本發(fā)明屬于感光膜旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種能防止基板上的旋轉(zhuǎn)涂布的感光膜被污染和提高涂布厚度的均勻性的感光膜旋轉(zhuǎn)涂布裝置。

背景技術(shù)：

一般來(lái)講，有機(jī)發(fā)光器件的制造工序之一的光刻工序采用旋轉(zhuǎn)涂布裝置在有機(jī)發(fā)光器件面板的透明絕緣性基板上面涂布感光膜。旋轉(zhuǎn)涂布裝置上采用的涂布方式分為靜態(tài)涂布方式和動(dòng)態(tài)旋轉(zhuǎn)涂布方式。上述靜態(tài)涂布方式為，在旋轉(zhuǎn)涂布裝置的卡盤(pán)上真空吸附基板后，通過(guò)上述基板的表面上方的感光膜吐出用噴嘴吐出一定量的感光膜后，將上述基板高速旋轉(zhuǎn)，以此在上述基板的表面整體上涂布感光膜。因此，上述靜態(tài)涂布方式由于實(shí)質(zhì)上只使用上述感光膜全體量中的一部分比如10～20％涂布在上述基板上，剩余的從上述基板脫離的感光膜作為廢液處理，這樣不僅浪費(fèi)感光膜，而且還具有能產(chǎn)生大量的引發(fā)環(huán)境污染的感光膜的廢液的缺點(diǎn)。相反，上述動(dòng)態(tài)涂布方式是為改善上述靜態(tài)涂布方式的方法，在旋轉(zhuǎn)涂布裝置的卡盤(pán)上將基板真空吸附后，將上述基板高速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，通過(guò)上述基板的表面上方的感光膜吐出用噴嘴，吐出一定量的感光膜，以此在上述基板的表面整體上涂布感光膜。因此，上述動(dòng)態(tài)涂布方式將上述感光膜的絕大部分實(shí)際地使用在上述基板的涂布上，而且將從上述基板脫離的只有一部分的感光膜作為廢液處理。因此，上述動(dòng)態(tài)涂布方式比起上述靜態(tài)涂布方式，不僅能控制上述感光膜的浪費(fèi)，以此減少原材料的使用，而且還能減少上述感光膜的廢液量，控制環(huán)境污染。

但是，采用上述動(dòng)態(tài)涂布方式的旋轉(zhuǎn)涂布裝置上，配在上述卡盤(pán)的周?chē)淖韪魡卧膫?cè)壁部的上端部由于成垂直的內(nèi)側(cè)面，因此，脫離到上述基板的外側(cè)的感光膜撞在上述阻隔單元的側(cè)壁部時(shí)，上述感光膜的一部分會(huì)以微粒子的形式落到上述基板的涂布的感光膜上面，污染上述基板上面已涂布的感光膜。

而且，上述卡盤(pán)上面基板的表面由于比上述阻隔單元的水平部的表面高，兩者之間存在高度之差，因此，在上述基板旋轉(zhuǎn)時(shí)，有可能產(chǎn)生渦流在上述基板周?chē)?，?huì)惡化上述感光膜的涂布厚度的均勻性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是解決上述問(wèn)題，提供一種可提高被旋轉(zhuǎn)涂布的感光膜的可靠性的感光膜旋轉(zhuǎn)涂布裝置。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種感光膜旋轉(zhuǎn)涂布裝置，包括以真空吸附方式支撐基板的卡盤(pán)，設(shè)于基板上方的噴嘴以及固定在卡盤(pán)的底部用于驅(qū)動(dòng)卡盤(pán)旋轉(zhuǎn) 的旋轉(zhuǎn)軸，還包括設(shè)于基板外圍，固定在上述卡盤(pán)上，用于阻斷、集結(jié)沒(méi)在基板上面涂布而脫離基板散開(kāi)的感光膜的阻隔單元；所述阻隔單元包括水平部和側(cè)壁部，側(cè)壁部呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤(pán)的中心，側(cè)壁部的上端呈倒三角形。

優(yōu)選地，所述水平部和側(cè)壁部之間設(shè)有至少一個(gè)感光膜排出口。

優(yōu)選地，所述水平部與基板表面高度相同。

優(yōu)選地，所述阻隔單元的外圍還設(shè)有殼體。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明所提供的感光膜旋轉(zhuǎn)涂布裝置，側(cè)壁部的上端防止沒(méi)在基板上面涂成而脫離的感光膜撞在側(cè)壁部以微細(xì)粒子的形態(tài)彈到涂布在基板上的感光膜的位置上，以此防止涂布在基板上的感光膜不被上述粒子污染；而且，由于水平部與基板表面高度相同，因此在基板旋轉(zhuǎn)的時(shí)候發(fā)生的渦流最小化，最后達(dá)到提高上述基板上面涂布的感光膜的涂布厚度均勻性的效果。因此，本發(fā)明可提高被旋轉(zhuǎn)涂布的感光膜的可靠性。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明中感光膜旋轉(zhuǎn)涂布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說(shuō)明：

如圖1所示，本發(fā)明的感光膜旋轉(zhuǎn)涂布裝置，包括基板1、卡盤(pán)11、旋轉(zhuǎn)軸13、阻隔單元15、殼體17和噴嘴19，卡盤(pán)11以真空吸附方式固定用于涂布感光膜的基板1，旋轉(zhuǎn)軸13固定在卡盤(pán)11的底部，在動(dòng)力機(jī)構(gòu)的作用下水平旋轉(zhuǎn)，從而卡盤(pán)11和基板1也隨之水平旋轉(zhuǎn)，阻隔單元15用于阻礙從基板1脫離散開(kāi)的感光膜，以此防止阻隔單元15外側(cè)的各部位被感光膜污染。

阻隔單元15的水平部15a設(shè)于基板1外圍，與基板1保持一定的距離，側(cè)壁部15b呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤(pán)11的中心，側(cè)壁部15b的上端15c呈倒三角形，水平部15a的上表面與基板1的上表面高度相同，水平部15a和側(cè)壁部15b之間設(shè)有至少一個(gè)感光膜排出口15d，在本實(shí)施例中，感光膜排出口15d的數(shù)量為四，均勻間隔分布。

在圖1中，阻隔單元15看起來(lái)與卡盤(pán)11完全分離，但實(shí)際上，阻隔單元15的水平部15a與卡盤(pán)11的上側(cè)部分離的同時(shí)，與卡盤(pán)11的下側(cè)部相連。

殼體17設(shè)于卡盤(pán)11和阻隔單元15的外圍，將卡盤(pán)11和阻隔單元15包圍，殼體17上部為開(kāi)放口，殼體17用于阻斷、集結(jié)越過(guò)阻隔單元15的感光膜。

感光膜吐出用噴嘴19設(shè)于基板1的表面中心處的正上方，在卡盤(pán)11上面水平放置基板1，比如用于有機(jī)發(fā)光器件的透明絕緣性基板等后，將基板1用真空吸附方式固定住。然后，動(dòng)力機(jī)構(gòu)高速旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸13的同時(shí)，基板1也高速旋轉(zhuǎn)，通過(guò)噴嘴19將一定量的感 光膜吐出到基板1的中心處。

此時(shí)，雖然上述感光膜的大部分涂布在基板1的表面上，但剩下的一部分感光膜會(huì)脫離基板1，撞在阻隔單元15的側(cè)壁部15b的內(nèi)側(cè)面散開(kāi)，從側(cè)壁部15b彈出來(lái)的感光膜呈微粒子形態(tài)，由于側(cè)壁部15b的上端15c呈倒三角形，可把感光膜的微粒子降落到水平部15a上，由此防止基板1上面涂布的感光膜不被上述感光膜的微粒子所污染。

又由于水平部15a的表面高度與基板1的表面高度位置相同，因此可最小化水平部15a和基板1之間的高度差異。因此，當(dāng)基板1旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的渦流也可進(jìn)行最小化，提高感光膜的涂布厚度均勻性。因此，本發(fā)明可提高被旋轉(zhuǎn)涂布的感光膜的可靠性。

另外，集結(jié)在阻隔單元15的水平部15a及側(cè)壁部15b上的感光膜在離心力的作用下最終通過(guò)感光膜排出口15d儲(chǔ)藏到感光膜廢液儲(chǔ)藏庫(kù)里。

本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將會(huì)意識(shí)到，這里所述的實(shí)施例是為了幫助讀者理解本發(fā)明的原理，應(yīng)被理解為本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于這樣的特別陳述和實(shí)施例。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以根據(jù)本發(fā)明公開(kāi)的這些技術(shù)啟示做出各種不脫離本發(fā)明實(shí)質(zhì)的其它各種具體變形和組合，這些變形和組合仍然在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。