1.一種用于去除固體污染物并且用于將液體預(yù)分配到具有蒸汽和液體的同時(shí)向下流動的催化反應(yīng)器容器中的精細(xì)分配塔盤的方法，所述方法包括以下步驟：
在所述催化反應(yīng)器容器的內(nèi)部提供垢收集和預(yù)分配塔盤；
使所述液體穿過所述垢收集和預(yù)分配塔盤上的垢收集區(qū)域以便安置和沉積所述固體污染物；
使來自所述垢收集區(qū)域的所述液體朝著位于所述垢收集和預(yù)分配塔盤的緣邊處的圍堰傳送；
使所述液體通過孔傳到所述精細(xì)分配塔盤；以及
使蒸汽從所述垢收集和預(yù)分配塔盤上方的空間通過所述垢收集區(qū)域和所述容器的壁之間的流動區(qū)域并且通過所述圍堰和所述容器的壁之間的流動區(qū)域傳到所述精細(xì)分配塔盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述垢收集和預(yù)分配塔盤位于所述催化反應(yīng)器的上頭部的內(nèi)部以節(jié)省反應(yīng)器高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述垢收集和預(yù)分配塔盤整體地或部分地位于所述催化反應(yīng)器的上切線上方以節(jié)省反應(yīng)器高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中入口通道被提供并且用于將進(jìn)入所述反應(yīng)器的頂部的處理流向下引導(dǎo)到所述垢收集和預(yù)分配塔盤。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中沖擊板用于減小進(jìn)入所述垢收集區(qū)域之前的所述入口通道中的所述處理流的豎直流動速度分量。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述處理流被引導(dǎo)以從所述入口通道流動通過穿孔壁或籃狀件以減小進(jìn)入所述垢收集區(qū)域之前的所述處理流的水平流動速度分量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述處理流在朝著所述圍堰徑向向外的大體流動方向上被引導(dǎo)通過所述垢收集區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中液體凹槽設(shè)在所述垢收集區(qū)域和所述圍堰之間并且用于平坦化液位差以便獲得所述孔的每一個(gè)上方的相等液體高度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述孔設(shè)在所述圍堰中。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述孔是矩形槽。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述垢收集和預(yù)分配塔盤是非穿孔的。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中可滲透直立壁形成所述垢收集區(qū)域并且其中所述液體在其流動通過所述可滲透直立壁時(shí)被過濾。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述垢收集區(qū)域包括流動限制，如擋板、格柵、絲網(wǎng)、顆粒的填充床或諸如無規(guī)則或結(jié)構(gòu)化填料的填料，所述流動限制提供具有低流動速度和低流動紊流的平靜流動區(qū)域以允許所述固體污染物安置和沉積在所述垢收集區(qū)域中。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述垢收集和預(yù)分配塔盤具有多邊形并且其中所述圍堰垂直于所述精細(xì)分配塔盤上的分配單元之間的通路，以便允許沿著所述通路的從所述孔的液體離開方向。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中液體引導(dǎo)板用于將液體從所述孔引導(dǎo)并向下進(jìn)入所述精細(xì)分配塔盤上的液體池中。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述垢收集和預(yù)分配塔盤位于兩個(gè)催化劑床之間的反應(yīng)器部分中。
17.一種具有蒸汽和液體的同時(shí)向下流動的催化反應(yīng)器容器，其包括用于去除固體污染物并且用于將液體預(yù)分配到精細(xì)分配塔盤的垢收集和預(yù)分配設(shè)備，所述設(shè)備包括：
位于所述精細(xì)分配塔盤上方的水平塔盤；
所述水平塔盤上的垢收集區(qū)域，其中所述固體污染物可以安置和沉積在所述垢收集區(qū)域處；
在所述水平塔盤的緣邊處的圍堰，所述圍堰在所述塔盤上方向上延伸，以便建立液位和在所述圍堰上游的液體凹槽；
在所述反應(yīng)器的壁和所述圍堰之間的用于所述蒸汽的通道，用于使蒸汽從所述水平塔盤上方的空間傳到所述精細(xì)分配塔盤；以及
孔，用于使液體從所述液體凹槽傳到所述精細(xì)分配塔盤。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其具有彎曲頭部并且所述水平塔盤在所述反應(yīng)器容器的上切線上方位于所述彎曲頭部中以節(jié)省反應(yīng)器高度。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的反應(yīng)器，其中入口通道被提供并且用于將進(jìn)入所述反應(yīng)器的頂部的處理流向下引導(dǎo)到所述水平塔盤。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的反應(yīng)器，其中沖擊板被提供并且用于減小進(jìn)入所述垢收集區(qū)域之前的所述入口通道中的所述處理流的豎直流動速度分量。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的反應(yīng)器，其中提供穿孔壁或籃狀件，所述處理流被引導(dǎo)通過所述穿孔壁或籃狀件以減小進(jìn)入所述垢收集區(qū)域之前的所述處理流的水平流動速度分量。
22.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中所述處理流在朝著所述圍堰徑向向外的大體流動方向上被引導(dǎo)通過所述垢收集區(qū)域。
23.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中所述孔設(shè)在所述圍堰中。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的反應(yīng)器，其中所述孔是矩形槽。
25.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中所述水平塔盤是非穿孔的。
26.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中所述垢收集區(qū)域包括從所述水平塔盤向上延伸的可滲透壁，其中所述液體通過可滲透壁被過濾并且其中所述固體污染物在所述可滲透壁的上游沉積。
27.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中所述垢收集區(qū)域包括流動限制，如擋板、格柵、絲網(wǎng)、顆粒的填充床或諸如無規(guī)則或結(jié)構(gòu)化填料的填料，所述流動限制提供具有低流動速度和低流動紊流的平靜流動區(qū)域以允許所述固體污染物安置和沉積在所述垢收集區(qū)域中。
28.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中所述水平塔盤具有多邊形并且其中所述圍堰垂直于所述精細(xì)分配塔盤上的分配單元之間的通路，以便允許沿著所述通路的從所述孔的液體離開方向。
29.根據(jù)權(quán)利要求17所述的反應(yīng)器，其中液體引導(dǎo)板用于將液體從所述孔引導(dǎo)并向下進(jìn)入所述精細(xì)分配塔盤上的液體池中。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的反應(yīng)器，其中所述液體引導(dǎo)板是平面和豎直板。