1.一種合成射流器，其特征為，該合成射流器包含：
一殼體，具有一腔室以及相對的一入口與一出口，該入口與該出口連通該腔室，該腔室用以供氣體容納于其中，該出口對應一熱源；
一振動膜，把該腔室分隔為一第一子腔室以及一第二子腔室，該入口連通該第一子腔室，該第二子腔室具有一第二子腔室開口，該第二子腔室開口連通該出口；以及
一引流道，連通該第一子腔室與該出口；
其中，當受到驅(qū)動時，該振動膜往復式地朝該第一子腔室與該第二子腔室變形。
2.如權利要求1所述的合成射流器，其特征為，該合成射流器更包含一活門，設置于該引流道連通該出口的一端，當該振動膜朝該第二子腔室變形，該活門阻斷該引流道與該第二子腔室開口之間的連通。
3.如權利要求1所述的合成射流器，其特征為，該合成射流器更包含一活門，設置于該引流道連通該出口的一端，當該振動膜朝該第一子腔室變形，該活門促成該引流道與該第二子腔室開口之間的連通。
4.如權利要求1所述的合成射流器，其特征為，該振動膜為壓電薄膜。
5.如權利要求1所述的合成射流器，其特征為，該引流道具有一引流道入口與一引流道出口，該引流道入口連通該第一子腔室，該引流道出口連通該第二子腔室開口，該引流道入口的位置實質(zhì)上對應該振動膜的一中心，該合成射流器更包含一活門，設置于該引流道出口。
6.如權利要求1所述的合成射流器，其特征為，該殼體更具有至少一導斜面，該導斜面的兩端分別連接該出口及該第二子腔室。
7.如權利要求6所述的合成射流器，其特征為，該第一子腔室具有一第一子腔室開口，該第一子腔室開口朝向該導斜面，且該第二子腔室開口朝向該導斜面。
8.如權利要求7所述的合成射流器，其特征為，該第一子腔室開口的法線方向與該第二子腔室開口的法線方向?qū)嵸|(zhì)上交錯。
9.如權利要求1所述的合成射流器，其特征為，該合成射流器更包含一驅(qū)動單元，用以驅(qū)動該振動膜。
10.如權利要求9所述的合成射流器，其特征為，該振動膜為磁性薄膜，該驅(qū)動單元包含一電磁線圈，用以產(chǎn)生驅(qū)動該振動膜的交流磁場。