本實(shí)用新型涉及一種底座，具體地，涉及一種加熱底座。

背景技術(shù)：

加熱，化學(xué)實(shí)驗(yàn)室常用條件，根據(jù)熱能的獲得，可分為直接的和間接的兩類。直接熱源加熱是將熱能直接加于物料，如煙道氣加熱、電流加熱和太陽輻射能加熱等。間接熱源加熱是將上述直接熱源的熱能加于一中間載熱體，然后由中間載熱體將熱能再傳給物料，如蒸汽加熱、熱水加熱、礦物油加熱等。日常加熱底座屬于間接加熱，其常導(dǎo)致物料受熱不均勻，存在加熱溫度無法直接觀察和控制等缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于，針對(duì)上述問題，提出一種新型加熱底座，上面的溫度計(jì)插孔為圓形小孔，且有一定深度，可放置具有不銹鋼探針的中心溫度計(jì)，便于在實(shí)驗(yàn)加熱過程中實(shí)時(shí)觀察和控制加熱溫度。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：

一種加熱底座，包括底座、凹槽和溫度計(jì)插孔，所述溫度計(jì)插孔為圓形小孔，有一定深度，可放置具有不銹鋼探針的中心溫度計(jì)。

進(jìn)一步的，所述底座為耐熱金屬結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步的，所述凹槽為圓形。

本實(shí)用新型的有益效果為：

本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)便、裝置穩(wěn)固及在實(shí)驗(yàn)過程中使反應(yīng)均勻受熱的同時(shí)準(zhǔn)確控制加熱溫度。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例所述的一種加熱底座的立體圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例所述的一種加熱底座的俯視圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行說明，應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的優(yōu)選實(shí)施例僅用于說明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

如圖1-2所示，一種加熱底座，包括底座、凹槽和溫度計(jì)插孔。底座1為耐熱金屬結(jié)構(gòu)，質(zhì)量重，放置于加熱臺(tái)上有很好的穩(wěn)定性；凹槽2為圓形，適于放置實(shí)驗(yàn)室中各類容器，如燒瓶、錐形瓶、燒杯等；溫度計(jì)插孔3為圓形小孔，有一定深度，可放置具有不銹鋼探針的中心溫度計(jì)，便于在實(shí)驗(yàn)加熱過程中實(shí)時(shí)觀察和控制加熱溫度。該裝置具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)便、裝置穩(wěn)固及在實(shí)驗(yàn)過程中使反應(yīng)物均勻受熱的同時(shí)準(zhǔn)確控制加熱溫度等特點(diǎn)。

所述耐熱金屬為電解鋁，最好為電解銅。

溫度計(jì)插孔3最好為三到五個(gè)，呈軸對(duì)稱分布，以便于檢測(cè)底座的溫度均勻性。

最后應(yīng)說明的是：以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。