本發(fā)明是一種具表面適應性能的線棒涂布裝置，尤指適用于精密涂布作業(yè)的具表面適應性能的線棒涂布裝置。

背景技術：

涂布裝置通常是應用于將液體狀的涂布材料均勻的涂抹于待涂布膜上，而線棒涂布的成本較低，且操作較為容易，故許多涂布實驗與較低級的涂布作業(yè)通常會采用線棒涂布的方式進行涂布，其中如圖6所示，線棒涂布式的涂布裝置設置于一涂布機臺(圖未示)，該涂布裝置包含一涂布平臺90及一涂布模組91，該涂布模組91位于該涂布平臺90的上方，該涂布模組91包含一支撐座92、一線棒93及一緩沖膠體94，該支撐座92可移動地位于該涂布平臺90的上方，該線棒93水平設置于該支撐座92上并面向該涂布平臺90的頂面，該線棒包含一繞線(圖未示)，該繞線纏繞于該線棒93的表面并形成多個并排設置的線圈(圖未示)，兩相鄰線圈之間形成一溝槽(圖未示)，該緩沖膠體94設置于該線棒93上方并抵靠該線棒93的頂面，在進行待涂布膜95的涂布時，會將待涂布膜95擺置于該涂布平臺90上，并通過該線棒93將涂布材料96涂布于該待涂布膜95上。

然而隨著國內產業(yè)的變遷以及技術的進步，高科技產品及精密產業(yè)的制程中，對產品的涂布厚度需求也越來越薄，其中有部分產品要求涂布厚度必須控制于微米等級，且除了對產品的涂布厚度有規(guī)格要求外，對涂布均勻性要求也相當高。

如圖6、圖7所示，由于線棒93在涂布時利用線棒93上的線圈之間的溝槽儲存涂布材料，并通過該些線圈之間的溝槽與待涂布膜95圈圍出的面積決定涂布厚度，然而目前的加工技術僅能將線棒93的直筒度及真圓度控制于10～15微米(μm)，且涂布平臺90的加工技術也無法達到高平整度，故會導致在微米等級的精密涂布作業(yè)的過程中，因為該線棒93的真圓度及直筒度不佳，且該涂布平臺90的平整度亦不佳的情形下，使該線棒93及該涂布平臺90之間產生較大的間隙，故在進行涂布時，涂布 于該間隙處的涂布材料96的厚度較厚，而無法平均地將涂布材料96涂布于待涂布膜95上。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一具表面適應性能的線棒涂布裝置，希借此改善在現(xiàn)今線棒及涂布平臺加工技術不足的情形下，無法均勻涂布的問題。

為達成前述目的，本發(fā)明的具表面適應性能的線棒涂布設置于一涂布機臺，該具表面適應性能的線棒涂布裝置包含：

一涂布平臺，該涂布平臺包含一基座及一吸收材，該吸收材設置于該基座的頂面；以及

一涂布模組，其可移動地位于該涂布平臺的上方，該涂布模組包含一支撐座、一線棒、一配重座及一彈性件，該支撐座位于該涂布平臺的上方，該線棒設置于該支撐座上，且該線棒與該涂布平臺的頂面平行，并面向該涂布平臺的頂面，該配重座跨設于該支撐座上并位于該線棒的上方，該彈性件設置于該配重座的底部，且該彈性件的底面抵靠該線棒的頂面。

本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置在進行涂布作業(yè)時，該待涂布膜放置于該表層的頂面，該彈性件會均勻貼合于該線棒，且該彈性件會將該配重座的重量平均分布于該線棒上，使該線棒在涂布時會施予該待涂布膜及該涂布平臺的吸收層一向下壓力，且該涂布平臺的吸收材可配合該線棒的表面曲度，進而使待涂布膜的表面可以配合該線棒的表面曲度，可減少間隙產生，使涂布材料可均勻涂布于待涂布膜的表面，以提高涂布品質。

附圖說明

以下附圖僅旨在于對本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中：

圖1為本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置的第一種較佳實施例的涂布模組的立體示意圖。

圖2為本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置的第一種較佳實施例的側視平面示意圖。

圖3為本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置的第二種較佳實施例的側視平面 示意圖。

圖4為本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置的第一種較佳實施例的前視平面示意圖。

圖5為本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置的第一種較佳實施例的局部放大示意圖。

圖6為常用線棒涂布裝置的局部放大示意圖(一)。

圖7為常用線棒涂布裝置的局部放大示意圖(二)。

主要元件標號說明：

10 涂布平臺 11 基座

12 吸收材 121 緩沖層

122 表層 20 涂布模組

21 支撐座 22 線棒

221 桿體 222 繞線

223 線圈 23 配重座

24 彈性件 241 氣囊

242 墊子 25 配重塊

30 待涂布膜 31 涂布材料

90 涂布平臺 91 涂布模組

92 支撐座 93 線棒

94 緩沖膠體 95 待涂布膜

96 涂布材料

具體實施方式

為了對本發(fā)明的技術特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對照附圖說明本發(fā)明的具體實施方式。

請參閱圖1至圖3，為本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置的一種較佳實施例，其設置于一涂布機臺(圖未示)，該具表面適應性能的線棒涂布裝置包含一涂布平臺10及一涂布模組20。

如圖2、圖3所示，該涂布平臺10包含一基座11及一吸收材12，該吸收材12 設置于該基座11的頂面。

如圖1至圖3所示，該涂布模組20可移動地位于該涂布平臺10的上方，該涂布模組20包含一支撐座21、一線棒22、一配重座23及一彈性件24，該支撐座21位于該涂布平臺10的上方，該線棒22設置于該支撐座21上，且該線棒22與該涂布平臺的頂面平行，并面向該涂布平臺10的頂面，如圖1至圖3所示，該配重座23跨設于該支撐座21上并位于該線棒22的上方，該彈性件24設置于該配重座23的底部，且該彈性件24的底面抵靠該線棒22的頂面。

如圖2、圖3所示，其中，該吸收材12包含一緩沖層121及一表層122，該緩沖層121設于該基座11的頂面，該表層122設置于該緩沖層121的頂面，且該涂布平臺10的緩沖層121為不織布、棉布或棉紙材質的構件，其中該些材質為低剛性低回彈的材料，該表層122為聚對苯二甲酸乙二酯材質的構件，另外，該線棒22包含一桿體221及一繞線222，繞線222纏繞于桿體221的表面，且繞線222在桿體221的表面形成多個并排設置的線圈223，兩相鄰的線圈223之間形成溝槽，此外，該涂布模組20的彈性件24可以為一氣囊241或一墊子242，其中該墊子242為一聚氨酯材質的構件，如圖1、圖4所示，該涂布模組20包含多個配重塊25，該些配重塊25間隔地設置于該配重座23上。

如圖2、圖3所示，當在進行涂布作業(yè)前，操作人員會將一待涂布膜30放置于該涂布平臺10的表層122上，如圖1、圖4所示，并將該些配重塊25設置于該配重座23上，并調整該些配重塊25的位置，即可進行涂布作業(yè)。

如圖4、圖5所示，在進行涂布作業(yè)時，該涂布模組20的線棒22被一驅動件帶動而于該涂布平臺10上移動，該線棒22移動的同時會推動欲涂布于待涂布膜30上的涂布材料31，該些涂布材料31會陷入該線棒22的該些線圈223的溝槽內，并在該線棒22移動時，所述陷入溝槽的涂布材料31會涂布于待涂布膜30上。

如圖4、圖5所示，該彈性件24會均勻貼合于該線棒22，且該彈性件24會將該配重座23的重量平均分布于該線棒22上，使該線棒22在涂布時會施予該待涂布膜30及該涂布平臺10的吸收材12一向下壓力，當該待涂布膜30及該涂布平臺10的吸收材12在承受該線棒22的向下壓力時，該吸收材12可對應基座11表面的不平整，并提供對應補償?shù)淖冃瘟?，其中使該待涂布?0與該線棒22表面之間的間距相同，使涂布于該待涂布膜30的涂布材料31的厚度可以均一。

該吸收材12在涂布時受到該線棒22下壓所產生的變形量的關系式為：其中，ΔX：為該吸收材12的變形量；F：為該線棒22所施予該待涂布膜30及該吸收材12的向下壓力；K1：為該吸收材12的緩沖層121的剛性系數(shù)；K2：為該吸收材12的表層122的剛性系數(shù)；K3：為該待涂布膜30的剛性系數(shù)。

其中，由于該表層122的材質為聚對苯二甲酸乙二脂的構件，當該表層122受到壓力而產生變形時，該表層122的變形量較該緩沖層121的變形量小，且該表層122的重量施加于該緩沖層121使該表層122可提高該緩沖層121表面的平整度，故當進行涂布時，該緩沖層121及該表層122可提供緩沖效果，使該待涂布膜30可以平整地貼合于該線棒22上。

如圖1、圖4所示，該些配重塊25可增加該配重座23的重量，操作人員可通過調整該些配重塊25的位置，如圖4、圖5所示，使該些配重塊25及該配重座23的重量能平均分布該彈性件24上，該彈性件24會將該些配重塊25及該配重座23的重量平均分布于該線棒22上，使該線棒22在涂布過程中，該待涂布膜30可以貼合于該線棒22。

如圖4、圖5所示，該線棒22的平均施壓與該緩沖層121及該表層122的緩沖效果，可使該待涂布膜30能平整且平均地貼合于該線棒22，故在進行涂布時，陷入溝槽的涂布材料31可以均勻分布于待涂布膜30與該線棒22之間，當該線棒22在移動時，該吸收材12可配合該線棒22表面的變化，使該待涂布膜30能保持貼合于該線棒22的狀態(tài)，故該具表面適應性能的線棒涂布裝置可在該線棒22的真圓度及直筒度不足，且該涂布平臺10的表面平整度不足的情形下，仍可達到使涂布材料31可均勻涂布于該待涂布膜30上的效果。

綜上所述，在進行涂布作業(yè)時，本發(fā)明具表面適應性能的線棒涂布裝置可通過該涂布平臺10上的吸收材12，達到能適應線棒22表面的不平整性的效果，并通過該配重座23及該彈性件24對該線棒22均勻施壓，于涂布時，使該吸收材12可配合該線棒22的表面曲度，使待涂布膜30可貼合于該線棒22，以增加涂布的均勻性，進而提高涂布品質。

以上所述僅為本發(fā)明示意性的具體實施方式，并非用以限定本發(fā)明的范圍。任何本領域的技術人員，在不脫離本發(fā)明的構思和原則的前提下所作的等同變化與修改， 均應屬于本發(fā)明保護的范圍。而且需要說明的是，本發(fā)明的各組成部分并不僅限于上述整體應用，本發(fā)明的說明書中描述的各技術特征可以根據(jù)實際需要選擇一項單獨采用或選擇多項組合起來使用，因此，本發(fā)明理所當然地涵蓋了與本案發(fā)明點有關的其它組合及具體應用。