本實用新型涉及一種流動池。

背景技術：

這種類型的流動池從WO2009/071078A1中得出，在所述流動池中，通道與可經由該通道排空的存儲腔室連接。存儲腔室通過其余平坦的、限定通道區(qū)域的膜的深沖區(qū)域形成。所述膜由鋁層構成，所述鋁層具有朝向存儲腔室內側的塑料覆層。在存儲腔室和通道區(qū)域之外以及在設定斷裂部位處，膜與基體的平坦的表面或覆蓋其的另一膜粘接和/或焊接。

在基體的平坦的表面與膜的塑料覆層之間的通過焊接和/或粘接形成的設定斷裂部位僅能夠困難地在其面延伸中配量。波動因素主要由膜的塑料覆層在焊接時的性能、通過焊接工具產生的溫度的分布、可實現的大約1mm的焊軌寬度、焊接工具的定位精度進而設定斷裂部位距存儲區(qū)域的間距的可復現性造成。相應地，用于使設定斷裂部位斷裂所需的力不期望地波動。

技術實現要素：

本實用新型的目的是：提供一種新型的開始所述類型的流動池，其具有通道區(qū)域，所述通道區(qū)域具有設定斷裂部位，其中，設定斷裂部位的斷裂力處于較窄的公差范圍內。

根據本實用新型，所述目的通過流動池實現：所述流動池具有至少一個存儲區(qū)域，所述存儲區(qū)域與通道連接，所述通道用于將流體從所述存儲區(qū)域中運出、將所述流體運輸到所述存儲區(qū)域中和/或將所述流體運輸經過所述存儲區(qū)域，其中，所述通道具有通道區(qū)域，所述通 道區(qū)域通過基體和連接于所述基體的遮蓋膜限定，在所述通道區(qū)域中，所述通道封閉并且在設定斷裂部位處在所述遮蓋膜偏轉的情況下能夠打開，其特征在于，遮蓋膜遮蓋基體中的構成通道區(qū)域的凹部，并且在該凹部中設置有隔斷壁，所述隔斷壁封閉通道并且與基體一件式地連接，設定斷裂部位通過在遮蓋膜與隔斷壁的朝向該遮蓋膜的邊緣區(qū)段之間的可斷裂的連接區(qū)域構成，并且對于連接區(qū)域的面延伸而言，隔斷壁的邊緣面的尺寸是決定性的，所述邊緣面在邊緣區(qū)段中構成并且平行于遮蓋膜。

所述流動池用于分解和/或合成物質。

通過形成設定斷裂部位的連接區(qū)域以根據本實用新型的方式集中到隔斷壁的靠近膜的邊緣面上，連接區(qū)域具有限定的、與焊接條件無關的延伸和位置。由此實現本實用新型的有益的技術效果：使設定斷裂部位斷裂所需力的波動相應小。

如下面闡述的那樣，所提出的邊緣面可以接近垂直于流體的流動方向的線。

所述隔斷壁構成為隔斷接片，所述隔斷接片橫穿所述凹部，在所述隔斷接片的端部處以及在與所述邊緣面對置的邊緣區(qū)段處與基體連接。

所述隔斷壁的厚度向著所述遮蓋膜減小，并且所述隔斷壁的橫截面構成為三角形或部分圓形的。所述隔斷壁具有朝向遮蓋膜的壓平部。

所述隔斷壁的平行于遮蓋膜的所述邊緣面具有相反于流動方向凸起的凸出部。

所述通道的橫截面在具有所述設定斷裂部位的通道區(qū)域中相對沿流動方向鄰接該通道區(qū)域的各通道區(qū)域被擴寬或收窄。優(yōu)選地，通道能夠通過沿流動方向施加在設定斷裂部位上的流體壓力或通過遮蓋膜的機械的和/或氣動的偏轉來打開。當流體壓力例如可以通過擠壓具有柔性膜壁的存儲腔室來建立時，為了機械和/或氣動地使設定斷裂部位斷裂可以使用設置為用于流動池的工作設備。所述通道能夠通過工作設備打開。

不言而喻地，遮蓋膜在隔斷壁的邊緣面處與隔斷壁粘接和/或焊接。替選地或附加地，能夠通過可動的、與流動池連接的、作用到膜上的夾緊元件來建立可松開的夾緊連接。

優(yōu)選地，隔斷壁隨著注塑基體在一個工序中制成。

在本實用新型的一種特別優(yōu)選的實施方式中，隔斷壁的邊緣面與構成在基體中的凹部的開口邊緣齊平。因此能夠確保：隔斷壁借助其朝向用于覆蓋的膜的邊緣區(qū)段伸展至膜處，并且膜能夠在一個工序中與基體以及與隔斷壁的邊緣區(qū)段粘接和/或焊接。

所述凹部朝基體的平坦面敞開，所述基體是板狀的。在垂直于所述平坦面的投影中，所述設定斷裂部位位于所述存儲區(qū)域的投影區(qū)域中。

所述通道具有多個設定斷裂部位，在兩個設定斷裂部位之間封入干燥劑。

所述存儲區(qū)域通過所述基體一側的限界膜來限界、經由通道區(qū)段與所述通道區(qū)域連接，并且對所述通道區(qū)域限界的遮蓋膜設置在所述基體的另一側上。所述限界膜是深沖的。

對所述存儲區(qū)域限界的限界膜是鋁-塑料疊層體，所述鋁-塑料疊層體具有朝向所述存儲區(qū)域的塑料層。

基體至少在一側上具有表面結構部，所述表面結構部使與相關的遮蓋膜以及限界膜的連接簡化。所述表面結構是溝槽。

對通道區(qū)域限界的遮蓋膜是必要時通過鋁-塑料疊層體遮蓋的塑料膜。

對所述通道區(qū)域限界的遮蓋膜構成為一個連續(xù)對多個存儲區(qū)域限界的膜。

當隔斷壁可以在隔斷相應徑向的流體流動的情況下環(huán)形構造時，在該優(yōu)選的實施方式中，隔斷壁構造成隔斷接片，所述隔斷接片橫穿基體中的凹部并且在該隔斷接片的端部處與基體連接。

優(yōu)選地，隔斷壁的厚度向著用于覆蓋的膜減小，尤其使得膜僅線形地貼靠隔斷壁的邊緣區(qū)段。

相應地，隔斷壁的橫截面可以構造成三角形或部分圓形。在另一實施方式中，隔斷壁的邊緣區(qū)段借助壓平部貼靠膜。壓平部在流動方向上的長度進而設定斷裂部位在該方向上的長度優(yōu)選小于0.5mm、尤其小于0.1mm、必要時小于0.05mm。

凹部優(yōu)選朝優(yōu)選板狀的基體的平坦的面敞開，并且遮蓋凹部的膜優(yōu)選是平坦的膜。

在本實用新型的另一實施方式中，通道的橫截面在具有設定斷裂部位的通道區(qū)域中相對鄰接于該通道區(qū)域的各通道區(qū)域被擴寬或收窄。相應地，所述隔斷接片能夠延長或縮短。因為設定斷裂部位的斷裂力與在膜與隔斷接片之間的連接區(qū)域的幾何形狀相關，所以斷裂力能夠通過適當地選擇擴寬或收窄來調節(jié)。優(yōu)選地，斷裂力通過壓縮存儲區(qū)域的機械執(zhí)行器而低于20N、優(yōu)選低于10N、必要情況下低于5N。

優(yōu)選地，在垂直于基體的板平面的投影中，設定斷裂部位位于存儲腔室的投影區(qū)域中。在這種節(jié)約空間的實施方式中，必要時，存儲腔室位于板狀的基體的一側，而構成通道區(qū)域的凹部設置在板的另一側。

尤其在最后的實施方式中，存儲腔室由膜構成，所述膜具有鋁層，所述鋁層具有朝向存儲腔室內側的塑料覆層，塑料覆層面狀地通過焊接或粘接施設到基體上，并且在板狀的基體與遮蓋膜之間由塑料構成、優(yōu)選由與基體相同的塑料構成設定斷裂部位。為了由相同的塑料材料制造設定斷裂部位，例如考慮熱焊接、超聲波焊接或激光焊接。

在本實用新型的另一設計方案中，通道可以具有多個設定斷裂部位并且尤其將流動池的一個功能元件、例如干燥劑連接在一個設定斷裂部位的下游。

此外，干燥劑可以封入在設定斷裂部位之間。

尤其當存儲腔室和與存儲腔室連接的通道區(qū)域這兩者都設置在板形的地基的一側上時，對存儲腔室限界的膜能夠與對通道區(qū)域限界的膜相同。

附圖說明

下文根據實施例和所附的、涉及所述實施例的附圖來詳細闡述本實用新型。附圖中：

圖1示出具有多個根據本實用新型的流體運輸通道的流動池的前視圖；

圖2示出圖1所示流動池的后視圖，其沒有遮蓋膜；

圖3示出圖1所示流動池的一個運輸通道的具有設定斷裂部位的通道區(qū)域，其部分地沒有遮蓋膜；

圖4示出可應用在流動池中的流體存儲器的不同的實施例，其具有與所述流體存儲器連接的根據本實用新型的運輸通道；

圖5示出根據本實用新型的運輸通道中的設定斷裂部位的構造的三個另外的實施例；

圖6a示出具有兩個設定斷裂部位的運輸通道；

圖6b示出具有環(huán)形的設定斷裂部位的運輸通道；

圖7示出根據本實用新型的運輸通道和與其毗鄰設置的干燥劑；

圖8示出具有設定斷裂部位的運輸通道，這些設定斷裂部位能夠通過外部的促動器而斷裂；

圖9示出根據本實用新型的與兩個存儲腔室連接的運輸通道；

圖10示出用于填充流動池的存儲空間的根據本實用新型的運輸通道；

圖11示出設置為用于通過根據本實用新型的運輸通道來部分地填充的存儲器。

具體實施方式

圖1示出的微流體的流動池包括基本上板狀的基體1，所述基體一件式地以注塑方法由塑料例如由PP、PE、COC、PC、PMMA制成或由這些塑料構成的混合物制成，其中，所述流動池可連接到(未示出的)工作設備上。

基體在其圖1中可見的一側上在其板面的一部分上與限界膜2粘接和/或焊接。在基體1的背向該側的一側上，整個板面與平坦的遮蓋 膜3連接，該平坦的遮蓋膜遮蓋和封閉基體1中的朝該板面敞開的凹部。

限界膜2的深沖的區(qū)域在所示出的實例中構成用于容納試劑液體的三個存儲腔室4、5和6。限界膜2由鋁-塑料疊層體構成，所述鋁-塑料疊層體的指向外部的鋁層形成用于存儲腔室中的用于試劑液體的蒸汽隔斷部。

遮蓋膜3在所示出的實例中由與基體1相同的塑料構成、但是必要時也由鋁-塑料疊層體構成。

如圖2所示，存儲腔室4經由通道7能夠與用于容納要研究的試樣物質的腔室10連接。試樣腔室10自己經由通道11和用于研究試樣物質的反應或檢測區(qū)域12而與廢料腔室13連接。存儲腔室5和6能夠經由通道8和9而與通道11連接。

通道7至9分別具有一個在圖3中分開示出的、擴寬的通道區(qū)域14，在所述擴寬的通道區(qū)域中，通道沿穿流方向被封閉，并且形成可打開的設定斷裂部位。

形成相應的通道區(qū)域14的并且對通道橫截面大小而言重要的凹部15由隔斷接片16橫穿，所述隔斷接片在所示出的實例中具有三角形的橫截面。隔斷接片16的朝向遮蓋膜3的邊緣區(qū)段17與基體1的與凹部15毗鄰的平坦的板面18對齊并且與遮蓋膜3連接。與基體1一體連接的隔斷接片16以該方式完全阻斷相應的通道。

與基體1粘接和/或焊接的遮蓋膜3在邊緣區(qū)段17的區(qū)域中也與隔斷接片16連接，這個連接構成可斷裂的設定斷裂部位。在施加流體壓力時，在隔斷接片16與遮蓋膜3之間的連接在遮蓋膜3偏轉的情況下斷裂，其中，所述流體壓力能夠通過將限界膜2的深沖的區(qū)域壓合和擠壓相關的存儲腔室4、5或6來產生。

隔斷接片16的邊緣區(qū)段17形成尺寸受限的連接區(qū)域，所述連接區(qū)域能夠實現可復現的封閉強度并且由此能夠實現設定斷裂部位在確定的流體壓力下的可靠斷裂。邊緣區(qū)段17的長度優(yōu)選<0.5mm、尤其<0.1mm、必要時甚至<0.05mm。

在所示出的實例中，遮蓋膜3與隔斷接片16粘接和/或焊接。附加地或替選地，如下文描述的那樣，也考慮在隔斷接片16與遮蓋膜3之間的夾緊連接。

為了簡化，在此不描述圖1和2所示流動池的其它細節(jié)。不言而喻地：具有如圖1和2的流動池所具有的多個通道那樣的通道的流動池也可以與圖1和2所示流動池完全不同地構成并且在極端情況下例如可以具有僅作為唯一的功能部件的這種通道，其中圖1和2的流動池具有復數個所述類型的通道。

圖4部分地示出具有存儲腔室19和通道20的流動池，所述通道在隔斷接片16處具有設定斷裂部位。存儲腔室19通過限界膜2限界，所述膜與板狀的基體1在該基體的一側上粘接和/或焊接。遮蓋膜3在對通道20限界的情況下封閉基體1中的與存儲腔室19連接的通道凹部15，所述遮蓋膜與基體1在該基體另一側上粘接和/或焊接。

根據圖4a，其余未被示出的工作設備的執(zhí)行器沖頭22的尺寸與深沖區(qū)域21相比構造得更狹窄，使得所述執(zhí)行器沖頭在將流體從存儲腔室19中壓出時側向受限地折彎并且由此可以受控地構建用于斷開設定斷裂部位的壓力，其中，所述執(zhí)行器沖頭作用于限界膜2的構成存儲腔室19的深沖區(qū)域21。

在垂直于基體1的板平面的投影中，通道20中的隔斷接片16處于存儲腔室19的投影區(qū)域內部。存儲器和設定斷裂部位由此能夠節(jié)約空間地安裝在流動池的狹窄的區(qū)域中。

在圖4b的實施例中，在限界膜2與基體1之間的存儲腔室19不僅通過限界膜2的深沖區(qū)域21構成，而是還通過基體中的凹部24構成。執(zhí)行器沖頭22的幾何形狀和凹部24選擇成使得可以通過如下方式完全地排空存儲區(qū)域，即，在執(zhí)行器沖頭22的終端位置中，膜21變形成使得該膜盡可能貼靠在凹部24的輪廓上。為了這個目的，執(zhí)行器沖頭22的輪廓相對凹部24的輪廓向回收縮限界膜2的雙倍厚度的數值。

根據圖4c的實施例，基體1中的僅一個這種凹部24對存儲腔室 19的容積是重要的。

圖4d的實施例對應于圖4a的實施例?？蓜拥脑?5能夠通過工作設備或者手動地保持在封閉位置中，或者所述可動的元件通過未示出的機構即側凹或卡鎖件固定但可松開地與基體1連接，使得通過借助執(zhí)行器沖頭22在通道20中構建壓力不可以將隔斷接片16處的設定斷裂部位打開。在元件25從圖4d示出的保持位置收回的位置中，設定斷裂部位可以斷裂。元件25能夠手動地或通過工作設備收回。在應用可動的元件25時，可以棄用設定斷裂部位的焊接或粘接。通過元件25的回縮，將用于打開設定斷裂部位的力需求降低到為了使焊接或粘接連接斷裂所需的值。

圖4e的實施例除了另一膜26之外對應于圖4c的實施例，所述另一膜構成用于從存儲器19到達通道20中的流體的蒸汽隔斷部。膜26例如由鋁構成并且具有集成的、例如壓力敏感粘接層。膜26替選地僅能夠局部地并且不在設定斷裂部位的區(qū)域中與遮蓋膜3連接。

這種隔斷膜26尤其在圖4f的實施例中是有利的，其中存儲腔室19通過貫穿基體1的凹部24構成并且存儲器含物因此直接地與遮蓋膜3接觸。在圖4f的實施例中可以取消將存儲腔室18與凹部15連接的通道區(qū)段23。

圖5示出的實施例除了構成設定斷裂部位的隔斷接片的橫截面造型之外對應于圖4c的實施例。

根據圖5a，隔斷接片16a的橫截面不是三角形的，而是構造成半圓形的。也在這種橫截面中，隔斷接片線形地貼靠在遮蓋膜3上。這種隔斷接片能夠有利地以比橫截面為三角形的阻擋接片更小的噴射壓力在基體1的注塑成型中得以制成。

圖5b示出具有朝向遮蓋膜3的壓平部的隔斷接片16b。壓平部構成隔斷接片16的平坦的、平行于遮蓋膜3的邊緣面，所述邊緣面借助在遮蓋膜3與隔斷接片16之間的連接區(qū)域覆蓋，并且連接區(qū)域構成設定斷裂部位。壓平部的在流動方向上的前部邊棱和后部邊棱限定連接區(qū)域。

在根據圖5a的實施例中，隔斷接片16的平行于遮蓋膜3的邊緣面分別接近橫向于流體流動方向延伸的線。

圖5c示出隔斷接片16c，所述隔斷接片具有朝向(未示出的)遮蓋膜3的邊緣區(qū)段17c，在所述邊緣區(qū)段上構成有相對其余的隔斷接片更狹窄的邊緣接片40，該邊緣接片具有與遮蓋膜3平行的相應狹窄的邊緣面41。有利地，這種階梯式的隔斷接片能夠借助少的工具耗費以注塑方法制造。平行于遮蓋膜3的邊緣面41在邊緣接片40的縱向中央具有通過邊緣接片40的凸起構成的凸出部42。相反于流動方向凸起的凸出部42在設定斷裂部位斷裂時形成初始區(qū)域，所述凸出部促進設定斷裂部位從接片中央向側向的對稱斷裂并且因此有助于用于設定斷裂部位斷裂所需的力的高的可復現性。

圖6a示出大部分對應于圖4c的實施例，然而其中代替僅一個設定斷裂部位，通過兩個隔斷接片16和16’構成兩個設定斷裂部位。通過所述兩個設定斷裂部位能夠實現存儲腔室19的尤其密封的封閉。用于設定斷裂部位斷裂所需的流體壓力可以是不同的并且例如對于16’中的第二設定斷裂部位而言比對于16中的第一設定斷裂部位更高，這例如能夠通過設定斷裂部位的不同寬度來設定。

圖6b示出類似圖4c的實施例，其中與其不同的是：將存儲腔室19與凹部15連接的通道區(qū)段23的出口由環(huán)形的隔斷接片16a包圍。環(huán)形的隔斷接片16a能夠構造成完整環(huán)或一個完整環(huán)的分段。

圖7示出如下實施例，在這些實施例中，在通道20中，干燥劑27設置在設定斷裂部位的下游。有利地，干燥劑能夠通過從存儲腔室19中提取的液體試劑適當溶解。在斷開設定斷裂部位之前，干燥劑適當地與存儲腔室19隔離。

在圖7b的實施例中，一個設定斷裂部位再次設置在干燥劑下游，該設定斷裂部位通過另一隔斷接片16’形成。由此在倉儲期間，環(huán)境影響還更有效地被阻擋遠離干燥劑。

圖8部分地示出流動池的實施例，其中設有分開的用于使通過隔斷接片16構成的設定斷裂部位斷裂的裝置。

在圖8a的實施例中，在基體1中通過凹部28構成薄弱部位，從而借助執(zhí)行器沖頭22將遮蓋膜3經由凸起29沿虛線30偏轉，并且使在16中構成的設定斷裂部位斷裂，或者在斷開設定斷裂部位時能夠擴大通道20的穿通橫截面。特別地能夠通過這樣單獨地斷開設定斷裂部位來以較小的壓力排空存儲器19。此外，在斷開設定斷裂部位時，有利地能夠調節(jié)其流動阻力。

在圖8b的實施例中代替機械的執(zhí)行器沖頭22，構成用于使基體相應變形的壓縮氣體的進入通道31。

在圖8c的實施例中設置有兩個在流動方向上設置在設定斷裂部位上游和在流動方向上設置在該設定斷裂部位下游的薄弱部位，所述薄弱部位用于偏轉遮蓋膜3，其中，形成這些薄弱部位的凹部28和28’經由通道32彼此連接。限界膜2能夠通過執(zhí)行器沖頭22和22’頂壓，從而在凹部28、28’中產生使基體1變形的、使膜30沿虛線30偏轉的氣壓。

根據相同的原理，圖8d的實施例僅借助一個凹部28和一個執(zhí)行器沖頭22工作。

圖9示出具有存儲腔室19和另一存儲腔室19’的實施例。限界膜2的通過執(zhí)行器沖頭的變形引起在腔室19’中構建壓力并且由此引起兩個通過隔斷接片16和16’構成的設定斷裂部位的斷開。來自存儲腔室19的試劑運輸此后則由于設定斷裂部位已經斷開而能夠受控地并且以小的壓力進行。

圖10部分地示出具有僅部分地用流體34填充的存儲腔室33的流動池，該存儲腔室通過構成設定斷裂部位的隔斷接片16隔離。存儲腔室33能夠經由通道20來填充例如要分解的另一流體。在通過根據箭頭35流入的流體構建壓力時，構成在隔斷接片16處的設定斷裂部位斷裂。在進一步構建壓力的情況下，存儲空間33的填充有空氣或氣體的子區(qū)域的氣體首先被壓縮，并且流體到達存儲空間中，所述流體與存儲在那里的流體34混合并且可能情況下能夠與其反應。在填充之后，壓力下降引起壓縮的空氣沿相反于箭頭35的方向排出。當存儲區(qū) 域的鄰接的通道區(qū)域20與壓力源和流體源連接時，這能夠同時借助多個存儲區(qū)域33進行。在填充和構建壓力之后，隔斷接片16防止流體混合物回流。

存儲腔室33的容積部分地通過基體1中的貫通的凹部24并且還有限界膜2的深沖區(qū)域21構成，所述膜由鋁-塑料疊層體構成或僅由塑料構成并且能夠通過注塑制成。

在圖10b的實施例中，存儲腔室33包含干燥劑37。

圖10c的實施例與圖10a的實施例的區(qū)別在于：存儲腔室33的存儲容積僅通過基體1與凸出部36形成。

在圖10d的實施例中沒有這種凸出部。對于存儲腔室33的容積決定性的僅是板狀的基體1中的單側敞開的凹部24。

在圖10e的實施例中，凹部24是貫通的并且在兩側通過限界膜2或遮蓋膜3覆蓋。

在圖11示出的實施例中，存儲室33部分地用流體34填充。管式管路37伸入到該存儲腔室33中，所述管式管路浸入到流體34中。管式管路37與通過隔斷接片16封閉的通道20連接。

經由通道20和管式管路37，在構成在隔斷接片16處的設定斷裂部位斷裂之后，要研究的試樣流體能夠被導入到存儲腔室33中，在那里，試樣流體與形成試劑的流體34接觸。

為了使設定斷裂部位斷裂而施加到試樣流體上的輸送壓力在所述設定斷裂部位斷開之后用于擠壓沿流動方向位于通道20和管式管路37中的隔斷接片16下游的空氣，所述空氣在流體34中向上上升。最后進入到存儲腔室33中的試樣流體用于通過壓縮在流體34的流體鏡面上方的空氣來在存儲腔室33中構建壓力。

因此在輸送壓力降低時，試樣流體和試劑流體34的混合物回流到管式管路37中并且必要時回流到通道20中。通過交替地提高和降低輸送壓力能夠相應地使混合物運動并且通過該運動使該混合物進一步均勻化。

通過進一步降低輸送壓力，最后能夠經由管式管路37和通道20 將混合物導出至流動池的對該混合物繼續(xù)處理的部分，或者所述混合保留在存儲室33中以被分解、例如光學分解。

存儲腔室的相同結構也可以僅用于將設置在存儲腔室中的干燥劑、如圖10b的干燥劑37進行重懸。

通過經由通道20輸送壓縮氣體并且將其在存儲腔室區(qū)域中在流體鏡面上方壓縮的方式，根據圖11的結構僅能夠用于排空存儲腔室33。壓縮氣體隨后能夠將流體34為了輸出而從存儲腔室33中壓出到管式管路37和通道20中。

構成存儲器的膜21可以構造成能彈性變形，使得存儲腔室33的容積能夠通過輸送壓力而擴大，從而能夠處理更大的試樣量。此外，通過容積擴大來降低存儲腔室33中的壓力構建。

圖10b的實施例與圖10a的實施例的區(qū)別在于通入到存儲腔室33中的填充通道38，借助手動或自動的移吸或貫穿填充通道的針頭能夠通過所述填充通道將試劑填充到存儲腔室中。不言而喻地：在這個過程中必須將擠壓的空氣從存儲腔室33中排出。在填充之后，填充通道38可以通過焊接、粘接和/或借助于封閉塞來密封。

在圖11c中示出的實施例中設置有具有隔斷接片16’的第二通道20’。通道20’經由在流體34的流體鏡面上方通入的通孔39而與存儲腔室33連接。

在設置在隔斷接片16、16’上的設定斷裂部位斷裂之后，經由通道20和管式管路37能夠輸送試樣流體，其中，擠壓的空氣能夠通過通孔39和通道20’排出。在存儲腔室33中不構建壓力。通過壓縮氣體能夠將所形成的試樣流體-試劑混合物幾乎無剩余地從存儲腔室33中經由管式管路37和通道20排空，所述壓縮氣體經由通道20’施加到存儲腔室33中的流體鏡面上。

上面描述的流動池中的由鋁-塑料疊層體構成的限界膜2的塑料覆層優(yōu)選由與相應基體1相同的塑料材料構成。

在上面描述的存儲腔室中的流體中，代替液體地也可以僅是空氣或是其它可用于在流動池中進行流體運輸的壓縮氣體。

適宜地，基體尤其在其朝向限界膜2的一側上設有使與限界膜2、遮蓋膜3的連接簡化的表面結構部，例如設有溝槽。溝槽尤其能夠環(huán)繞存儲區(qū)域延伸。溝槽的優(yōu)選的橫截面尺寸為0.1×0.1mm²至1×1mm²。優(yōu)選地構成不超過三個溝槽。在粘接或焊接時，粘膠或限界膜2的熔化的塑料層能夠進入到溝槽中并且與其錨固，這改進膜與基體1的附著。

為了將遮蓋膜3與基體連接，尤其考慮使用激光焊接或熱鍵合，也考慮通過溶劑增強的鍵合。借助所述方法能夠實現具有恒定尺寸和恒定強度的設定斷裂部位的連接區(qū)域。