本發(fā)明涉及氣體水洗裝置，所述氣體水洗裝置對(duì)從飛灰處理裝置排出的廢氣進(jìn)行水洗，除去廢氣中所含的水溶性成分，其中，所述飛灰捕集于廢棄物焚燒爐和熔融爐等的廢氣管線。

背景技術(shù)：

從飛灰處理裝置排出的廢氣中，包含有在適于廢氣處理的溫度下處理時(shí)析出的銨鹽類水溶性成分。為了除去上述水溶性成分，廢氣管線設(shè)有水洗塔，所述水洗塔通過(guò)向廢氣噴射水，使水溶性成分溶解到水中而將其除去。

專利文獻(xiàn)1：日本專利公開公報(bào)特開2001-232324號(hào)

可是，如果廢氣在連接至水洗塔的廢氣管線中被冷卻，則例如有可能使廢氣中所含的氨氣和氯化氫結(jié)合而生成氯化銨，并在水洗塔的氣體導(dǎo)入部附近析出而堵塞氣體導(dǎo)入部。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明的目的是提供能防止水洗塔的氣體導(dǎo)入部被析出物堵塞的氣體水洗裝置。

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題如上所述，以下說(shuō)明用于解決所述技術(shù)問題的方式。

即，本發(fā)明的氣體水洗裝置包括：水洗塔，通過(guò)水洗除去廢氣中的水溶性成分；以及堵塞防止裝置，防止向所述水洗塔導(dǎo)入廢氣的氣體導(dǎo)入部堵塞，所述堵塞防止裝置具有：加熱部，加熱廢氣；以及析出物除去部，除去所述水溶性成分的析出物。

按照上述結(jié)構(gòu)，為了抑制水洗塔進(jìn)行的水洗使氣體水洗裝置整體的溫度降低而導(dǎo)致氣體導(dǎo)入部的溫度降低，而對(duì)加熱部壁面的廢氣進(jìn)行加 熱，由此可以預(yù)先防止產(chǎn)生水溶性成分的析出物。而且，伴隨水洗塔內(nèi)的水洗使氣體導(dǎo)入部的溫度降低而產(chǎn)生水溶性成分的析出物時(shí)，可以由析出物除去部除去所述析出物。由此，能夠防止水洗塔的氣體導(dǎo)入部被析出物堵塞。

本發(fā)明在上述結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，所述堵塞防止裝置具有導(dǎo)入下游管和導(dǎo)入上游管，所述導(dǎo)入下游管的一端部通過(guò)所述氣體導(dǎo)入部連接于所述水洗塔，所述導(dǎo)入上游管連接于所述導(dǎo)入下游管的中間部，所述導(dǎo)入下游管具有所述析出物除去部，所述導(dǎo)入上游管具有所述加熱部。

按照上述結(jié)構(gòu)，抑制了由加熱部加熱的導(dǎo)入上游管壁面上產(chǎn)生析出物，且利用析出物除去部除去了析出并附著于導(dǎo)入下游管的水溶性成分的析出物，由此能夠有效地防止水洗塔的氣體導(dǎo)入部堵塞。

本發(fā)明在上述結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，所述析出物除去部具有噴射噴嘴，所述噴射噴嘴設(shè)置在所述導(dǎo)入下游管的另一端部，將噴射水朝向所述一端部噴射。

按照上述結(jié)構(gòu)，利用從噴射噴嘴噴射的噴射水，可以有效地除去水溶性成分的析出物。

本發(fā)明在上述結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，所述堵塞防止裝置具有除去控制部，所述除去控制部控制析出物除去部的噴射水的噴射時(shí)間和噴射間隔中的至少一方。

按照上述結(jié)構(gòu)，通過(guò)由除去控制部控制析出物除去部的噴射水的噴射時(shí)間和噴射間隔中的至少一方，能夠高效地防止水洗塔的氣體導(dǎo)入部堵塞。

按照本發(fā)明，可以預(yù)先防止廢氣所含的水溶性成分的析出物堵塞水洗塔的氣體導(dǎo)入部。

附圖說(shuō)明

圖1是表示具備本發(fā)明的氣體水洗裝置的飛灰加熱處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖2是本發(fā)明的氣體水洗裝置的正面斷面圖。

圖3是表示本發(fā)明的氣體水洗裝置的控制系統(tǒng)的框圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

4加熱器

10氣體水洗裝置

20水洗塔

25氣體導(dǎo)入部

30堵塞防止裝置

31導(dǎo)入下游管

32導(dǎo)入上游管

33加熱部

36析出物除去部

37噴射噴嘴

40控制器(除去控制部)

具體實(shí)施方式

首先，說(shuō)明具備本發(fā)明的氣體水洗裝置10的飛灰加熱處理設(shè)備1。另外，本發(fā)明的氣體水洗裝置10不限定設(shè)置于以下說(shuō)明的飛灰加熱處理設(shè)備1，也可以設(shè)置于用于處理從廢棄物焚燒爐和熔融爐等排出的廢氣的廢氣處理設(shè)備。

如圖1所示，飛灰加熱處理設(shè)備1對(duì)焚燒設(shè)備的焚燒爐(未圖示)等的廢氣管線中捕集的飛灰進(jìn)行加熱處理，使二惡英類分解。飛灰加熱處理設(shè)備1具備：飛灰儲(chǔ)存料斗2，儲(chǔ)存飛灰；加熱器4，將飛灰加熱到規(guī)定溫度(例如從350℃到400℃)而使二惡英類分解；冷卻器5，使加熱后的飛灰冷卻；氣體水洗裝置10，對(duì)從加熱器4所設(shè)置的濾塵器8借助廢氣導(dǎo)入管線9導(dǎo)入的加熱處理氣體(“廢氣”的一例)進(jìn)行水洗，除去水溶性成分；冷凝器6，使由氣體水洗裝置10水洗后的加熱處理氣體冷卻；以及排水容器7，承接從氣體水洗裝置10和冷凝器6排出的溶解有水溶性成分的排水。

接著，參照?qǐng)D2說(shuō)明本發(fā)明的氣體水洗裝置10。

所述氣體水洗裝置10通過(guò)水洗除去加熱處理氣體中所含的氯化氫、 氨氣等水溶性成分。由于從加熱器4排出的加熱處理氣體的溫度比較低，在廢氣導(dǎo)入管線9的中途被冷卻，所以加熱處理氣體中所含的氯化氫和氨氣結(jié)合而析出氯化銨鹽。并且，所述析出物附著固化于水洗塔20的氣體導(dǎo)入部25的管內(nèi)周面和入口而堵塞，妨礙加熱處理氣體的導(dǎo)入。因此，氣體水洗裝置10具備堵塞防止裝置30，所述堵塞防止裝置30防止由于所述水溶性成分的析出物的附著固化而堵塞氣體水洗裝置10中的加熱處理氣體的導(dǎo)入部。

即，氣體水洗裝置10主要具備水洗塔20和堵塞防止裝置30，所述水洗塔20對(duì)加熱處理氣體進(jìn)行水洗而除去水溶性成分，所述堵塞防止裝置30防止水洗塔20的氣體導(dǎo)入部25被從加熱處理氣體析出的水溶性成分的析出物堵塞。

水洗塔20具備沿鉛直方向直立配置的筒狀的塔主體20a。水洗塔20具有：清洗水導(dǎo)入部21，具有從所述塔主體20a的上端部向下方噴灑清洗水的灑水噴嘴22；填充材料層23，設(shè)置于塔主體20a的軀干部，具有促進(jìn)加熱處理氣體和清洗水接觸從而高效進(jìn)行水洗的接觸促進(jìn)用填充材料(例如拉西環(huán)等)；清洗水排出部24，設(shè)置在塔主體20a的下端部，使溶解有加熱處理氣體所含的氯化氫和氨氣等水溶性成分的清洗水排出；氣體導(dǎo)入部25，在塔主體20a的比清洗水排出部24位于上方的下端部側(cè)，在周側(cè)面開口而導(dǎo)入加熱處理氣體；以及氣體排出部26，設(shè)置在塔主體20a的上端部，用于排出水洗后的加熱處理氣體。

在水洗塔20中，由清洗水導(dǎo)入部21從灑水噴嘴22朝向下方將清洗水均勻地噴灑到塔主體20a內(nèi)。所述清洗水在填充材料層23中形成水膜。并且，從氣體導(dǎo)入部25導(dǎo)入塔主體20a內(nèi)的加熱處理氣體，被作為清洗水的逆流朝向上方輸送而通過(guò)填充材料層23。在填充材料層23中，加熱處理氣體和形成于填充材料層23的水膜有效地接觸，加熱處理氣體所含的水溶性成分有效地溶解到清洗水中。并且，水洗后的加熱處理氣體從氣體排出部26排出。此外，含水溶性成分的清洗水從清洗水排出部24排出。

堵塞防止裝置30包括：導(dǎo)入下游管31，一端部連接于氣體導(dǎo)入部25；導(dǎo)入上游管32，連接于導(dǎo)入下游管31的中間部，使加熱處理氣體流 向?qū)胂掠喂?1；析出物除去部36，設(shè)置于導(dǎo)入下游管31；以及加熱部33，對(duì)流通導(dǎo)入上游管32的加熱處理氣體進(jìn)行加熱。

導(dǎo)入下游管31是從氣體導(dǎo)入部25朝向垂直于塔主體20a的軸心的水平方向突出并連接的管，導(dǎo)入下游管31的另一端部設(shè)有構(gòu)成析出物除去部36的噴射噴嘴37。

導(dǎo)入上游管32是從導(dǎo)入下游管31的偏另一端部的中間部向上方突出并沿鉛直方向延伸的管，并且在水平彎曲的上端部借助凸緣部連接有廢氣導(dǎo)入管線9。

加熱部33具有加熱導(dǎo)入上游管32的電加熱器34，以及測(cè)定導(dǎo)入上游管32的溫度的溫度計(jì)35。電加熱器34的加熱器部34a卷繞于導(dǎo)入上游管32的外周壁。電加熱器34通過(guò)由加熱器部34a將導(dǎo)入上游管32加熱到規(guī)定溫度(不生成析出物的溫度)，從而對(duì)流通導(dǎo)入上游管32的加熱處理氣體間接地進(jìn)行加熱。電加熱器34的加熱器部34a的溫度由溫度計(jì)35監(jiān)控。

所述析出物除去部36具有通過(guò)噴射出噴射水而除去析出物的噴射噴嘴37，以及調(diào)整來(lái)自噴射噴嘴37的噴射水的噴射的手動(dòng)式或電磁式的開閉閥38。噴射噴嘴37設(shè)置在導(dǎo)入下游管31的另一端部(與連接于氣體導(dǎo)入部25側(cè)相反側(cè)的端部)。噴射噴嘴37的噴射口37a朝向?qū)胂掠喂?1的一端部(導(dǎo)入下游管31的長(zhǎng)邊方向)設(shè)置，噴射水從噴射口37a朝向?qū)胂掠喂?1的內(nèi)周壁和氣體導(dǎo)入部25的開口噴射。

接著，參照?qǐng)D3說(shuō)明氣體水洗裝置10的控制系統(tǒng)。

所述氣體水洗裝置10的動(dòng)作由作為除去控制部的控制器40控制。所述控制器40是進(jìn)行氣體水洗裝置10的控制的主要部分，例如由cpu、存儲(chǔ)器、硬盤等存儲(chǔ)裝置等構(gòu)成，根據(jù)存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的控制程序(或數(shù)據(jù)表)進(jìn)行控制處理。

控制器40中分別輸入有：借助導(dǎo)入上游管32的外周壁檢測(cè)加熱處理氣體的溫度的溫度計(jì)35的檢測(cè)數(shù)據(jù)；飛灰加熱處理設(shè)備1的各裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)；以及作業(yè)人員根據(jù)從后述的檢修口27的目視狀態(tài)而操作的操作盤41的輸入數(shù)據(jù)。而且，控制器40根據(jù)溫度計(jì)35的檢測(cè)數(shù)據(jù)，借助 電加熱器34的操作部34b控制導(dǎo)入上游管32的加熱溫度。此外，根據(jù)操作盤41的輸入信號(hào)，設(shè)定控制器40的計(jì)時(shí)器42，并借助開閉閥操作部39操作開閉閥38，控制從噴射噴嘴37噴射出噴射水的噴射時(shí)間和噴射間隔中的至少一方。

在此，由溫度計(jì)35檢測(cè)出的加熱處理氣體的溫度和流量會(huì)根據(jù)飛灰加熱處理設(shè)備1的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)而變動(dòng)，所以根據(jù)溫度計(jì)35的檢測(cè)數(shù)據(jù)，控制電加熱器34的加熱溫度。

此外，作業(yè)人員在塔主體20a的下端部側(cè)從與氣體導(dǎo)入部25的開口相對(duì)設(shè)置的檢修口27(圖2)，目視確認(rèn)氣體導(dǎo)入部25的開口或?qū)胂掠喂?1的內(nèi)壁面上附著的析出物的析出量(析出狀態(tài))，進(jìn)而在規(guī)定時(shí)間后再次進(jìn)行確認(rèn)從而檢測(cè)成長(zhǎng)狀態(tài)。通過(guò)由操作盤41輸入其成長(zhǎng)狀態(tài)，由控制器40設(shè)定計(jì)時(shí)器42。而后，每隔規(guī)定時(shí)間借助開閉閥操作部39操作開閉閥38，從而控制從噴射噴嘴37噴射的噴射水的噴射時(shí)間和噴射間隔中的至少一方。

如上所述，在氣體水洗裝置10中，由于向水洗塔20導(dǎo)入在堵塞防止裝置30中加熱過(guò)的狀態(tài)的加熱處理氣體，所以在水洗塔20的氣體導(dǎo)入部25中，可以抑制水溶性成分從加熱處理氣體析出。而且，即使水溶性成分在水洗塔20的氣體導(dǎo)入部25中從加熱處理氣體析出時(shí)，析出的所述水溶性成分也可以由析出物除去部36除去。因此，能夠防止由于從加熱處理氣體析出的水溶性成分而堵塞水洗塔20的氣體導(dǎo)入部25。

另外，在本實(shí)施方式中，由氣體水洗裝置10水洗的廢氣是從飛灰加熱處理設(shè)備1的加熱器4所處理的飛灰中生成的加熱處理氣體，但是不限于此，只要是水溶性成分因溫度降低而析出的廢氣即可。

此外，在本實(shí)施方式中，對(duì)加熱處理氣體進(jìn)行加熱的加熱部33由加熱導(dǎo)入上游管32的電加熱器34構(gòu)成，但是不限于此。例如，也可以是在導(dǎo)入上游管32的外周覆蓋外管的封套結(jié)構(gòu)(雙層管)，通過(guò)流通高溫蒸汽、高溫氣體、加熱流體等而借助導(dǎo)入上游管32對(duì)加熱處理氣體進(jìn)行加熱。由此，只要構(gòu)成為能以加熱處理氣體所含的水溶性成分的析出物不析出的規(guī)定溫度進(jìn)行加熱即可。

而且，在本實(shí)施方式中，由噴射出噴射水的噴射噴嘴37構(gòu)成用于除去水溶性成分的析出物的析出物除去部36，但是不限于此。只要構(gòu)成為能除去氣體導(dǎo)入部25或?qū)胂掠喂?1上析出并附著固化的析出物即可。例如也可以由機(jī)械式的除去裝置構(gòu)成，該除去裝置將孔鋸狀的刀具旋轉(zhuǎn)推出以削掉析出物，并將析出物從導(dǎo)入下游管31借助氣體導(dǎo)入部25的開口推出到塔主體20a內(nèi)。

而且，在本實(shí)施方式中，根據(jù)從檢修口27目視的水溶性成分的析出物的析出量(析出狀態(tài))，手動(dòng)進(jìn)行從噴射噴嘴37噴射的噴射水的噴射時(shí)間和噴射間隔的控制，但是不限于此，例如圖3所示，也可以由控制器40根據(jù)氣體導(dǎo)入部25的開口或?qū)胂掠喂?1的內(nèi)壁面的圖像或動(dòng)畫，計(jì)算水溶性成分的析出物的析出量(析出狀態(tài))，并根據(jù)所述計(jì)算結(jié)果自動(dòng)進(jìn)行上述控制，其中，所述圖像或動(dòng)畫由設(shè)置在氣體導(dǎo)入部25附近的帶照明器的相機(jī)等攝像裝置45制作。此外，還可以由控制器40對(duì)設(shè)置在導(dǎo)入上游管32的入口部的第一壓力計(jì)46的壓力(導(dǎo)入上游管32的入口部的壓力)與設(shè)置在水洗塔20的塔內(nèi)下部的第二壓力計(jì)47的壓力(水洗塔20的塔內(nèi)下部的壓力)進(jìn)行比較，并根據(jù)該比較結(jié)果自動(dòng)進(jìn)行所述控制。而且，還可以由控制器40根據(jù)來(lái)自傳感器(間接式檢測(cè)器)48的檢測(cè)信號(hào)，計(jì)算水溶性成分的析出物的析出量(析出狀態(tài))，并根據(jù)該計(jì)算結(jié)果自動(dòng)進(jìn)行所述控制，其中，所述傳感器48檢測(cè)氣體導(dǎo)入部25的開口或?qū)胂掠喂?1的內(nèi)壁面上照射的激光、超聲波等。