本發(fā)明涉及環(huán)保領域，具體涉及一種復合型廢氣處理機。

背景技術：

廢氣凈化主要是指針對工業(yè)場所產生的工業(yè)廢氣諸如粉塵顆粒物、煙氣煙塵、異味氣體、有毒有害氣體進行治理的工作。常見的廢氣凈化有工廠煙塵廢氣凈化、車間粉塵廢氣凈化、有機廢氣凈化、廢氣異味凈化、酸堿廢氣凈化、化工廢氣凈化等。因此需要一種功能齊全、進化效果好的廢氣處理裝置，如今處理裝置都較為單一，對于許多廢氣的凈化通常達不到預期效果或者根本不達標，不利于環(huán)境保護，特別是一些高溫廢氣，如今的凈化設備在長時間使用下會導致使用壽命短、凈化效果差等問題。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術存在的以上問題，提供一種復合型廢氣處理機，本發(fā)明能夠有效去除廢氣中的顆粒物，并且對廢氣分子進行破壞凈化，效果好、體積小、適用范圍廣。

為實現(xiàn)上述技術目的，達到上述技術效果，本發(fā)明通過以下技術方案實現(xiàn)：

一種復合型廢氣處理機，包括分離本體和凈化本體，所述凈化本體兩端設置有進口和出口，所述凈化本體內部沿進口至出口方向依次設置有低溫等離子電場、紫外線燈管和超聲波霧化組件，所述分離本體的側邊上部設置有進氣接頭和出氣孔，所述出氣孔與凈化本體貫通連接，所述進氣接頭和出氣孔之間的分離本體內部設置有分隔導流部，所述分隔導流部包括左導流板、右導流板和分隔板，所述左導流板頂部朝向進氣接頭一側傾斜并且固定在分離本體頂部，所述右導流板頂部朝向出氣孔一側傾斜并且固定在分離本體頂部，所述左導流板底部與右導流板底部均固定在分隔板頂部上，所述左導流板表面和右導流板表面均設置有制冷片，所述超聲波霧化設備包括霧化箱體，所述霧化箱體內側底部設置有霧化板，所述霧化板上方的霧化箱體上設置有導流板，所述導流板朝向相鄰一側的霧化箱體側壁，所述導流板與該霧化箱體側壁之間預留有通道并與霧化箱體形成入風導流空間，所述入風導流空間相對應的霧化箱體外側頂部上設置有風機，所述霧化箱體頂部上還開設有出霧口。

進一步的，所述分隔導流部下方的分離本體內部設置有儲水槽，所述儲水槽通過高壓水泵與霧化噴嘴連接，所述霧化噴嘴設置在進氣接頭內。

進一步的，所述分隔導流部與進口之間還設置有阻擋網，所述阻擋網底面上設置有導流槽。

進一步的，所述霧化噴嘴設置在進氣接頭的中心位置，所述霧化噴嘴朝向與廢氣進氣方向相對設置。

進一步的，所述制冷片表面設置有散熱風扇，所述制冷片的熱端與散熱風扇抵接，所述散熱風扇相對應的分離本體表面設置有出風口。

進一步的，所述凈化本體內部兩側上還均設置有均流網，所述低溫等離子電場與相鄰均流網之間還設置有過濾網，所述過濾網的材質為活性炭過濾棉。

本發(fā)明的有益效果是:

1、本裝置先采用噴霧的方式將廢氣中的顆粒物截留，這樣能夠避免大量的固體顆粒進入凈化本體內，避免附著在凈化本體內的凈化組件上，導致凈化效果差等問題產生，并且去除這些顆粒物后，能夠有效提高低溫等離子電場和紫外線燈管的凈化效果，提高凈化質量。

2、通過阻擋網的設置，能夠將通過的廢氣中的水份截留，并沿其表面導流槽流回儲水槽內，避免過多的水汽進入凈化本體內，有效降低水汽對內部組件的損壞以及影響凈化質量。

3、廢氣經低溫等離子高壓產生高能電子破壞分子結構，如聚合狀態(tài)，并且空氣中的氧氣、水分子等經過高能區(qū)域，被激發(fā)成為強氧化基團臭氧離子、羥基等參與深度氧化反應，UV紫外線雙譜燈管對廢氣分子鍵進行照射，破解分子鍵中苯環(huán)內的大π鍵等；同時產生臭氧氧化污染物。

4、超聲波霧化組件能夠進一步的凈化廢氣，將前段工序無法完全處理干凈的異味或者微量雜質通過將液體霧化后再與處理后的廢氣結合，有效保障了凈化品質。

5、通過左導流板與右導流板設置，使得具有導向功能，廢氣接入流動更加順暢，減小內部流動阻力，并且通過制冷片設置，能夠將左導流板與右導流板進行冷卻，當廢氣與水汽一并進入撞擊左導流板后，能夠快速的實現(xiàn)對廢氣和水汽的降溫，保證液體在循環(huán)使用時不會被加熱，能夠完全適合高溫煙氣的凈化。

上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本發(fā)明的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。本發(fā)明的具體實施方式由以下實施例及其附圖詳細給出。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例技術中的技術方案，下面將對實施例技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明的整體結構示意圖；

圖2是本發(fā)明的分離本體部分結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

參照圖1與圖2所示，一種復合型廢氣處理機，包括分離本體1和凈化本體2，凈化本體兩端設置有進口和出口，凈化本體內部沿進口至出口方向依次設置有低溫等離子電場3、紫外線燈管4和超聲波霧化組件5，分離本體的側邊上部設置有進氣接頭6和出氣孔，出氣孔與凈化本體貫通連接，進氣接頭和出氣孔之間的分離本體內部設置有分隔導流部7，分隔導流部包括左導流板8、右導流板9和分隔板10，左導流板頂部朝向進氣接頭一側傾斜并且固定在分離本體頂部，右導流板頂部朝向出氣孔一側傾斜并且固定在分離本體頂部，左導流板底部與右導流板底部均固定在分隔板頂部上，即截面為Y型結構，使得廢氣進入后具有良好的導向作用，流動順暢，能夠有效降低裝置內部的阻擋性，左導流板表面和右導流板表面均設置有制冷片11，能夠將左導流板、右導流板制冷，以便于將撞擊到底面上的廢氣進行熱傳遞，實現(xiàn)良好的降溫效果；

使用時，廢氣從分離本體的進氣接頭被接入，然后撞擊到左導流板表面，左導流板因制冷片的制冷而溫度變低，在高溫的廢氣與其接觸后能夠快速的降溫，然后從分隔板底部流向右導流板，也與其發(fā)生撞擊，因此實現(xiàn)雙重降溫，基本能夠將高溫氣體降溫到適合凈化的溫度，然后通過均流網設置，廢氣均勻的進入凈化本體內部，充分的充斥在低溫等離子電場內，通過低溫等離子電場高壓產生高能電子而被破壞分子結構，然后被紫外線燈管照射凈化廢氣，最終排出。本裝置能夠適合大部分種類的廢氣使用，效果好速度快，并且能夠適應高溫廢氣，提高了適用范圍，有效保證使用壽命。

超聲波霧化設備包括霧化箱體12，霧化箱體內側底部設置有霧化板13，霧化板上方的霧化箱體上設置有導流板14，導流板朝向相鄰一側的霧化箱體側壁，導流板與該霧化箱體側壁之間預留有通道并與霧化箱體形成入風導流空間，入風導流空間相對應的霧化箱體外側頂部上設置有風機15，霧化箱體頂部上還開設有出霧口。超聲波霧化設備通過霧化液箱供液，液體通過霧化板霧化，然后風機和導流板的配合將霧化的液體從霧化箱體內部吹出，最后霧化液體與廢氣充分融合，使廢氣得到凈化，超聲波霧化設備可以將前序凈化中未完全過濾干凈廢氣加強凈化，例如廢氣中異味無法在UV光解燈管部分完全去除時，則可以加入除臭液，霧化液體能與廢氣充分融合，使得廢氣中異味達標。當廢氣中異味達標而顆粒物有毒物質等不達標時，可以加入殺菌液體等，通過超聲波霧化過程中將釋放大量的負離子和殺菌液體,將空氣中漂浮的煙霧、粉塵等產生靜電式反應，使其沉淀，同時還能有效去除甲醛、一氧化碳、細菌等有害物質，使空氣得到凈化，保證凈化質量。

分隔導流部下方的分離本體內部設置有儲水槽16，儲水槽通過高壓水泵16與霧化噴嘴17連接，霧化噴嘴設置在進氣接頭內。廢氣從分離本體的進氣接頭被接入，霧化噴嘴將儲水槽內的液體以水霧狀形態(tài)噴出，此處液體可以是水，也可以是調試的藥液，廢氣與水霧接觸后，廢氣內部的顆粒會與水霧中的水珠接觸而被截留，然后撞擊到分隔導流部后水珠會沿其流入儲水槽內，而廢氣則繞過分隔導流部進入凈化本體內。

分隔導流部與進口之間還設置有阻擋網18，阻擋網底面上設置有導流槽，由于霧氣與廢氣結合后無法再進入進口前完全分離，因此通過阻擋網的設置，能夠使霧氣中的水珠撞擊到阻擋網，從而被截留下來，然后通過導流槽流回儲水槽。

霧化噴嘴設置在進氣接頭的中心位置，噴出的水霧能夠均勻的四散到整個進氣接頭中，從而保證水霧與廢氣的接觸面，霧化噴嘴朝向與廢氣進氣方向相對設置，這樣水霧與廢氣形成對流沖擊，廢氣中的顆粒物會因與水霧中的水珠撞擊而被融合，最終因重力實現(xiàn)與廢氣分離的效果。使得廢氣中顆粒物被截留，避免在凈化本體內堆積，造成性能的下降和壽命的縮短。

制冷片表面設置有散熱風扇19，制冷片的熱端與散熱風扇抵接，散熱風扇相對應的分離本體表面設置有出風口。

凈化本體內部兩側上還均設置有均流網20，低溫等離子電場與相鄰均流網之間還設置有過濾網21，過濾網的材質為活性炭過濾棉。

對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業(yè)技術人員能夠實現(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領域的專業(yè)技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。