本發(fā)明涉及涂布器清洗裝置和涂布裝置，其中，該涂布器清洗裝置用于對噴出涂布液的涂布器進(jìn)行清洗，該涂布裝置具有該涂布器清洗裝置。

背景技術(shù)：

在液晶顯示器或等離子顯示器等平板顯示器中，使用在玻璃等基板上涂布有抗蝕液等涂布液的基板(稱為涂布基板)。通過均勻地涂布涂布液的涂布裝置來形成該涂布基板。涂布裝置具有對基板進(jìn)行載置的載臺和向載置的基板噴出涂布液的涂布單元，該涂布裝置一邊從涂布單元的涂布器噴出涂布液，一邊使基板與涂布器相對移動，由此，在基板上形成涂布膜。

在該涂布器上，在與基板相對的基板相對面上形成有縫噴嘴，能夠在縫噴嘴的長度方向上均勻地噴出涂布液。然而，當(dāng)在縫噴嘴上附著有涂布液完全干燥后的干燥殘留液和異物(統(tǒng)稱為異物等)的狀態(tài)下，涂布液的噴出狀態(tài)因該異物等而不均勻化，成為在涂布膜上形成條紋不勻等干燥不勻的原因。因此，為了保持涂布膜的均勻性而通過涂布器清洗裝置對這樣的管口部進(jìn)行定期地清洗(例如參照專利文獻(xiàn)1)。

如圖4所示，該涂布器106清洗裝置具有：清洗槽100，其形狀為沿一個(gè)方向延伸并對有機(jī)溶劑的清洗液進(jìn)行貯存；清洗液提供部101，其向清洗槽100提供清洗液；以及振子102，其對清洗槽100內(nèi)的清洗液施加超聲波振動，能夠在使縫噴嘴103浸漬在清洗槽100中的狀態(tài)下通過施加超聲波振動而將附著在縫噴嘴103上的異物等去除。并且，在清洗槽100中，在清洗液提供部101的長度方向相反側(cè)設(shè)置有溢流部104，使因異物等的去除而受到污染的清洗液循環(huán)流向溢流槽105，并始終從清洗液提供部101流入干凈的清洗液，由此，能夠維持一定的清洗效果。并且，根據(jù)情況，通過使清洗液從縫噴嘴103進(jìn)入而在涂布器106內(nèi)循環(huán)，也能夠進(jìn)行涂布器106內(nèi)的清洗。由此，涂布器106的清洗作業(yè)不用通過手動作業(yè)來進(jìn)行，能夠自動地進(jìn)行。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2004-314048號公報(bào)

然而，在以往的涂布器清洗裝置中，存在如下問題：涂布器106因清洗液中產(chǎn)生的熱量而發(fā)生熱變形，從而對涂布膜的品質(zhì)造成影響。即，由于對清洗槽100的清洗液施加超聲波振動，所以從清洗液提供部101提供的清洗液的溫度上升。并且，從清洗液提供部101提供的清洗液在長度方向上朝向溢流槽105流動，因此清洗槽100內(nèi)的清洗液一邊流向溢流槽105側(cè)一邊溫度逐漸上升，溫度較高的清洗液集中在溢流槽105附近。即，在清洗槽100內(nèi)的清洗液中形成溫度從清洗液提供部101朝向溢流槽105上升的溫度分布。

當(dāng)在清洗液中形成溫度分布時(shí)，浸漬在清洗液中的涂布器106在長度方向上產(chǎn)生溫度差，由此，縫噴嘴103的開口狀態(tài)(開口寬度)在長度方向上變得不均勻。因此，存在如下問題：狹縫噴嘴103的吐出噴出狀態(tài)變得不穩(wěn)定，對形成在基板上的涂布膜的品質(zhì)造成影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明是鑒于上述的問題點(diǎn)而完成的，其目的在于提供涂布器清洗裝置和涂布裝置，能夠抑制因與清洗液的溫度上升相伴的溫度差而在涂布器中產(chǎn)生因熱變形而導(dǎo)致的變形。

為了解決上述課題，本發(fā)明的涂布器清洗裝置對涂布器進(jìn)行清洗，該涂布器一邊在基板上掃描，一邊從形成在基板相對面上的沿一個(gè)方向延伸的縫噴嘴噴出涂布液從而在基板上形成涂布膜，該涂布器清洗裝置的特征在于，其具有：清洗槽，其是以能夠浸漬所述涂布器的縫噴嘴的方式沿一個(gè)方向延伸的形狀；清洗液提供部，其向所述清洗槽提供清洗液；以及振子，其對所述清洗槽內(nèi)的清洗液施加振動波，所述清洗液提供部在長度方向上對清洗槽內(nèi)提供清洗液，并且清洗液的提供量被設(shè)定為與所述清洗槽的長度方向兩端部相比中央部分多，所述清洗槽具有使清洗液排出到長度方向兩端部的溢流部，在使所述縫噴嘴浸漬在所述清洗槽中的狀態(tài)下，所述清洗槽內(nèi)的清洗液的流動形成為從長度方向中央部分朝向溢流部流動。

根據(jù)本發(fā)明，由于從清洗液提供部提供的清洗液在中央部分比長度方向兩端部提供得多，所以清洗液從中央部分朝向溢流部流動。即，因從振子產(chǎn)生的振動波(超聲波振動等)而溫度上升的清洗液從中央部分向兩端部的溢流部流動，所以溢流部附近的溫度上升，但與以往那樣從長度方向一端部提供清洗液并從另一端部溢流的情況相比，除了從清洗液提供部提供新的清洗液(溫度上升前的清洗液)之外，能夠使清洗液所流動的距離變短。因此，與以往相比能夠?qū)﹂L度方向上的溫度差進(jìn)行抑制，所以能夠?qū)p噴嘴的開口狀態(tài)因與超聲波清洗導(dǎo)致的清洗液的溫度上升相伴的長度方向的溫度差而在長度方向上變得不均勻從而使涂布膜的品質(zhì)降低進(jìn)行抑制。

并且，也可以構(gòu)成為，所述清洗液提供部具有沿著所述清洗槽的長度方向配置的清洗液提供配管，該清洗液提供配管形成有噴出清洗液的多個(gè)清洗液提供孔，所述清洗液提供孔被配置成在所述清洗槽的長度方向兩端部疏而在中央部分密。

根據(jù)該結(jié)構(gòu)，清洗液的提供量在中央部分比清洗槽的長度方向兩端部多，能夠容易地使清洗槽內(nèi)的清洗液的流動形成為從長度方向中央部分朝向溢流部流動。

并且，也可以構(gòu)成為，在所述清洗槽的底面上，在長度方向上配置有所述振子，所述清洗液提供孔按照朝向所述振子噴出清洗液的方向開口。

根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于在振子上的清洗槽中產(chǎn)生對流，所以因從振子施加并振動而導(dǎo)致溫度上升的清洗液被對流攪拌，從而能夠?qū)η逑床蹆?nèi)的局部的溫度上升進(jìn)行抑制。

并且，也可以構(gòu)成為，所述清洗槽的溢流部具有清洗槽的長度方向兩端部的側(cè)壁比其他的側(cè)壁在高度方向上低的切口部。

根據(jù)該結(jié)構(gòu)，當(dāng)清洗液的液面比切口部高時(shí)排出清洗槽的清洗液，因此能夠以容易的結(jié)構(gòu)形成溢流部。

并且，也可以構(gòu)成為，在所述清洗槽上設(shè)置有密封壁，該密封壁沿著長度方向與所述基板相對面接觸，從而防止清洗槽的清洗液飛散。

根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠防止在振子對清洗液施加了振動的情況下產(chǎn)生的清洗液的飛散。

并且，為了解決上述課題，本發(fā)明的涂布裝置具有上述的涂布器清洗裝置，該涂布裝置具有：載臺，其對基板進(jìn)行載置；以及涂布器，其從縫噴嘴向載臺上的基板噴出涂布液，該涂布裝置一邊使載臺上所載置的基板與所述涂布器相對移動，一邊從所述涂布器噴出涂布液，從而在基板上形成涂布膜。

根據(jù)本發(fā)明，即使利用涂布器清洗裝置對涂布器進(jìn)行清洗，也能夠與清洗液的溫度上升相伴的縫噴嘴的開口狀態(tài)在長度方向上變得不均勻進(jìn)行抑制，并能夠使涂布膜的品質(zhì)穩(wěn)定。

根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制因與清洗液的溫度上升相伴的溫度差而在涂布器中產(chǎn)生因熱變形而導(dǎo)致的變形。

附圖說明

圖1是概略地示出本發(fā)明的涂布裝置的圖。

圖2是概略地示出本發(fā)明的涂布器清洗裝置的圖。

圖3是從長度方向觀察本發(fā)明的涂布器清洗裝置的圖。

圖4是示出以往的涂布器清洗裝置的圖。

標(biāo)號說明

1：涂布裝置；3：涂布單元；5：涂布器清洗裝置；7：涂布液提供部；10：基板；21：載臺；30：涂布器；32：縫噴嘴；50：清洗槽；51：清洗槽主體；52：溢流部；53：溢流槽；54：切口部；70：涂布液提供配管；71：涂布液提供孔。

具體實(shí)施方式

以下，根據(jù)附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。

使用附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。

圖1是概略地示出本發(fā)明的涂布裝置的圖，圖2是概略地示出涂布裝置所具有的涂布器30清洗裝置的圖，圖3是從長度方向觀察涂布器30清洗裝置的圖。

如圖1～圖3所示，涂布裝置1是在基板10上形成藥液、抗蝕液等液狀物(以下，稱為涂布液)的涂布膜的裝置，該涂布裝置1具有用于載置基板10的載臺21以及構(gòu)成為能夠相對于該載臺21在特定方向上移動的涂布單元3。

另外，在以下的說明中，將涂布單元3所移動的方向設(shè)為x軸方向，將在水平面上與其垂直的方向設(shè)為y軸方向，將與x軸和y軸方向兩者垂直的方向設(shè)為z軸方向來進(jìn)行說明。

載臺21是對由機(jī)器人手等搬入的基板10進(jìn)行載置的載臺。在該載臺21上設(shè)置有基板保持構(gòu)件，通過該基板保持構(gòu)件對基板10進(jìn)行保持。具體來說，在載臺21的表面上形成有多個(gè)吸引孔，能夠通過使該吸引孔產(chǎn)生吸引力而將基板10吸附并保持在載臺21的表面上。

并且，涂布單元3是向基板10上噴出涂布液而形成涂布膜的涂布單元。如圖1、圖2所示，該涂布單元3具有噴出涂布液的涂布器30和對該涂布器30進(jìn)行保持的臺架部35，并該涂布單元3形成為能夠在x軸方向上移動。具體來說，在載臺21的y軸方向端部設(shè)置有在x軸方向上延伸的軌道，臺架部35以自由滑動的方式安裝在該軌道上。并且，在腿部35a上安裝有線性馬達(dá)，通過對該線性馬達(dá)進(jìn)行驅(qū)動控制，涂布單元3能夠在x軸方向上移動并在任意的位置停止。在本實(shí)施方式中，涂布單元3能夠移動至載臺21和設(shè)置在載臺21的外側(cè)的涂布器清洗裝置5。

并且，在臺架部35上設(shè)置有使涂布器30升降的升降機(jī)構(gòu)。具體來說，通過使升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行動作，涂布器30能夠相對于基板10接近/分離。由此，在涂布動作中，能夠?qū)⑼坎计?0相對于載臺21上的基板10定位在合適的高度位置，并且在對涂布器30進(jìn)行清洗的情況下，能夠?qū)⑵湎鄬τ谕坎计髑逑囱b置5適當(dāng)調(diào)節(jié)成合適的高度位置。

并且，涂布器30是噴出涂布液而在基板10上形成涂布膜的涂布器。該涂布器30是具有沿一個(gè)方向延伸的形狀的柱狀部件，并被設(shè)置成與涂布單元3的行駛方向大致垂直。在該涂布器30中，在與基板10相對的基板相對面31上形成有在長度方向上延伸的縫噴嘴32，提供到涂布器30的涂布液從縫噴嘴32在長度方向上均勻地噴出。因此，通過在使涂布液從該縫噴嘴32噴出的狀態(tài)下使涂布單元3在x軸方向上行駛，在縫噴嘴32的長度方向上在基板10上形成一定厚度的涂布膜。

并且，涂布裝置1具有用于對涂布器30進(jìn)行清洗的涂布器清洗裝置5。該涂布器清洗裝置5被設(shè)置在載臺21的x軸方向端部側(cè)，通過使涂布器30浸漬在清洗液中，將附著在縫噴嘴32上的涂布液即干燥殘留液和異物(統(tǒng)稱為異物等)去除。

該涂布器清洗裝置5具有：清洗槽50，其形狀為沿一個(gè)方向延伸；清洗液提供部，其向該清洗槽50提供清洗液；以及振子6，其對清洗槽50內(nèi)的清洗液施加振動。

清洗槽50是貯存有一定的量的清洗液的液體收納器，其具有能夠浸漬縫噴嘴32的清洗槽主體51以及位于該清洗槽主體51的長度方向兩端部的溢流部52。關(guān)于該清洗槽主體51，在與底面部51a垂直的鉛直方向上延伸的側(cè)壁51b以圍住底面部51a的方式設(shè)置在底面部51a上，能夠在不超過側(cè)壁51b的高度的范圍內(nèi)貯存清洗液。該清洗槽主體51具有沿一個(gè)方向延伸的形狀，并形成為長度方向尺寸比縫噴嘴32的長度方向尺寸大。并且，清洗槽50被配置成清洗槽主體51的長度方向與y軸方向一致。因此，當(dāng)使涂布單元3在涂布器清洗裝置5的位置處停止并使涂布器30下降時(shí)，能夠?qū)⑶逑床壑黧w51的一部分收納在清洗槽主體51內(nèi)，使縫噴嘴32浸漬在清洗槽主體51的清洗液中。

并且，在清洗槽主體51的底面部51a設(shè)置有振子6(超聲波振子)。具體來說，多個(gè)振子6在寬度方向(x軸方向)中央位置沿著長度方向排列于清洗槽主體51的底面部51a的下側(cè)，振子6的振動面被設(shè)置成與底面部51a的下表面相對。因此，當(dāng)使振子6進(jìn)行動作時(shí)，在長度方向上對清洗槽主體51內(nèi)的清洗液施加超聲波振動。由此，能夠?qū)n在清洗槽主體51中的縫噴嘴32進(jìn)行超聲波清洗。

并且，在清洗槽主體51的長度方向兩端部設(shè)置有溢流部52。該溢流部52是使清洗槽主體51內(nèi)的清洗液排出的部分，由設(shè)置于清洗槽主體51的長度方向兩端部的溢流槽53和形成于清洗槽主體51的長度方向兩端部的側(cè)壁51b的切口部54形成。

溢流槽53被設(shè)置成與清洗槽主體51的長度方向的兩端部相鄰并將側(cè)壁51b夾住，并能夠?qū)那逑床?0溢出的清洗液進(jìn)行收納。并且，在溢流槽53的底面部51a設(shè)置有廢液口55，能夠?qū)⒁缌鞯揭缌鞑?3中的清洗液排出。

并且，在清洗槽主體51的長度方向兩端部的側(cè)壁51b上形成有切口部54。具體來說，如圖3所示，在長度方向兩端部的側(cè)壁51b上形成有切除到比側(cè)壁51b的上端部低的位置為止的切口部54，能夠使清洗槽主體51內(nèi)的清洗液優(yōu)先溢出。即，當(dāng)向清洗槽主體51提供清洗液時(shí)，雖然清洗液的液面逐漸上升，但清洗液的液面在到達(dá)各側(cè)壁51b的上端部之前到達(dá)切口部54，由此通過切口部54溢出而能夠?qū)⑶逑匆号懦龅揭缌鞑?3。由此，能夠在清洗槽主體51內(nèi)形成朝向溢流部52(在本實(shí)施方式中為切口部54)的流動。另外，雖然從廢液口55排出的清洗液在本實(shí)施方式中被廢棄，但也可以凈化后再利用，也可以構(gòu)成為使再利用的清洗液以再次被提供到清洗槽主體51的方式進(jìn)行循環(huán)。

并且，清洗液提供部7向清洗槽主體51提供清洗液，在本實(shí)施方式中，在清洗液提供配管70開口而形成有清洗液提供孔71。清洗液提供配管70是直線形狀的管，并被設(shè)置成貫通于溢流槽53和清洗槽主體51。并且，在寬度方向(x軸方向)上，如圖3所示，被配置在遠(yuǎn)離清洗槽50的寬度方向中央位置的位置處，并被配置在比寬度方向中央位置靠左側(cè)的側(cè)壁51b附近。

在該清洗液提供配管70形成有噴出清洗液的清洗液提供孔71。具體來說，該清洗液提供孔71是貫通清洗液提供配管70的表面的貫通孔，多個(gè)清洗液提供孔71在清洗液提供配管70位于清洗槽主體51內(nèi)的部分中形成為在長度方向上排成一列。由此，通過這些清洗液提供孔71將清洗液提供配管70內(nèi)的清洗液提供到清洗槽主體51內(nèi)。

并且，這些清洗液提供孔71在長度方向中央部分配置得較密，在長度方向兩端部配置得較疏。因此，當(dāng)向清洗液提供配管70提供清洗液時(shí)，雖然從各個(gè)清洗液提供孔71噴出清洗液，但清洗液的噴出量被提供成與長度方向兩端部分相比，在長度方向中央部分的位置處變多。由此，清洗槽主體51內(nèi)的清洗液的流動形成為從長度方向中央部分朝向溢流部52流動。即，雖然清洗槽主體51內(nèi)的清洗液向溢流槽53流動，但由于在長度方向中央部分提供更大量的清洗液，所以清洗槽主體51內(nèi)的清洗液從長度方向中央部分向位于長度方向兩端部的溢流槽53流動的傾向變強(qiáng)。由此，清洗槽主體51內(nèi)的清洗液從長度方向中央部分向任意一側(cè)的溢流槽53流動，由此，與以往那樣從長度方向一端提供清洗液并從另一端排出的情況相比，能夠減小清洗液在清洗槽主體51內(nèi)流動的距離，并能夠?qū)植康臏囟壬仙M(jìn)行抑制。即，清洗槽主體51內(nèi)的清洗液因來自振子6的超聲波振動而溫度上升。在該清洗液中形成如下的溫度分布：該清洗液向溢流槽53流動因此在溢流部52集中有溫度上升后的清洗液，所以溫度朝向清洗液所流動的方向上升。另外，在本實(shí)施方式中，由于能夠減小清洗液在清洗槽主體51內(nèi)流動的距離，所以與從長度方向一端提供清洗液并從另一端排出的情況相比，能夠?qū)﹂L度方向上的溫度上升進(jìn)行抑制。因此，能夠減小朝向清洗液所流動的方向上升的溫度變化，并能夠減小清洗槽主體51內(nèi)的局部性溫度差的形成。

并且，清洗液提供孔71按照能夠?qū)⑶逑匆撼蛘褡?噴出的方向開口而形成。具體來說，由于清洗液提供配管70位于從寬度方向中央位置遠(yuǎn)離的位置，所以清洗液提供孔71在寬度方向中央位置側(cè)朝向下方開口而形成。即，清洗液提供孔71按照朝向清洗槽主體51的底面部51a的方向開口而形成。并且，在底面部51a上，通過從配置在背面的振子6施加的振動波，形成從底面部51a上升的對流(圖3的箭頭)。因此，雖然從清洗液提供孔71噴出的清洗液因超聲波振動而溫度上升，但由于被從底面部51a上升的對流攪拌，所以能夠?qū)η逑床?0內(nèi)的深淺方向上的局部性溫度上升進(jìn)行抑制。即，清洗槽50內(nèi)的清洗液被攪拌從而對局部性溫度上升進(jìn)行抑制，由此，整體性溫度分布更均勻化。并且，通過形成清洗液從長度方向中央部分流向任意一側(cè)的溢流槽53的流動，能夠減小清洗液在清洗槽主體51內(nèi)流動的距離，并對長度方向上的局部性溫度上升進(jìn)行抑制。能夠通過這些疊加效果來減小清洗槽主體51內(nèi)的局部性溫度差形成情況，并極力減小清洗中對縫噴嘴32造成的熱量的影響。

并且，在清洗槽50上設(shè)置有用于防止清洗液飛散的密封壁8。該密封壁8具有：基底部81，其沿著清洗槽50的側(cè)壁51b設(shè)置并安裝在側(cè)壁51b上；以及舌片部82，其從該基底部81向斜上方突出。基底部81被安裝在側(cè)壁51b的上端部分，并被固定成夾住側(cè)壁51b的上端部。并且，舌片部82由橡膠部件形成，其截面形成為環(huán)狀并在長度方向上延伸。即，舌片部82形成為與清洗槽50的側(cè)壁51b的長度方向尺寸相同的長度。并且，舌片部82形成為在基底部81被安裝在側(cè)壁51b上的狀態(tài)下能夠維持向清洗槽50的內(nèi)側(cè)上方突出的姿勢。即，當(dāng)從上方對舌片部82進(jìn)行按壓時(shí)，欲復(fù)原到原來的姿勢的復(fù)原力發(fā)生作用，從而使舌片部82與所抵接的部件緊密接觸。因此，當(dāng)在使涂布器30位于清洗槽50的上方之后使涂布器30下降時(shí)，密封壁8的舌片部82與涂布器30的形成有縫噴嘴32的基板相對面31抵接。并且，當(dāng)涂布器30進(jìn)一步下降時(shí)，復(fù)原力作用于舌片部82而使舌片部82與基板相對面31緊密接觸，由此，清洗槽主體51的寬度方向兩端被封閉。即，當(dāng)對清洗槽主體51內(nèi)的清洗液施加超聲波振動時(shí)，雖然清洗槽主體51內(nèi)的清洗液頻繁地產(chǎn)生較大的波紋、飛濺，但由于被密封壁8的舌片部82密封，所以能夠防止清洗液飛散到清洗槽50的外側(cè)。

這樣，根據(jù)上述實(shí)施方式中的涂布器清洗裝置5和涂布裝置1，由于在中央部分與長度方向兩端部相比提供較多清洗液，所以清洗液從中央部分朝向溢流部52流動。即，因超聲波振動等而溫度上升后的清洗液從中央部分向兩端部的溢流部52流動，所以溢流部52附近的溫度上升，但與以往那樣從長度方向一端部提供清洗液并從另一端部溢流的情況相比，除了從清洗液提供部7提供新的清洗液(溫度上升前的清洗液)之外，能夠縮短清洗液流動的距離，因此與以往相比能夠?qū)﹂L度方向上的溫度差進(jìn)行抑制。因此，能夠?qū)τ捎谂c超聲波清洗導(dǎo)致的清洗液的溫度上升相伴的長度方向的溫度差而造成縫噴嘴32的開口狀態(tài)在長度方向上變得不均勻而使涂布膜的品質(zhì)降低進(jìn)行抑制。

并且，在上述實(shí)施方式中，雖然在清洗液提供配管70為1根的情況下進(jìn)行了說明。但也可以采用配置兩根以上的結(jié)構(gòu)。即使在該情況下，也優(yōu)選使清洗液提供孔71的開口方向在朝向清洗槽50的底面的方向上開口，該清洗槽50的底面在背面配置有振子6。

并且，在上述實(shí)施方式中，雖然說明了將清洗液提供孔71配置成在位于清洗槽主體51內(nèi)的清洗液提供配管70的中央部分較密、在長度方向兩端部較疏的例子，但也可以采用如下的結(jié)構(gòu)：通過使中央部分的清洗液提供孔71的直徑比兩端部的直徑大，而使中央部分的清洗液的提供量比兩端部多。

并且，在上述實(shí)施方式中，雖然說明了對附著在縫噴嘴32上的異物等進(jìn)行清洗的例子，但也可以采用如下的結(jié)構(gòu)：從縫噴嘴32吸引清洗液而對涂布器30內(nèi)部進(jìn)行清洗。