一種溶液稀釋池的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種溶液稀釋池，包括底部和上部，底部為圓柱形，上部為倒錐形，底部的底面平整，上部內(nèi)腔的總?cè)莘e至少為底部內(nèi)腔總?cè)莘e的20倍。本實用新型能夠?qū)π枰褂脺y試電極同步測量的溶液進(jìn)行稀釋，且圓柱形底部能夠滿足被稀釋試劑初始量有一定的高度浸沒測試電極的要求，稀釋倍數(shù)至少達(dá)到20倍，并且方便與磁力攪拌器和自動滴液裝置配合使用，以對溶液稀釋過程被稀釋試劑濃度變化進(jìn)行計算。
【專利說明】一種溶液稀釋池
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種用于稀釋溶液的器皿，屬于化學(xué)實驗器具【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]在常用的化學(xué)器具中，用于溶液稀釋的器皿，多為燒杯或三角燒瓶，此類器皿的共同特點是底部面積較大，對于某些特定的實驗，要求同時滿足以下三個條件:1、被稀釋試劑初始量有一定的高度，能夠浸沒某些特定測量儀器測試電極(如pH、電導(dǎo)率等)的敏感部件；
2、稀釋倍數(shù)至少為20倍；3、能夠與磁力攪拌器、試管夾配合使用。這樣，常規(guī)玻璃器皿就無法滿足要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型針對現(xiàn)有稀釋溶液的器皿存在的不足，提供一種能夠滿足對被稀釋試劑有一定高度要求(能夠浸沒測量儀器測試電極)、稀釋倍數(shù)至少達(dá)到20倍且能與試管夾、磁力攪拌器配合使用的溶液稀釋池。
[0004]本實用新型的溶液稀釋池，采用如下技術(shù)方案:
[0005]該溶液稀釋池，包括底部和上部，底部為圓柱形，上部為倒錐形，底部的底面平整，上部內(nèi)腔的總?cè)莘e至少為底部內(nèi)腔總?cè)莘e的20倍。
[0006]底部的內(nèi)腔高度根據(jù)測量儀器測試電極的高度設(shè)計，以能夠滿足被稀釋試劑初始量浸沒測量儀器測試電極的要求。
[0007]本實用新型能夠?qū)π枰褂脺y試電極(pH、電導(dǎo)率電極)同步測量的溶液進(jìn)行稀釋，且圓柱形底部能夠滿足被稀釋試劑初始量有一定的高度浸沒測試電極的要求，稀釋倍數(shù)至少達(dá)到20倍，并且方便與磁力攪拌器和自動滴液裝置配合使用，以對溶液稀釋過程被稀釋試劑濃度變化進(jìn)行計算。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]其中:1、底部,2、上部。
【具體實施方式】
[0010]如圖1所示，該溶液稀釋池包括底部I和上部2。底部I為圓柱形結(jié)構(gòu)，其內(nèi)腔高度根據(jù)測量儀器測試電極的高度設(shè)計，約為30_，以能夠滿足被稀釋試劑初始量浸沒測量儀器測試電極(如pH、電導(dǎo)率等)的要求，而且圓柱形底部I可以與試管夾配合使用，操作時方便夾持固定在鐵架臺上。底部I的底面平整，適合放置半徑小于15mm的磁子。上部I為倒錐形，上部2內(nèi)腔的總?cè)莘e至少為底部內(nèi)腔總?cè)莘e的20倍，以滿足能夠使被稀釋試劑至少稀釋20倍的要求。
[0011]進(jìn)行溶液稀釋時，將上述稀釋池置于磁力攪拌器上，并用試管夾夾持固定至鐵架臺上。按照至少稀釋20倍的要求并根據(jù)溶液稀釋池內(nèi)部總?cè)莘e，確定向稀釋池內(nèi)加入被稀釋試劑的體積(體積為vl)，試劑高度以沒過PH電極前端敏感元件為宜。打開磁力攪拌器電源開關(guān)，等體積(體積為Vl)向稀釋池內(nèi)加入蒸餾水，每加入一次即為被稀釋試劑稀釋一倍，在稀釋池容量范圍內(nèi)，稀釋倍數(shù)至少可為20倍。
【權(quán)利要求】
1.一種溶液稀釋池，包括底部和上部，其特征是:底部為圓柱形，上部為倒錐形，底部的底面平整，上部內(nèi)腔的總?cè)莘e至少為底部內(nèi)腔總?cè)莘e的20倍。
【文檔編號】B01L3/00GK203484169SQ201320572799
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年9月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月16日
【發(fā)明者】李鼎, 劉炳順 申請人:山東省遠(yuǎn)大網(wǎng)絡(luò)多媒體股份有限公司