準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,所用反應(yīng)器包括四層石英介質(zhì)層,分別為由內(nèi)向外依次設(shè)置的第一石英管、第二石英管、第三石英管和第四石英管,內(nèi)電極設(shè)置在第一石英管內(nèi),外電極設(shè)置在第三石英管外側(cè)面;第一石英管與第二石英管之間的空間為A區(qū)反應(yīng)區(qū);第三石英管的上、下兩端端口燒結(jié)在第二石英管的外側(cè)面,從而第二石英管與第三石英管之間形成密閉的環(huán)形空腔,該密閉的環(huán)形空腔為氣體填充B區(qū);第四石英管與第三石英管之間的空間為C區(qū)反應(yīng)區(qū);經(jīng)過A區(qū)的氣體在準(zhǔn)分子紫外輻射和等離子體共同作用下發(fā)生一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)而被降解,經(jīng)過C區(qū)的氣體在紫外輻射下發(fā)生光解。
【專利說明】準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置
[0001]本申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)枮?01210575476.9,申請(qǐng)日為2012年12月26日,發(fā)明創(chuàng)造名稱為“準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法與裝置”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明屬于廢氣處理【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及一種準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置。
【背景技術(shù)】
[0003]隨著科技發(fā)展,廢氣的處理方法越來越多,目前廢氣的處理方法有吸收法、吸附法、催化氧化法、光催化法和等離子體技術(shù)等。在當(dāng)今倡導(dǎo)清潔生產(chǎn)、節(jié)約資源的形勢(shì)下,無需化學(xué)品、無需耗用大量水和能源、成本低和對(duì)環(huán)境友好的低溫等離子體技術(shù)頗具吸引力。
[0004]等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后被稱為物質(zhì)的第四態(tài),它是氣體在放電過程中產(chǎn)生的包括大量正負(fù)帶電粒子、電子和中性粒子以及自由基組成的表現(xiàn)出集體行為的一種準(zhǔn)中性氣體。在這個(gè)體系中如果電子的溫度和重粒子的溫度差不多,則為高溫等離子,或稱為平衡態(tài)等離子體;如果電子的溫度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于重粒子的溫度,整個(gè)體系呈現(xiàn)一種常溫狀態(tài),此時(shí)產(chǎn)生的等離子體為低溫等離子體,也稱非平衡態(tài)等離子體,一般氣體放電產(chǎn)生的等離子體屬于這一類型。
[0005]產(chǎn)生低溫等離子體的方式有介質(zhì)阻擋放電(Dielectric barrier discharge,以下簡(jiǎn)稱DBD)、輝光放電、電暈放電、微波放電和射頻放電等。目前已有文獻(xiàn)報(bào)道介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的等離子體可用于降解揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOCs)、溫室氣體、氟氯烴化合物和煙氣脫硫脫硝等;但是這些研究大部分是基礎(chǔ)研究,應(yīng)用研究相對(duì)較少。目前產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用只查閱到兩例,一是Fujistu公司用DBD處理二噁英氣體;二是DBD用于上海月季化纖有限公司的硫化氫和二硫化碳廢氣的工業(yè)化治理。
[0006]DBD等離子體降解廢氣的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用沒有得到有效推廣的主要原因是能量利用率低、外施電壓高(一般要大于9000V)和電源壽命短。因此,很多學(xué)者開始從單獨(dú)DBD等離子體降解污染物轉(zhuǎn)向DBD與其它技術(shù)聯(lián)合降解污染物的研究,包括:DBD-催化、DBD-UV,DBD-O3等。然而,上述這些聯(lián)合降解技術(shù)需額外加入一些物質(zhì)或設(shè)備,使得體系變得復(fù)雜化,要想將兩者緊密地結(jié)合在一起發(fā)揮作用在實(shí)際應(yīng)用中存在一定困難。
[0007]例如中國(guó)專利文獻(xiàn)CN 201969473 U (申請(qǐng)?zhí)?01120053678.8)公開了一種UV等離子廢氣凈化器,包括主殼體,主殼體的前、后端分別設(shè)有主進(jìn)氣口、主出氣口 ;所述主殼體的內(nèi)部從主進(jìn)氣口到主出氣口依次設(shè)有進(jìn)氣段、UV凈化段、等離子體凈化段、出氣段;uv凈化段內(nèi)設(shè)有若干個(gè)呈陣列排布的紫外線燈管以及用于所述紫外線燈管啟動(dòng)的若干個(gè)鎮(zhèn)流器;等離子體凈化段包括至少一個(gè)等離子體廢氣凈化裝置??梢娺@種DBD-UV聯(lián)合降解技術(shù)為了將UV與等離子體聯(lián)合降解廢氣,增加了 UV凈化段的設(shè)備,使得整個(gè)凈化體系復(fù)雜化。
[0008]因此,開發(fā)一項(xiàng)污染物降解效率高、能量利用率高、設(shè)備簡(jiǎn)單的新型等離子體降解廢氣技術(shù)非常必要。
[0009]中國(guó)專利文獻(xiàn)CN 100540121C(申請(qǐng)?zhí)?00610028018.8)公開了一種雙等離子體處
理工業(yè)廢氣的方法與裝置,該方法由原來的雙層石英介質(zhì)改為三層石英介質(zhì)層,使三層石英介質(zhì)分隔形成兩個(gè)放電區(qū)域即常壓氣體放電區(qū)和低壓氣體紫外輻射區(qū);工業(yè)廢氣由常壓氣體放電區(qū)進(jìn)入系統(tǒng),經(jīng)過低壓氣體紫外輻射區(qū),實(shí)現(xiàn)去除污染物、凈化氣體的效果。該方法比等離子體單獨(dú)降解廢氣時(shí)能率提高了 30%左右。但是該專利中紫外光區(qū)域在內(nèi)側(cè)(電場(chǎng)強(qiáng)),等離子體在外側(cè),電能主要用于產(chǎn)生紫外輻射,削弱了等離子體降解廢氣的效果,能量利用率很難達(dá)到最優(yōu)化。同時(shí),紫外區(qū)域在內(nèi)側(cè),燈管表面溫度高,介質(zhì)容易擊穿而導(dǎo)致燈管壽命縮短。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0010]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種用一個(gè)電源同時(shí)產(chǎn)生等離子體和準(zhǔn)分子紫外輻射,耦合一體化降解廢氣的裝置。
[0011]實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案是一種準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,包括集氣罩、氣體分配器、反應(yīng)器和引風(fēng)機(jī);集氣罩包括第一集氣罩和第二集氣罩;氣體分配器包括第一氣體分配器和第二氣體分配器;第一集氣罩、第一氣體分配器、反應(yīng)器、第二氣體分配器和第二集氣罩由下向上依次設(shè)置。
[0012]第一集氣罩的進(jìn)氣口與待降解氣體的廢氣發(fā)生器出氣口或者儲(chǔ)氣罐相連,第一集氣罩的的出氣口與第一氣體分配器的進(jìn)氣口相連;反應(yīng)器設(shè)置在第一氣體分配器和第二氣體分配器之間;第二集氣罩安裝固定在第二氣體分配器上方,第二集氣罩的進(jìn)氣口與第二氣體分配器的所有出氣口相連通;弓I風(fēng)機(jī)的進(jìn)氣端口與第二集氣罩的出氣口相連。
[0013]所述反應(yīng)器包括四層石英介質(zhì)層、內(nèi)電極、外電極和高壓電源;所述四層石英介質(zhì)層包括同軸線的、由內(nèi)向外依次設(shè)置的第一石英管、第二石英管、第三石英管和第四石英管;內(nèi)電極設(shè)置在第一石英管內(nèi),外電極設(shè)置在第三石英管外側(cè)面。
[0014]第二石英管和第三石英管的紫外光的透過率達(dá)85%以上;第一石英管和第四石英管的紫外光的透過率< 40%。第一石英管的壁厚為I?2mm,第四石英管的壁厚為I?2mm。
[0015]第一石英管的兩端封閉,通過支撐架固定在第二石英管內(nèi)部。所述支撐架的主體為一圓板。支撐架包括安裝孔和通氣孔,安裝孔設(shè)置在支撐架的主體中央且與支撐架的主體同軸;通氣孔設(shè)置在安裝孔的外周。
[0016]支撐架與第二石英管的內(nèi)壁緊配合;第一石英管與支撐架的安裝孔緊配合,從而第一石英管通過支撐架固定在第二石英管52內(nèi)部。
[0017]第一石英管與第二石英管之間的空間為A區(qū)反應(yīng)區(qū);第三石英管的上、下兩端端口燒結(jié)在第二石英管的外側(cè)面,從而第二石英管與第三石英管之間形成密閉的環(huán)形空腔,該密閉的環(huán)形空腔為氣體填充B區(qū),氣體填充B區(qū)內(nèi)充有稀有氣體或者稀有氣體-鹵素混合氣體或者汞-鹵素混合氣體;第四石英管與第三石英管之間的空間為C區(qū)反應(yīng)區(qū)。
[0018]第一氣體分配器設(shè)有A區(qū)進(jìn)氣通孔和C區(qū)進(jìn)氣通孔,第二氣體分配器設(shè)有A區(qū)出氣通孔和C區(qū)出氣通孔;第一氣體分配器的A區(qū)進(jìn)氣通孔與A區(qū)反應(yīng)區(qū)和第二氣體分配器的A區(qū)出氣通孔相連通,第一氣體分配器的C區(qū)進(jìn)氣通孔與C區(qū)反應(yīng)區(qū)和第二氣體分配器的C區(qū)出氣通孔相連通。[0019]優(yōu)選的,第一氣體分配器還包括空氣通道;空氣通道的進(jìn)氣端與空氣管)相連,空氣管上設(shè)有閥門;空氣通道的出氣口與C區(qū)反應(yīng)區(qū)相連通。
[0020]作為優(yōu)選的,第一氣體分配器的C區(qū)進(jìn)氣通孔的出口上方和空氣通道的出氣口上方還設(shè)有多孔篩板。
[0021]所述多孔篩板為環(huán)形,多孔篩板的圓周方向設(shè)置一圈通氣孔,多孔篩板的通氣孔設(shè)置在反應(yīng)器的C區(qū)反應(yīng)區(qū)下方;第一氣體分配器的C區(qū)進(jìn)氣通孔通過多孔篩板的通氣孔與反應(yīng)器的C區(qū)反應(yīng)區(qū)相連通;空氣通道的出氣口通過多孔篩板的通氣孔與反應(yīng)器的C區(qū)反應(yīng)區(qū)相連通。
[0022]作為優(yōu)選的,第一氣體分配器的進(jìn)氣口下方還設(shè)有旋風(fēng)分離裝置;第一集氣罩的出氣口與旋風(fēng)分離裝置的進(jìn)氣口相連,旋風(fēng)分離裝置的出氣端口與第一氣體分配器的進(jìn)氣口相連通。
[0023]上述第一石英管的內(nèi)壁緊貼一層卷制的金屬片作為內(nèi)電極,或者第一石英管的內(nèi)部填滿金屬粉末作為內(nèi)電極。
[0024]第三石英管的外側(cè)面上纏繞片狀金屬作為外電極,或者第三石英管的外側(cè)面上包裹金屬網(wǎng)作為外電極。
[0025]所述高壓電源為中頻脈沖方波電源,放電電壓在OkV?15kV范圍內(nèi)可調(diào)。
[0026]本發(fā)明具有積極的效果:(I)本發(fā)明的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置包括由內(nèi)外向同軸線設(shè)置的四層石英介質(zhì)層,第三石英介質(zhì)層的兩端燒結(jié)固定在第二石英介質(zhì)層的外側(cè)表面上,從而第三石英介質(zhì)層與第二石英介質(zhì)層之間形成密封的環(huán)形空腔,環(huán)形空腔內(nèi)根據(jù)所要處理的廢氣種類填充具有一定壓力的稀有氣體、稀有氣體與鹵素或汞蒸汽與鹵素的混合氣體。作為第三石英介質(zhì)層的石英套管外纏繞作為外電極的片狀金屬或包裹作為外電極的網(wǎng)狀金屬,第一石英介質(zhì)層內(nèi)壁緊貼一層金屬片或填滿金屬粉末作為內(nèi)電極。
[0027]接通電源后,在高壓電源激發(fā)下,內(nèi)外電極之間產(chǎn)生介質(zhì)阻擋放電等離子體和準(zhǔn)分子紫外輻射,流經(jīng)第一石英介質(zhì)層和第二石英介質(zhì)層之間(A區(qū)反應(yīng)區(qū))的廢氣在介質(zhì)阻擋放電等離子體和準(zhǔn)分子紫外輻射的協(xié)同作用下降解;達(dá)到最佳的污染物去除率。
[0028]與此同時(shí),第三石英介質(zhì)層和第四石英介質(zhì)層之間(C區(qū)反應(yīng)區(qū))還存在準(zhǔn)分子紫外輻射,流經(jīng)C區(qū)的廢氣在準(zhǔn)分子紫外輻射作用下被降解。
[0029]因此,本發(fā)明的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化廢氣降解的裝置中,準(zhǔn)分子紫外輻射可以單獨(dú)降解廢氣;也可以作為光電離劑,與等離子體耦合,降低氣體擊穿電壓,提高能量利用率。
[0030](2)本發(fā)明的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置的反應(yīng)器進(jìn)氣端設(shè)有分流式氣體分配器,可以實(shí)現(xiàn)廢氣以分流或不分流的模式進(jìn)入反應(yīng)器。
[0031 ] C區(qū)進(jìn)氣口由活塞關(guān)閉后,廢氣不分流進(jìn)入反應(yīng)器的A區(qū)反應(yīng)區(qū)進(jìn)行紫外輻射/等離子體聯(lián)合降解。C區(qū)進(jìn)氣口的活塞打開后,廢氣通過氣體分配器分成兩路進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)和C區(qū)反應(yīng)區(qū),進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)的氣體在紫外輻射與等離子體的聯(lián)合作用下降解;進(jìn)入C區(qū)反應(yīng)區(qū)的氣體在紫外輻射的作用下降解。
[0032](3)當(dāng)所要處理的廢氣比較難降解時(shí),C區(qū)進(jìn)氣口由活塞關(guān)閉,空氣通道閥門開啟,通入空氣至C區(qū),廢氣通過氣體分配器進(jìn)入A區(qū)進(jìn)行紫外輻射/等離子體聯(lián)合降解,空氣通過氣體分配器和多孔篩板進(jìn)入C區(qū)在紫外輻射下解離。
[0033]C區(qū)通入空氣可以起到兩個(gè)作用:一是降低準(zhǔn)分子燈表面的溫度,使燈管持續(xù)發(fā)光;二是空氣在紫外光作用下分解為活性粒子,包括0.、.0Η和03等,與A區(qū)處理后的廢氣在第二集氣罩內(nèi)混合時(shí)反應(yīng),從而使A區(qū)氣體得到進(jìn)一步降解。
[0034](4)本發(fā)明的裝置的內(nèi)外電極通過三層介質(zhì)分開,可以通過改變電極材料和電極形狀改變介質(zhì)阻擋放電的效果和準(zhǔn)分子燈的光效,最大程度提高能量利用率。
[0035](5)本發(fā)明待處理的廢氣通過旋風(fēng)分離裝置+氣體分配器兩級(jí)混合,實(shí)現(xiàn)均勻進(jìn)氣,保證處理效果穩(wěn)定。
[0036](6)本發(fā)明中裝置的四層石英介質(zhì)層通過支撐架、第一氣體分配器和第二氣體分配器實(shí)現(xiàn)同軸,材質(zhì)均為耐高溫、性質(zhì)穩(wěn)定的聚四氟乙烯。支撐架形狀為多孔圓環(huán)形,既可保證最內(nèi)層石英管和外層石英套管同軸,又可使氣體均勻通過A區(qū)反應(yīng)區(qū)。
[0037](7)本發(fā)明的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、占地面積少、準(zhǔn)分子紫外輻射波長(zhǎng)范圍寬(λ =108-345nm)、紫外燈壽命長(zhǎng)、能量利用率高、廢氣處理效果好、應(yīng)用范圍廣,可用于多種廢氣的治理。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0038]圖1為本發(fā)明的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置示意圖; 圖2為圖1中的反應(yīng)器的俯視圖;
圖3為圖1中的第一氣體分配器的立體示意圖;
圖4為圖1中的支撐架的俯視圖;
圖5為圖1中的多孔篩板的俯視圖;
圖6為本發(fā)明的裝置只有A區(qū)通待降解氣體時(shí)的工作原理圖;
圖7為本發(fā)明的裝置A區(qū)和C區(qū)同時(shí)通待降解氣體時(shí)的工作原理圖;
圖8為本發(fā)明的裝置A區(qū)通待降解氣體、C區(qū)通空氣時(shí)的工作原理圖;
圖9為本發(fā)明的廢氣降解工藝流程圖;
上述附圖中的標(biāo)記如下:
集氣罩1,第一集氣罩11,第二集氣罩12 ;
旋風(fēng)分離裝置2,進(jìn)氣口 21 ;
第一氣體分配器3,主體31,盲孔32,圓柱基臺(tái)33-1,圓環(huán)柱體33_2,環(huán)形槽34,環(huán)形凸臺(tái)35,A區(qū)進(jìn)氣通孔36,空氣通道37,出氣口 37_1,空氣管37_2,閥門37_3,C區(qū)進(jìn)氣通孔38,活塞通道39,活塞39-1 ;
第二氣體分配器4,主體41,A區(qū)出氣通孔42,C區(qū)出氣通孔43 ;
反應(yīng)器5,第一石英管51,第二石英管52,第三石英管53,第四石英管54,氣體填充區(qū)55,支撐架56,安裝孔56-1,通氣孔56-2 ;
內(nèi)電極61,外電極62,高壓電源63 ;
多孔篩板7,通氣孔71。
【具體實(shí)施方式】
[0039](實(shí)施例1、準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置) 見圖1,本實(shí)施例的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置包括集氣罩1、旋風(fēng)分離裝置2、氣體分配器、反應(yīng)器5和引風(fēng)機(jī)。集氣罩I包括第一集氣罩11和第二集氣罩12 ;氣體分配器包括第一氣體分配器3和第二氣體分配器4。第一集氣罩11、旋風(fēng)分離裝置2、第一氣體分配器3、反應(yīng)器5、第二氣體分配器4和第二集氣罩12由下向上依次設(shè)置。
[0040]第一集氣罩11的進(jìn)氣口與待降解氣體的廢氣發(fā)生器出氣口或者儲(chǔ)氣罐相連,第一集氣罩11的的出氣口與旋風(fēng)分離裝置2的進(jìn)氣口 21相連。旋風(fēng)分離裝置2設(shè)置在第一集氣罩11的內(nèi)部,旋風(fēng)分離裝置2由其上方的安裝座固定在第一集氣罩11的上方安裝臺(tái)上從而由第一集氣罩11支撐并固定在第一集氣罩11上。
[0041]第一氣體分配器3由其下部固定在旋風(fēng)分離裝置2的出氣端口上,第一氣體分配器3下端的進(jìn)氣口與旋風(fēng)分離裝置2的出氣端口相連通。
[0042]見圖3,第一氣體分配器3包括主體31、盲孔32、圓柱基臺(tái)33_1、圓環(huán)柱體33_2、環(huán)形槽34、環(huán)形凸臺(tái)35、A區(qū)進(jìn)氣通孔36、空氣通道37、C區(qū)進(jìn)氣通孔38、活塞通道39和多孔篩板7。
[0043]主體31為圓柱體形,從主體31的上底面向下設(shè)有盲孔32 ;盲孔32與主體31同軸線。盲孔32的中央設(shè)有與盲孔32同軸線的圓柱基臺(tái)33-1和圓環(huán)柱體33-2 ;所述圓柱基臺(tái)33-1為一圓柱體;圓環(huán)柱體33-2的與圓柱基臺(tái)33-1相連接的下底面為圓環(huán),由該圓環(huán)沿著圓柱基臺(tái)的軸線向上延伸即得圓環(huán)柱體33-2。圓柱基臺(tái)33-1和圓環(huán)柱體33-2—體成型,圓柱基臺(tái)33-1和圓環(huán)柱體33-2的外徑相同。
[0044]盲孔32的孔壁與圓柱基臺(tái)33-1和圓環(huán)柱體33_2的外側(cè)面之間形成環(huán)形槽34,也即環(huán)形槽34的內(nèi)側(cè)槽壁為圓柱基臺(tái)33-1和圓環(huán)柱體33-2的外側(cè)面,外側(cè)槽壁為盲孔32的孔壁。環(huán)形凸臺(tái)35沿著盲孔32的孔壁設(shè)置在環(huán)形槽34內(nèi),從而環(huán)形凸臺(tái)35與環(huán)形槽34之間形成一臺(tái)階。
[0045]A區(qū)進(jìn)氣通孔36以篩孔狀分布設(shè)置在圓環(huán)柱體33-2所對(duì)應(yīng)的主體31部分,A區(qū)進(jìn)氣通孔36從圓柱基臺(tái)33-1的上表面向下貫穿主體31,各A區(qū)進(jìn)氣通孔36的軸線與主體31的軸線平行。A區(qū)進(jìn)氣通孔36的上端出氣口均位于圓環(huán)柱體33-2的內(nèi)部。
[0046]見圖1和圖3,空氣通道37設(shè)置在主體31內(nèi)部的左側(cè),空氣通道37由徑向設(shè)置的一段通道和軸向設(shè)置的一段通道連接組成。軸向設(shè)置的通道的出口位于環(huán)形槽34內(nèi)并與外界相通,該出口也是空氣通道37的出氣口 37-1。
[0047]空氣通道37的徑向設(shè)置的通道的進(jìn)氣端為空氣通道37的進(jìn)氣端,空氣通道37的進(jìn)氣端與空氣管37-2相連,空氣管37-2上設(shè)有閥門37-3??諝夤?7_2與氣泵相連。
[0048]C區(qū)進(jìn)氣通孔38設(shè)置在主體31的右側(cè),C區(qū)進(jìn)氣通孔38的軸線與主體31的軸線平行并完全貫穿主體31 ;C區(qū)進(jìn)氣通孔38的出氣端口位于環(huán)形槽34內(nèi)。
[0049]活塞通道39沿著徑向設(shè)置在主體31內(nèi),活塞通道39與C區(qū)進(jìn)氣通孔38相連通。活塞通道39內(nèi)設(shè)有活塞39-1 ;當(dāng)活塞39-1由右向左運(yùn)動(dòng)到達(dá)最左端時(shí),活塞39_1將C區(qū)進(jìn)氣通孔38堵住;而當(dāng)活塞39-1向右運(yùn)動(dòng)時(shí),C區(qū)進(jìn)氣通孔38恢復(fù)暢通。
[0050]空氣通道37的出氣口 37-1上方和C區(qū)進(jìn)氣通孔38上方設(shè)置多孔篩板7。見圖5,所述多孔篩板7為環(huán)形,沿著多孔篩板7的圓周方向設(shè)置一圈通氣孔71。多孔篩板7的外徑與主體31的盲孔32的直徑相同或略小于主體31的盲孔32的直徑;多孔篩板7的中央孔徑與主體31的圓柱基臺(tái)33-1的外徑相同或略大于圓柱基臺(tái)33-1的外徑。
[0051]見圖1,多孔篩板7套在主體31的圓柱基臺(tái)33-1外側(cè),并且固定設(shè)置在環(huán)形凸臺(tái)35上。從空氣通道37的出氣口 37-1流出的空氣經(jīng)過多孔篩板7的通氣孔71后流入C區(qū),在紫外輻射作用下解離。
[0052]從C區(qū)進(jìn)氣通孔38的出氣端口流出的廢氣經(jīng)過多孔篩板7的通氣孔71后進(jìn)入C區(qū)。廢氣在經(jīng)過多孔篩板7時(shí)得到進(jìn)一步混合。
[0053]見圖1,第二氣體分配器4包括主體41,盲孔、圓環(huán)柱體、環(huán)形槽、A區(qū)出氣通孔42和C區(qū)出氣通孔43。
[0054]主體41為圓柱體形,從主體41的下底面向上設(shè)有盲孔,盲孔與主體41同軸線。第二氣體分配器4的主體41的盲孔直徑與第一氣體分配器3的主體31的盲孔32的直徑相同,也與第一氣體分配器3的環(huán)形凸臺(tái)35的外徑相同。
[0055]主體41的盲孔的中央設(shè)有與盲孔同軸線的圓環(huán)柱體;第二氣體分配器4的主體41的圓環(huán)柱體的內(nèi)徑與第一氣體分配器3的主體31的圓環(huán)柱體33-2的內(nèi)徑相同。
[0056]盲孔的孔壁與圓環(huán)柱體的外側(cè)面之間形成環(huán)形槽,也即環(huán)形槽的內(nèi)側(cè)槽壁為圓環(huán)柱體的外側(cè)面,外側(cè)槽壁為盲孔的孔壁。
[0057]A區(qū)出氣通孔42以篩孔狀分布設(shè)置在圓環(huán)柱體所對(duì)應(yīng)的主體41部分,A區(qū)出氣通孔42從圓環(huán)柱體的上底面所在平面向上貫穿主體41,各A區(qū)出氣通孔42的軸線與主體41的軸線平行。A區(qū)出氣通孔42的下端進(jìn)氣口均位于圓環(huán)柱體的內(nèi)部。
[0058]C區(qū)出氣通孔43位于環(huán)形槽所對(duì)應(yīng)的主體41部分,C區(qū)出氣通孔43上下貫穿主體41。
[0059]第二集氣罩12安裝固定在第二氣體分配器4上方,第二集氣罩12的進(jìn)氣口與第二氣體分配器4的所有出氣口相連通。引風(fēng)機(jī)(圖中未畫出)的進(jìn)氣端口與第二集氣罩12的出氣口相連通。
[0060]反應(yīng)器5設(shè)置在第一氣體分配器3和第二氣體分配器4之間,且反應(yīng)器5設(shè)置在第一氣體分配器3的多孔篩板7的上方。
[0061]反應(yīng)器5包括四層石英介質(zhì)層、內(nèi)電極61、外電極62和高壓電源63。
[0062]見圖2,所述四層石英介質(zhì)層包括同軸線的、由內(nèi)向外依次設(shè)置的第一石英管51、第二石英管52、第三石英管53和第四石英管54。第二石英管52和第三石英管53的紫外光(200nm附近)的透過率達(dá)85%以上;第一石英管51和第四石英管54采用國(guó)產(chǎn)石英管,其紫外光(200nm附近)的透過率< 40%。第一石英管51的壁厚為I?2mm,第四石英管54的壁厚為I?2mm。
[0063]第二石英管52的兩端敞口,第二石英管52的外徑與第一氣體分配器3的圓環(huán)柱體33-2的內(nèi)徑相同。第二石英管52的下端套裝在第一氣體分配器3的圓環(huán)柱體33-2內(nèi),第二石英管52的上端套裝在第二氣體分配器4的圓環(huán)柱體內(nèi);從而第二石英管52固定在第一氣體分配器3和第二氣體分配器4之間。
[0064]第一石英管51的兩端封閉,通過支撐架56固定在第二石英管52內(nèi)部。見圖4,所述支撐架56的主體為一圓板。支撐架56包括安裝孔56-1和通氣孔56-2,安裝孔56_1設(shè)置在支撐架56的主體中央且與支撐架56的主體同軸;通氣孔56-2設(shè)置在安裝孔56_1的外周。[0065]支撐架56與第二石英管52的內(nèi)壁緊配合;第一石英管51與支撐架56的安裝孔56-1緊配合,從而第一石英管51通過支撐架56固定在第二石英管52內(nèi)部。
[0066]第一石英管51與第二石英管52之間的空間為A區(qū)反應(yīng)區(qū),所述A區(qū)反應(yīng)區(qū)為準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解區(qū)。
[0067]支撐架56不僅使得第一石英管51與第二石英管52同軸,而且其上設(shè)置的通氣孔56-2使得廢氣均勻通過A區(qū)反應(yīng)區(qū)。
[0068]第三石英管53套裝在第二石英管52外,第三石英管53的上、下兩端端口燒結(jié)在第二石英管52的外側(cè)面,從而第二石英管52與第三石英管53之間形成密閉的環(huán)形空腔,將該密閉的環(huán)形空腔作為氣體填充B區(qū)。
[0069]氣體填充B區(qū)內(nèi)根據(jù)待降解廢氣的種類填充不同的氣體,例如Xe2、Ar/F2、Kr/Cl2、Kr/Br2、Kr/I2、Hg/F2或取/(:12等,以產(chǎn)生不同波長(zhǎng)的準(zhǔn)分子紫外福射,與等離子體稱合降解廢氣。
[0070]第四石英管54的兩端敞口,第四石英管54的外徑與第一氣體分配器3的盲孔32的直徑相同。第四石英管54的的下端套裝在第一氣體分配器3的盲孔32內(nèi),并且支撐在環(huán)形凸臺(tái)35上;第四石英管54的的上端套裝在第二氣體分配器4的盲孔內(nèi);從而第四石英管54固定在第一氣體分配器3和第二氣體分配器4之間。
[0071]第四石英管54與第三石英管53之間的空間為C區(qū)反應(yīng)區(qū),所述C區(qū)反應(yīng)區(qū)為準(zhǔn)分子紫外輻射降解區(qū)。
[0072]內(nèi)電極61設(shè)置在第一石英管51的內(nèi)部,第一石英管51的內(nèi)壁緊貼一層卷制的金屬片作為內(nèi)電極61,或者第一石英管51的內(nèi)部填滿金屬粉末作為內(nèi)電極61 ;本實(shí)施例中是將第一石英管51的內(nèi)部填滿金屬粉末作為內(nèi)電極61。
[0073]外電極62設(shè)置在第三石英管53的外側(cè)面上。第三石英管53的外側(cè)面上纏繞片狀金屬作為外電極62,或者第三石英管53的外側(cè)面上包裹金屬網(wǎng)作為外電極62。外電極62與內(nèi)電極61同軸線設(shè)置,使得放電更均勻。
[0074]外電極62、內(nèi)電極61與高壓電源63連通。所述高壓電源63為中頻脈沖方波電源,放電電壓在O?15kV范圍內(nèi)可調(diào)。在高壓電源63激發(fā)下,內(nèi)外電極之間產(chǎn)生介質(zhì)阻擋放電等離子體和準(zhǔn)分子紫外輻射,流經(jīng)A區(qū)反應(yīng)區(qū)的廢氣在兩者作用下降解,流經(jīng)C區(qū)反應(yīng)區(qū)的廢氣或空氣在準(zhǔn)分子紫外輻射作用下發(fā)生解離。
[0075]本實(shí)施例中為了使得裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,也可也不設(shè)置旋風(fēng)分離裝置2,將第一氣體分配器3的進(jìn)氣口直接與第一集氣罩11的出氣口相連。但是待處理的廢氣通過旋風(fēng)分離裝置+氣體分配器兩級(jí)混合,可以實(shí)現(xiàn)均勻進(jìn)氣,保證處理效果更加穩(wěn)定。
[0076]準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置使用時(shí),首先對(duì)第二石英管52與第三石英管53之間的氣體填充B區(qū)抽真空,然后充入一定壓力的根據(jù)待降解氣體而選擇的稀有氣體(Xe2)、稀有氣體-鹵素(Ar/F2、Kr/Cl2、Kr/Br2* Kr/I2)或汞-鹵素(Hg/F2*Hg/Cl2)混合氣體。
[0077]另外,通過改變氣體填充B區(qū)內(nèi)填充氣體的配比和總壓,可以改變高壓電源63用于激發(fā)等離子體和準(zhǔn)分子輻射的能量分配,最大程度地提高廢氣降解效果和能率。
[0078]打開引風(fēng)機(jī),引風(fēng)機(jī)將待降解廢氣抽入反應(yīng)器5內(nèi),待降解廢氣經(jīng)過旋風(fēng)分離裝置2混合后經(jīng)過第一氣體分配器3時(shí),分流進(jìn)入反應(yīng)器5的A區(qū)反應(yīng)區(qū)和C區(qū)反應(yīng)區(qū),或者僅進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū),經(jīng)反應(yīng)器5反應(yīng)后氣體在第二集氣罩12內(nèi)再次混合,然后由引風(fēng)機(jī)抽出排放。
[0079](實(shí)施例2、準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法)
本實(shí)施例的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法使用實(shí)施例1所述的裝置。
[0080]見圖9,準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的流程為:廢氣發(fā)生器或廢氣儲(chǔ)氣罐出來的廢氣經(jīng)過旋風(fēng)分離裝置2初步混合,再經(jīng)過第一氣體分配器3進(jìn)一步混合均勻后,在引風(fēng)機(jī)作用下進(jìn)入準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化反應(yīng)器5內(nèi)進(jìn)行凈化。在反應(yīng)器5的出口距離反應(yīng)器Im的地方,設(shè)置采樣口,反應(yīng)后的氣體通過在線氣體分析儀器檢測(cè)其濃度,降解達(dá)標(biāo)后的氣體通過排氣管排出。
[0081]見圖6,本實(shí)施例降解流動(dòng)態(tài)模擬苯乙烯廢氣,初始濃度為1265 mg/m3,降解廢氣的方法具體包括以下步驟:
①對(duì)第二石英管52與第三石英管53之間的氣體填充B區(qū)抽真空,然后向其中填充Kr200torr 和 I2 6mg 后密封。
[0082]②關(guān)閉與空氣通道37連接的空氣管37-2的閥門37-3,并且將活塞39-1由外向內(nèi)推進(jìn)以關(guān)閉C區(qū)進(jìn)氣通孔38。
[0083]③打開高壓電源63,調(diào)節(jié)外施電壓9.0kV。氣體填充B區(qū)的混合氣體被激發(fā)產(chǎn)生準(zhǔn)分子紫外光向A區(qū)和C區(qū)輻射;準(zhǔn)分子紫外輻射波長(zhǎng)為206nm。隨著電壓進(jìn)一步升高,A區(qū)內(nèi)氣體放電產(chǎn)生等離子體,所述等離子體由高能電子、活性粒子和正負(fù)離子等組成。
[0084]④打開與第二集氣罩12相連的引風(fēng)機(jī),苯乙烯廢氣從廢氣發(fā)生器出氣口流出,經(jīng)過旋風(fēng)分離裝置2混合后,從第一氣體分配器3的A區(qū)進(jìn)氣通孔36進(jìn)入第二石英管52內(nèi)的A區(qū)反應(yīng)區(qū);苯乙烯廢氣的流量為3.26 m3/h。
[0085]氣體經(jīng)過第一石英管51與第二石英管52之間的A區(qū)反應(yīng)區(qū)時(shí),在準(zhǔn)分子紫外輻射和等離子體共同作用下發(fā)生一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)而被降解。
[0086]A區(qū)反應(yīng)區(qū)的氣體從第二氣體分配器4的A區(qū)出氣通孔42流出后,在第二集氣罩12內(nèi)混合后由引風(fēng)機(jī)抽出。經(jīng)反應(yīng)器5上方的采樣口采樣后,在線氣體分析儀器檢測(cè)顯示苯乙烯氣體在外施電壓9.0kV時(shí)去除效率達(dá)84.4%,比傳統(tǒng)的介質(zhì)阻擋放電的去除率提高T 20.6%,能率提高了 5.7g/ (kff.h)。
[0087](實(shí)施例3、準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法)
本實(shí)施例所降解的是模擬流動(dòng)態(tài)二甲胺廢氣,初始濃度1800mg/m3。
[0088]見圖7,本實(shí)施例的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法其余與實(shí)施例2相同,不同之處在于:
步驟①中,向第二石英管52與第三石英管53之間的氣體填充B區(qū)填充Kr 200torr和Br25torr0
[0089]步驟②中,關(guān)閉與空氣通道37連接的空氣管37-2的閥門37_3,并且將活塞39_1打開使得C區(qū)進(jìn)氣通孔38暢通。
[0090]步驟③中,打開高壓電源63,調(diào)節(jié)外施電壓7.5kV ;準(zhǔn)分子紫外輻射波長(zhǎng)為207nm。
[0091]步驟④中,二甲胺廢氣的流量為41.lm3/h。二甲胺廢氣的一部分從A區(qū)進(jìn)氣通孔36進(jìn)入第二石英管52內(nèi)的A區(qū)反應(yīng)區(qū);二甲胺廢氣的另一部分進(jìn)入C區(qū)進(jìn)氣通孔38,經(jīng)過多孔篩板7后進(jìn)入第四石英管54與第三石英管53之間的C區(qū)反應(yīng)區(qū)。
[0092]進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)的二甲胺廢氣在準(zhǔn)分子紫外輻射和等離子體共同作用下發(fā)生一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)而被降解;進(jìn)入C區(qū)反應(yīng)區(qū)的二甲胺廢氣在紫外輻射下發(fā)生光解。
[0093]從A區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體與從C區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體在第二集氣罩12內(nèi)混合后由引風(fēng)機(jī)抽出。經(jīng)反應(yīng)器5上方的采樣口采樣后,在線氣體分析儀器檢測(cè)顯示二甲胺廢氣在外施電壓7.5kV時(shí)去除效率達(dá)90.5%,能率為658.6g/(kW.h)。
[0094](實(shí)施例4、準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法)
本實(shí)施例所降解的是模擬流動(dòng)態(tài)N,N 二甲基甲酰胺(DMF)廢氣,初始濃度為1200mg/m3。
[0095]見圖7,本實(shí)施例的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法其余與實(shí)施例3相同,不同之處在于:
步驟①中,向第二石英管52與第三石英管53之間的氣體填充B區(qū)填充Kr 200torr和Cl25torr。
[0096]步驟③中,打開高壓電源63,調(diào)節(jié)外施電壓7.5kV ;準(zhǔn)分子紫外輻射波長(zhǎng)為222nm。
[0097]步驟④中,N,N 二甲基甲酰胺廢氣的流量為35.lm3/h。氣體分成兩路進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)和C區(qū)反應(yīng)區(qū)分別進(jìn)行降解。
[0098]從A區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體與從C區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體在第二集氣罩12內(nèi)混合后由引風(fēng)機(jī)抽出。經(jīng)反應(yīng)器5上方的采樣口采樣后,在線氣體分析儀器檢測(cè)顯示N,N 二甲基甲酰胺廢氣在外施電壓6.0kV時(shí)去除效率達(dá)67.5%,能率為45.3g/(k W.h)。
[0099](實(shí)施例5、準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法)
本實(shí)施例所降解的是模擬流動(dòng)態(tài)甲苯廢氣,初始濃度為1200mg/m3。
[0100]見圖7,本實(shí)施例的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法其余與實(shí)施例3相同,不同之處在于:
步驟①中,向第二石英管52與第三石英管53之間的氣體填充B區(qū)填充Xe2。
[0101]步驟③中,打開聞壓電源63,夕卜施電壓12.0kV ;準(zhǔn)分子紫外福射波長(zhǎng)為172nm。
[0102]步驟④中,甲苯廢氣的流量為35.lm3/h。氣體分成兩路進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)和C區(qū)反應(yīng)區(qū)分別進(jìn)行降解。
[0103]從A區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體與從C區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體在第二集氣罩12內(nèi)混合后由引風(fēng)機(jī)抽出。經(jīng)反應(yīng)器5上方的采樣口采樣后,在線氣體分析儀器檢測(cè)顯示甲苯廢氣在外施電壓12.0kV時(shí)去除效率達(dá)69.5%,能率為29.3g/(kW.h)。
[0104](實(shí)施例6、準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法)
本實(shí)施例所降解的是模擬流動(dòng)態(tài)苯乙烯廢氣,初始濃度為1265 mg/m3。
[0105]見圖8,本實(shí)施例的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的方法其余與實(shí)施例2相同,不同之處在于:
步驟②中,打開與空氣通道37連接的空氣管37-2的閥門37-3 ;并且將活塞39_1由外向內(nèi)推進(jìn)以關(guān)閉C區(qū)進(jìn)氣通孔38。
[0106]步驟④中,向C區(qū)反應(yīng)區(qū)通入空氣;苯乙烯廢氣從第一氣體分配器3的A區(qū)進(jìn)氣通孔36進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)。[0107]進(jìn)入A區(qū)反應(yīng)區(qū)的苯乙烯廢氣在準(zhǔn)分子紫外輻射和等離子體共同作用下發(fā)生一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)而被降解。
[0108]向C區(qū)反應(yīng)區(qū)通入空氣可以起到兩個(gè)作用:一是降低第三石英管53表面的溫度,使第二石英管52與第三石英管53組成的準(zhǔn)分子燈燈管持續(xù)發(fā)光;二是空氣在紫外光作用下分解為活性粒子,包括0.、.0H和O3等;從C區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體與A區(qū)反應(yīng)區(qū)處理后的廢氣在第二集氣罩12內(nèi)混合時(shí),活性粒子與A區(qū)反應(yīng)區(qū)處理后的廢氣進(jìn)一步反應(yīng),使得A區(qū)反應(yīng)區(qū)流出的氣體得到進(jìn)一步降解。
[0109]經(jīng)反應(yīng)器5上方的采樣口采樣后,在線氣體分析儀器檢測(cè)顯示苯乙烯氣體在外施電壓9.0kV時(shí)去除效率達(dá)90.4%,比傳統(tǒng)的介質(zhì)阻擋放電的去除率提高了 25.6%,能率提高了 15.7g/ (k W.h)。
【權(quán)利要求】
1.一種準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,其特征在于:包括集氣罩(I)、氣體分配器、反應(yīng)器(5)和引風(fēng)機(jī);集氣罩(I)包括第一集氣罩(11)和第二集氣罩(12);氣體分配器包括第一氣體分配器(3)和第二氣體分配器(4);第一集氣罩(11)、第一氣體分配器(3)、反應(yīng)器(5)、第二氣體分配器(4)和第二集氣罩(12)由下向上依次設(shè)置; 第一集氣罩(11)的進(jìn)氣口與待降解氣體的廢氣發(fā)生器出氣口或者儲(chǔ)氣罐相連,第一集氣罩(11)的的出氣口與第一氣體分配器(3)的進(jìn)氣口相連;反應(yīng)器(5)設(shè)置在第一氣體分配器(3)和第二氣體分配器(4)之間;第二集氣罩(12)安裝固定在第二氣體分配器(4)上方,第二集氣罩(12)的進(jìn)氣口與第二氣體分配器(4)的所有出氣口相連通;引風(fēng)機(jī)的進(jìn)氣端口與第二集氣罩(12)的出氣口相連; 所述反應(yīng)器(5)包括四層石英介質(zhì)層、內(nèi)電極(61)、外電極(62)和高壓電源(63);所述四層石英介質(zhì)層包括同軸線的、由內(nèi)向外依次設(shè)置的第一石英管(51)、第二石英管(52)、第三石英管(53)和第四石英管(54);內(nèi)電極(61)設(shè)置在第一石英管(51)內(nèi),外電極(62)設(shè)置在第三石英管(53)外側(cè)面; 第一石英管(51)與第二石英管(52)之間的空間為A區(qū)反應(yīng)區(qū);第三石英管(53)的上、下兩端端口燒結(jié)在第二石英管(52)的外側(cè)面,從而第二石英管(52)與第三石英管(53)之間形成密閉的環(huán)形空腔,該密閉的環(huán)形空腔為氣體填充B區(qū),氣體填充B區(qū)內(nèi)充有稀有氣體或者稀有氣體-鹵素混合氣體或者汞-鹵素混合氣體;第四石英管(54)與第三石英管(53)之間的空間為C區(qū)反應(yīng)區(qū); 第一氣體分配器(3)設(shè)有A區(qū)進(jìn)氣通孔(36)和C區(qū)進(jìn)氣通孔(38),第二氣體分配器(4)設(shè)有A區(qū)出氣通孔(42)和C區(qū)出氣通孔(43);第一氣體分配器(3)的A區(qū)進(jìn)氣通孔(36)與A區(qū)反應(yīng)區(qū)和第二氣體分配器(4)的A區(qū)出氣通孔(42)相連通,第一氣體分配器(3)的C區(qū)進(jìn)氣通孔(38)與C區(qū)反應(yīng)區(qū)和第二氣體分配器(4)的C區(qū)出氣通孔(43)相連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,其特征在于:第一氣體分配器(3)還包括空氣通道(37);空氣通道(37)的進(jìn)氣端與空氣管(37-2 )相連,空氣管(37-2 )上設(shè)有閥門(37-3 );空氣通道(37 )的出氣口與C區(qū)反應(yīng)區(qū)相連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,其特征在于:第一氣體分配器(3)的C區(qū)進(jìn)氣通孔(38)的出口上方和空氣通道(37)的出氣口上方還設(shè)有多孔篩板(7); 所述多孔篩板(7)為環(huán)形,多孔篩板(7)的圓周方向設(shè)置一圈通氣孔(71),多孔篩板(7)的通氣孔(71)設(shè)置在反應(yīng)器(5)的C區(qū)反應(yīng)區(qū)下方;第一氣體分配器(3)的C區(qū)進(jìn)氣通孔(38)通過多孔篩板(7)的通氣孔(71)與反應(yīng)器(5)的C區(qū)反應(yīng)區(qū)相連通;空氣通道(37)的出氣口通過多孔篩板(7)的通氣孔(71)與反應(yīng)器(5)的C區(qū)反應(yīng)區(qū)相連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,其特征在于:第一氣體分配器(3 )的進(jìn)氣口下方還設(shè)有旋風(fēng)分離裝置(2 );第一集氣罩(11)的的出氣口與旋風(fēng)分離裝置(2)的進(jìn)氣口相連,旋風(fēng)分離裝置(2)的出氣端口與第一氣體分配器(3)的進(jìn)氣口相連通。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4之一所述的準(zhǔn)分子紫外輻射與等離子體耦合一體化降解廢氣的裝置,其特征在于:第一石英管(51)的內(nèi)壁緊貼一層卷制的金屬片作為內(nèi)電極(61),或者第一石英管(51)的內(nèi)部填滿金屬粉末作為內(nèi)電極(61); 第三石英管(53)的外側(cè)面上纏繞片狀金屬作為外電極(62),或者第三石英管(53)的外側(cè)面上包裹金屬網(wǎng)作為外電極(62); 所述高壓電源 (63)為中頻脈沖方波電源,放電電壓在OkV~15kV范圍內(nèi)可調(diào)。
【文檔編號(hào)】B01D53/76GK104014233SQ201410302998
【公開日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月26日
【發(fā)明者】葉招蓮, 趙潔, 汪斌, 戴亮, 蔣一飛 申請(qǐng)人:江蘇技術(shù)師范學(xué)院