板前表面具有若干尖錐體，其尖端設(shè)通孔，地電極板外表面和高壓電極板后表面分別設(shè)第一、二絕緣層，第二絕緣層上設(shè)第二通孔，高壓電極和地電極板分別通過(guò)電極引出線與高壓電源的高壓端、接地端連接。本實(shí)用新型能在較低擊穿場(chǎng)強(qiáng)下產(chǎn)生高密度等離子體，可處理全部氣體，延長(zhǎng)氣體與等離子體作用時(shí)間，提高處理效率。
文檔編號(hào)B01D53/76GK203108410SQ201320087718
公開日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2013年2月26日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月26日
發(fā)明者江健, 錢黎明, 王祥科, 程誠(chéng), 張芹, 余紅君, 倪國(guó)華, 胡浙平, 沈杰 申請(qǐng)人:中維環(huán)保科技有限公司