本發(fā)明涉及一種大米拋光機(jī)的拋光輥，具體的說是一種節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點拋光輥。

背景技術(shù)：

由于表面亮度越高的大米，其保藏時間越長，且越容易被消費(fèi)者所青睞，所以能夠?qū)Υ竺妆砻孢M(jìn)行研磨拋光的大米拋光機(jī)在糧機(jī)行業(yè)中應(yīng)用非常廣泛，市場需求量很大。在將大米放入到大米拋光機(jī)內(nèi)進(jìn)行研磨拋光時，大米需要與大米拋光機(jī)中的拋光輥本體進(jìn)行接觸，拋光輥本體在轉(zhuǎn)動的過程中實現(xiàn)對大米的研磨拋光。當(dāng)拋光輥本體在對大米進(jìn)行研磨拋光時，由于大米自身的硬度較低，故大米在經(jīng)過拋光輥本體研磨拋光后，不可避免的會產(chǎn)生一定量的碎米。

在現(xiàn)有技術(shù)中，考慮到碎米的價格和整米的價格差異較大(碎米價格僅為整米價格的一半)，且大米自身的硬度較低的情況，因此，為了降低碎米率，人們通常會采用盡量控制(減少)大米在研磨拋光時所受到的作用力，盡量控制(減少)大米在拋光室內(nèi)的翻滾次數(shù)，盡量控制(減少)大米在拋光室內(nèi)的時間的技術(shù)手段。

因此，在糧機(jī)行業(yè)中，鑒于拋光板的外壁越光滑，大米在研磨拋光時所受到的作用力越小，大米在拋光室內(nèi)的翻滾次數(shù)越少，大米與拋光輥本體的接觸時間越少的特點，人們?yōu)榱私档退槊茁?，常采用將拋光板的外壁進(jìn)行表面拋光處理的技術(shù)手段，從而使拋光板的外壁保持光滑。

由此可知，在糧機(jī)行業(yè)中，在采用大米拋光機(jī)對大米進(jìn)行研磨拋光時，人們偏見的認(rèn)為拋光板的外壁應(yīng)該越光滑越好，拋光板的外壁越光滑，大米在研磨拋光的過程中就越不容易產(chǎn)生碎米。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了克服背景技術(shù)的不足之處，而提供一種節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點拋光輥，它不僅對碎米率無影響，而且克服了現(xiàn)有技術(shù)中人們所認(rèn)為的拋光板的外壁越光滑，大米在研磨拋光時越不容易產(chǎn)生碎米的偏見。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為：節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點拋光輥，包括拋光輥本體，所述拋光輥本體包括多個延拋光輥本體的軸向布置的單元體，相鄰單元體之間設(shè)有若干通風(fēng)噴水槽，所述單元體包括拋光筋和拋光板，拋光筋位于拋光板和通風(fēng)噴水槽之間，其特征在于：所述拋光板的外壁上設(shè)有多排間隔布置的拋光凹點組，每排拋光凹點組均由多個間隔布置的拋光凹點構(gòu)成。

在上述技術(shù)方案中，所述多排拋光凹點組包括第一拋光凹點組和與第一拋光凹點組呈相鄰布置的第二拋光凹點組，第一拋光凹點組中相鄰兩個拋光凹點之間的間隙為第一間隙，第二拋光凹點組中相鄰兩個拋光凹點之間的間隙為第二間隙，相鄰的第一間隙的中心和第二間隙的中心在拋光板上呈共線布置，所述第一拋光凹點組和第二拋光凹點組之間的中心距為1.5～4倍的拋光凹點直徑。

在上述技術(shù)方案中，所述多排拋光凹點組包括第一拋光凹點組和與第一拋光凹點組呈相鄰布置的第二拋光凹點組，第一拋光凹點組中相鄰兩個拋光凹點之間的間隙為第一間隙，第二拋光凹點組中相鄰兩個拋光凹點之間的間隙為第二間隙，相鄰的第一間隙和第二間隙在拋光板上呈交錯布置，所述第一拋光凹點組和第二拋光凹點組之間的中心距為1～3倍的拋光凹點直徑。

在上述技術(shù)方案中，所述拋光凹點的高為1～5mm，拋光凹點的直徑為5～50mm。

在上述技術(shù)方案中，所述拋光凹點的高為2～4mm，拋光凹點的直徑為10～30mm。

在上述技術(shù)方案中，所述拋光輥本體由與電機(jī)的輸出端連接的前拋光輥，和與軸承座連接的后拋光輥構(gòu)成，前拋光輥呈傾斜布置，后拋光輥呈水平布置，前拋光輥的中心線和后拋光輥的中心線之間的夾角為2～10°。

在上述技術(shù)方案中，所述前拋光輥的中心線和后拋光輥的中心線之間的夾角為3～7°。

綜上所述，本發(fā)明不僅對碎米率無影響，克服了現(xiàn)有技術(shù)中人們所認(rèn)為的拋光板的外壁越光滑，大米在研磨拋光時越不容易產(chǎn)生碎米的偏見，而且還增加了大米在拋光過程中所受到的摩擦力，增大了大米與拋光輥本體的接觸面積，增加了大米在拋光室內(nèi)單位時間的翻滾次數(shù)。同時，采用本發(fā)明的大米拋光機(jī)的工作效率更高，節(jié)省了電能，其加工出來的大米的表面亮度更高，碎米率更低，能夠保藏的時間更長。

附圖說明

圖1為當(dāng)拋光凹點7在拋光輥本體1呈錯位布置時，本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為當(dāng)拋光凹點7在拋光輥本體1呈整列布置時，本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為圖1的A-A剖視圖。

圖中1-拋光輥本體,2-單元體,3-通風(fēng)噴水槽,4-拋光筋，5-拋光板,6-拋光凹點組，61-第一拋光凹點組，62-第二拋光凹點組，7-拋光凹點，8-后拋光輥9-第一間隙，10-第二間隙，11-前拋光輥。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實施情況，但它們并不構(gòu)成對本發(fā)明的限定，僅作舉例而已。同時通過說明使本發(fā)明的優(yōu)點更加清楚和容易理解。

參閱附圖可知：節(jié)能型大米拋光機(jī)凹點拋光輥，包括拋光輥本體1，所述拋光輥本體1包括多個延拋光輥本體1的軸向布置的單元體2，相鄰單元體2之間設(shè)有若干通風(fēng)噴水槽3，所述單元體2包括拋光筋4和拋光板5，拋光筋4位于拋光板5和通風(fēng)噴水槽3之間，所述拋光板5的外壁上設(shè)有多排間隔布置的拋光凹點組6，每排拋光凹點組6均由多個間隔布置的拋光凹點7構(gòu)成。

作為舉例，結(jié)合附圖可知，本實施例只列出了拋光凹點7的橫截面為圓形的情形，但實際工作時，人們可以根據(jù)需要將拋光凹點7設(shè)置為其它的規(guī)則形狀(必須無菱角)，如橢圓形，其中，以拋光凹點7的橫截面為圓形時，本發(fā)明的實施效果最佳。

實際工作時，拋光輥本體1上的多個拋光凹點7可以采用多種布置方式，只要所述多個拋光凹點7在拋光輥本體1上滿足能使大米在拋光過程中所受到的作用力均勻且作用力較小即可，如所述多個拋光凹點7可以在拋光輥本體1呈整列布置的方式，也可采用呈錯位布置的方式。

如圖2所示，拋光凹點7可以在拋光輥本體1上采用如下整列布置的方式：所述多排拋光凹點組6包括第一拋光凹點組61和與第一拋光凹點組61呈相鄰布置的第二拋光凹點組62，第一拋光凹點組61中相鄰兩個拋光凹點7之間的間隙為第一間隙9，第二拋光凹點組62中相鄰兩個拋光凹點7之間的間隙為第二間隙10，相鄰的第一間隙9的中心和第二間隙10的中心在拋光板5上呈共線布置，所述第一拋光凹點組61和第二拋光凹點組62之間的中心距為1.5～4倍的拋光凹點7直徑。

如圖1所示，拋光凹點7在拋光輥本體1上也可以采用如下錯位布置的方式：所述多排拋光凹點組6包括第一拋光凹點組61和與第一拋光凹點組61呈相鄰布置的第二拋光凹點組62，第一拋光凹點組61中相鄰兩個拋光凹點7之間的間隙為第一間隙9，第二拋光凹點組62中相鄰兩個拋光凹點7之間的間隙為第二間隙10，相鄰的第一間隙9和第二間隙10在拋光板5上呈交錯布置，所述第一拋光凹點組61和第二拋光凹點組62之間的中心距為1～3倍的拋光凹點7直徑。

實際工作時，所述拋光凹點7的高應(yīng)為1～5mm，拋光凹點7的直徑應(yīng)為5～50mm，當(dāng)拋光凹點7的技術(shù)參數(shù)(高和直徑)不在上述范圍內(nèi)時，碎米率將會增加。優(yōu)選的，所述拋光凹點7的高為2～4mm，拋光凹點7的直徑為10～30mm。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，拋光凹點7的高和直徑呈正比關(guān)系，人們可以采用幾種技術(shù)方案：a、拋光凹點7高的1mm，拋光凹點7的直徑為5mm；b、拋光凹點7高的2mm，拋光凹點7的直徑為12mm；c、拋光凹點7高的2.5mm，拋光凹點7的直徑為16.5mm；d、拋光凹點7高的3mm，拋光凹點7的直徑為20mm；e、拋光凹點7高的3.5mm，拋光凹點7的直徑為25mm；f、拋光凹點7高的4mm，拋光凹點7的直徑為30mm；g、拋光凹點7高的5mm，拋光凹點7的直徑為50mm；

實際工作時，本發(fā)明是安裝在大米拋光室內(nèi)的，拋光輥本體1由與電機(jī)的輸出端連接的前拋光輥11，和與軸承座連接的后拋光輥8構(gòu)成，前拋光輥11呈傾斜布置，后拋光輥8呈水平布置，前拋光輥11主要起到研磨拋光的作用，后拋光輥主要起到緩沖的作用，前拋光輥11的中心線和后拋光輥8的中心線之間的夾角為2～10°。優(yōu)選的，所述前拋光輥11的中心線和后拋光輥8的中心線之間的夾角為3～7°。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，當(dāng)前拋光輥11的中心線和后拋光輥8的中心線之間的夾角為4～6°(優(yōu)選為5°)時，采用本發(fā)明的大米拋光機(jī)的工作效率更高，其加工出來的大米的表面亮度更好，大米的保藏時間更長。

其它未說明的部分均屬于現(xiàn)有技術(shù)。