電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，該精餾塔塔身上僅有提餾段設(shè)置用于檢修的手孔，精餾塔上方設(shè)有對精餾塔氣相出口排出的蒸汽進(jìn)行冷凝回流的冷凝器，冷凝器上冷凝液回流管的排液管口延伸至精餾塔內(nèi)部，精餾塔內(nèi)與冷凝液回流管的排液管口相對的位置處設(shè)置有板面沿水平方向布置的隔板，隔板將精餾塔內(nèi)部分隔成上、下相隔的兩個區(qū)域，隔板上均勻開設(shè)有貫穿板體的插孔，各插孔內(nèi)分別插設(shè)立狀布置的均流管，各均流管延伸至隔板上方的管口端部呈平齊狀設(shè)置。上述方案取消了傳統(tǒng)精餾塔在精餾段和提餾段均設(shè)置手孔的方案，避免手孔與精餾塔塔身的連接處無法達(dá)到很好的無縫粘合，防止外部的雜質(zhì)進(jìn)入精餾塔內(nèi)污染電子級氫氟酸，保證產(chǎn)品的質(zhì)量。
【專利說明】電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及電子級氫氟酸生產(chǎn)領(lǐng)域，具體涉及一種電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾 塔。

【背景技術(shù)】
[0002] 電子級氫氟酸主要用于電子、光伏行業(yè)中生產(chǎn)集成電路，要求非金屬元素的含量 C1 芻 5000ppb、N(V 蘭 3000ppb、P043 一蘭 1000ppb、S042 一蘭 5000ppb，金屬元素的含量要求低 于lOppb。目前對于電子級的氫氟酸生產(chǎn)主要是將工業(yè)氫氟酸進(jìn)一步進(jìn)行氧化和精餾除雜， 但是，目前精餾后的得到的氫氟酸雜質(zhì)含量還是較高。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本實(shí)用新型的目的是提供一種電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，其可有效降低經(jīng)精餾 塔處理后的電子級氫氟酸中的雜質(zhì)含量。
[0004] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了以下技術(shù)方案：一種電子級氫氟酸生產(chǎn)用精 餾塔，其特征在于：該精餾塔塔身上僅有提餾段設(shè)置用于檢修的手孔，精餾塔上方設(shè)置有對 精餾塔氣相出口排出的蒸汽進(jìn)行冷凝回流的冷凝器，冷凝器上冷凝液回流管的排液管口延 伸至精餾塔內(nèi)部，精餾塔內(nèi)與冷凝液回流管的排液管口相對的位置處設(shè)置有板面沿水平方 向布置的隔板，隔板將精餾塔內(nèi)部分隔成上、下相隔的兩個區(qū)域，隔板上均勻開設(shè)有貫穿板 體的插孔，各插孔內(nèi)分別插設(shè)立狀布置的均流管，各均流管延伸至隔板上方的管口端部呈 平齊狀設(shè)置。
[0005] 上述方案中，取消了傳統(tǒng)精餾塔在精餾段和提餾段均設(shè)置手孔的方案，避免手孔 與精餾塔塔身的連接處無法達(dá)到很好的無縫粘合，形成泄漏點(diǎn)，防止外部的雜質(zhì)進(jìn)入精餾 塔內(nèi)污染電子級氫氟酸，保證產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0006] 進(jìn)一步的方案為：冷凝液回流管的排液管口的高度低于均流管上端管口的高度； 冷凝液回流管的排液管口處套設(shè)有開口向下、蓋合在隔板上的圓形穩(wěn)流罩，穩(wěn)流罩側(cè)壁的 周向均勻開設(shè)有通孔，該通孔的高度低于均流管上端的管口高度，插孔在位于穩(wěn)流罩外圍 的隔板板面上均勻開設(shè)；精餾塔塔高為19米，僅塔身下部9米設(shè)置用于檢修的手孔，且塔身 高度每3米設(shè)置兩個手孔。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007] 圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0008] 圖2、3是A處的兩種局部放大示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0009] 本實(shí)用新型的目的在于提供一種電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，其采取的方案如圖 1所示，該精餾塔10塔身上僅有提餾段l〇b設(shè)置用于檢修的手孔12。在實(shí)際生產(chǎn)中，采用傳 統(tǒng)的精餾塔10對氧化處理后的氫氟酸進(jìn)行精餾往往達(dá)不到預(yù)期的精餾效果，通過大量的 現(xiàn)場實(shí)驗(yàn)分析后，發(fā)現(xiàn)其是由于精餾塔10上的手孔與精餾塔10身的連接處無法達(dá)到很好 的無縫粘合，因此在精餾塔10的塔身上形成較多的泄漏點(diǎn)，而精餾制取的產(chǎn)品為電子級的 DHF，任何一個泄漏點(diǎn)都會導(dǎo)致產(chǎn)品不合格。由于精餾塔10所精餾的原料氫氟酸的純度較 高，經(jīng)過提餾段的精餾后產(chǎn)品的純度已經(jīng)很高，因此精餾塔10內(nèi)精餾段l〇a的填料無需進(jìn) 行清洗，所以本實(shí)用新型中取消了在精餾塔10精餾段l〇a的手孔設(shè)置，僅在提餾段10b設(shè) 置手孔12,盡最大的可能降低產(chǎn)品受到污染的風(fēng)險，提高產(chǎn)品的合格率。同時取消手孔12 也使精餾塔10的設(shè)備成本下降。當(dāng)然這樣精餾段l〇a設(shè)備如果損壞只能返廠，無法現(xiàn)場通 過手孔進(jìn)行檢修。精餾塔10塔高為19米，僅塔身下部9米設(shè)置用于檢修的手孔12,且塔身 高度每3米設(shè)置兩個手孔12,以及精餾塔10塔身包括6個3米的單元節(jié)以及塔頂疊加構(gòu) 成，下部的3個單元節(jié)中每個單元節(jié)上開設(shè)兩個手孔12。
[0010] 本實(shí)用新型要解決的另一個問題是提高精餾塔10內(nèi)回流的冷凝液在精餾塔內(nèi) 的均勻分布。傳統(tǒng)精餾塔10采用噴淋裝置和均流板使得冷凝液在精餾塔內(nèi)均勻分布，但是 由于噴淋裝置的局限性，無法使得冷凝液有效的噴灑至均流板的邊緣處和中心位置處，因 此精餾塔內(nèi)冷凝液的分布還是較不均勻，影響精餾的效果。為此，本實(shí)用新型采用如圖2所 示的技術(shù)方案進(jìn)行實(shí)施，亦即：該精餾塔10上方設(shè)置有對精餾塔10氣相出口排出的蒸汽進(jìn) 行冷凝回流的冷凝器，冷凝器上冷凝液回流管11的排液管口延伸至精餾塔10內(nèi)部，精餾塔 10內(nèi)與冷凝液回流管11的排液管口相對的位置處設(shè)置有板面沿水平方向布置的隔板13， 隔板13將精餾塔10內(nèi)部分隔成上、下相隔的兩個區(qū)域，隔板13上均勻開設(shè)有貫穿板體的 插孔，各插孔內(nèi)分別插設(shè)立狀布置的均流管14,各均流管14延伸至隔板13上方的管口端部 呈平齊狀設(shè)置。這樣，冷凝回流的冷凝液會先儲存在隔板13與精餾塔10內(nèi)壁形成桶腔內(nèi)， 當(dāng)冷凝液的液面高度與各均流管14上端的高度相吻合時，冷凝液就會沿著各均流管14流 入精餾段l〇a的填料中，由于均流管14在隔板13上均勻分布，因此能夠?qū)崿F(xiàn)冷凝液在精餾 塔10的均勻分布，提高精餾效果。當(dāng)然這樣也對精餾塔10的安裝提出了更高的要求。 [0011] 具體的操作方案為，冷凝液回流管11的排液管口的高度低于均流管14上端管口 的高度。冷凝液回流管11的排液管口處套設(shè)有開口向下、蓋合在隔板13上的圓形穩(wěn)流罩 15,穩(wěn)流罩15側(cè)壁的周向均勻開設(shè)有通孔，該通孔的高度低于均流管14上端的管口高度， 插孔在穩(wěn)流罩15外圍的隔板13板面上均勻開設(shè)，如圖3所示。由于實(shí)際操作時，隔板13上 儲存的冷凝液不會太多，從冷凝液回流管11落下的冷凝液引起液面波動，導(dǎo)致各均流管14 排液不均，因此在冷凝液回流管11的排液管口處設(shè)置一穩(wěn)流罩15,防止液面較大的波動， 保證冷凝液均勻分布。
[0012] 總之，本實(shí)用新型可有效降低電子級氫氟酸生產(chǎn)受手孔設(shè)置污染的影響，提高產(chǎn) 品質(zhì)量，同時可保證冷凝液的均勻分布，提高精餾效果。
【權(quán)利要求】
1. 一種電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，其特征在于：該精餾塔（10)塔身上僅有提餾段 (10b)設(shè)置用于檢修的手孔（12)，精餾塔（10)上方設(shè)置有對精餾塔（10)氣相出口排出的 蒸汽進(jìn)行冷凝回流的冷凝器，冷凝器上冷凝液回流管（11)的排液管口延伸至精餾塔（10) 內(nèi)部，精餾塔（10)內(nèi)與冷凝液回流管（11)的排液管口相對的位置處設(shè)置有板面沿水平方 向布置的隔板（13)，隔板（13)將精餾塔（10)內(nèi)部分隔成上、下相隔的兩個區(qū)域，隔板（13) 上均勻開設(shè)有貫穿板體的插孔，各插孔內(nèi)分別插設(shè)立狀布置的均流管（14)，各均流管（14) 延伸至隔板（13)上方的管口端部呈平齊狀設(shè)置。
2. 如權(quán)利要求1所述的電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，其特征在于：冷凝液回流管（11) 的排液管口的高度低于均流管（14)上端管口的高度。
3. 如權(quán)利要求1所述的電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，其特征在于：冷凝液回流管（11) 的排液管口處套設(shè)有開口向下、蓋合在隔板（13)上的圓形穩(wěn)流罩（15)，穩(wěn)流罩（15)側(cè)壁的 周向均勻開設(shè)有通孔，該通孔的高度低于均流管（14)上端的管口高度，插孔在位于穩(wěn)流罩 (15)外圍的隔板（13)板面上均勻開設(shè)。
4. 如權(quán)利要求1所述的電子級氫氟酸生產(chǎn)用精餾塔，其特征在于：精餾塔（10)塔高為 19米，僅塔身下部9米設(shè)置用于檢修的手孔（12)，且塔身高度每3米設(shè)置兩個手孔（12)。
【文檔編號】B01D3/14GK203874487SQ201420099086
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年3月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月5日
【發(fā)明者】胡洪峰 申請人:宣城亨泰化工科技有限公司