1.一種除鹽膜，其特征在于，所述除鹽膜依次由微孔濾膜、含碳復合層和微孔濾膜三層組成，所述微孔濾膜的孔徑為10nm～100μm，該微孔濾膜的材質是高分子、金屬或氧化物，所述含碳復合層為含有部分還原的氧化石墨烯、ZnS、NbN與納米氧化鈦。
2.根據(jù)權利要求1所述的除鹽膜，其特征在于，所述除鹽膜的厚度為100nm～100μm。
3.根據(jù)權利要求1所述的的除鹽膜，其特征在于，所述高分子為PP和/或PE材料。
4.根據(jù)權利要求1所述的除鹽膜，其特征在于，所述氧化物為氧化鋁。
5.權利要求1～4任一項所述的除鹽膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)將氧化石墨烯的水溶液、ZnS的水溶液、NbN的水溶液與納米氧化鈦的水溶液均勻混合；
2)以微孔濾膜為基底，采用真空抽濾法使氧化石墨烯、ZnS、NbN和納米氧化鈦的混合溶液在負壓下脫水，進而在微孔濾膜基底上相互堆疊自組裝為含碳復合層；在抽濾過程中將另一層微孔濾膜包覆在含碳復合層之上，構成三明治結構的復合膜；
3)將三明治結構的復合膜在40～80℃條件下干燥4～24h；
4)通過紫外光照射1～5天，利用ZnS/NbN/納米氧化鈦的光催化特性使氧化石墨烯部分還原，最終得到除鹽膜。
6.根據(jù)權利要求5所述的除鹽膜的制備方法，其特征在于，所述氧化石墨烯的水溶液質量體積濃度為5～50mg/L，納米氧化鈦水溶液質量體積濃度為5～50mg/L，ZnS的水溶液質量體積濃度為5～50mg/L，NbN的水溶液質量體積濃度采用10～20mg/L。
7.根據(jù)權利要求5所述的除鹽膜的制備方法，其特征在于，所述氧化石墨烯、納米氧化鈦的質量比為1：0.1～0.2，所述ZnS、納米氧化鈦的質量比為1：0.5～1，NbN、納米氧化鈦的質量比為1：1。
8.權利要求1～4任一項所述的除鹽膜在離子分離方面的應用。