本實(shí)用新型屬于醫(yī)療器械領(lǐng)域,涉及一種沉淀池,具體涉及一種石膏沉淀池。
背景技術(shù):
隱形矯治牙齒,被越來越多的患者接受和采納?,F(xiàn)有技術(shù)中,牙齒隱形矯治器的制作過程往往從患者口中取了印模后,在陰模中填充石膏,取出石膏模型后,對(duì)石膏模型進(jìn)行掃描再進(jìn)行3D打印牙頜模型,最后再在牙頜模型上進(jìn)行牙套的壓制。在此過程中,石膏模型的制作非常關(guān)鍵,而在石膏模型的制作和后期的處理過程中,均避免不了產(chǎn)生混有石膏粉的廢水,若將其直接排出,不僅容易造成下水管道的堵塞,還容易造成環(huán)境污染。目前常采用的方法為自然沉淀法或者采用濾膜的方式,但是上述方法均有其弊端,自然沉淀法要求沉淀池的長(zhǎng)度較長(zhǎng),且沉淀的時(shí)間較長(zhǎng);濾膜過濾的方法對(duì)于顆粒較大的廢液效果較佳,但是醫(yī)用石膏的粒徑較小,常用的濾膜無法達(dá)到過濾的效果,如果濾膜的濾孔太小,則會(huì)影響廢液的流通速度;另外,濾膜需要定期更換才能達(dá)到過濾的目的。
因此,研究一種既能夠減小對(duì)環(huán)境的污染,又能夠減少濾膜使用的石膏沉淀池,具有重要的意義。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題,是提供一種石膏沉淀池,采用在清洗池內(nèi)設(shè)置彎折擋板的方式,既能夠達(dá)到清洗池的有效分隔,又能夠在沉淀的同時(shí)使得廢液實(shí)現(xiàn)逐漸清潔的效果。
為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是:
一種石膏沉淀池,它包括清洗池、設(shè)于清洗池側(cè)壁的進(jìn)水口和與進(jìn)水口位置相對(duì)的出水口,所述的清洗池內(nèi)還設(shè)有擋板,擋板將清洗池分隔,擋板包括與清洗池底端連接的第一擋板和與第一擋板形成流通間隙的第二擋板,其中,第一擋板的頂端高度高于第二擋板底端的垂直高度。
作為本實(shí)用新型的一種限定,所述的第二擋板為彎折型,彎折的水平部與第一擋板的頂端平行,彎折的豎直部與第一擋板垂直方向平行。
作為上述限定的進(jìn)一步限定,所述的第二擋板為兩端為豎直部,中間為水平部,其中兩個(gè)豎直部均與第一擋板垂直方向平行,且水平部位于第一擋板的上方,與其形成流通間隙。
作為本實(shí)用新型的另一種限定,所述的清洗池的側(cè)壁上還設(shè)有把手。
作為本實(shí)用新型的第三種限定,所述的清洗池的底端還設(shè)有可以使石膏沉淀池移動(dòng)的滑輪。
作為本實(shí)用新型的第四種限定,所述的清洗池的頂端還設(shè)有蓋板。
本實(shí)用新型還有一種限定,所述的進(jìn)水口、出水口、第一擋板與第二擋板之間的流通間隙處均設(shè)有過濾網(wǎng)。
由于采用了上述的技術(shù)方案,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,所取得的技術(shù)進(jìn)步在于:
本實(shí)用新型采用在清洗池內(nèi)設(shè)置擋板的方式將清洗池進(jìn)行分割,其中第一擋板和第二擋板之間留有流通間隙,并且,第一擋板的頂端高于第二擋板底端的高度,并且第二擋板為彎折狀,當(dāng)廢液從進(jìn)水口進(jìn)入后流入第一清洗池,經(jīng)過沉淀,分層,上端的液面達(dá)到第一擋板頂端的高度是,液體就從流通間隙處順著第一擋板與第二擋板之間的流通間隙,流至第二清洗池,如此重復(fù),第二清洗池內(nèi)的石膏濃度小于第一清洗池的石膏濃度,而第三清洗池的石膏濃度小于第二清洗池的石膏濃度,最后從出水口排出的液體即可達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。
本實(shí)用新型適用于清洗石膏的廢液處理。
本實(shí)用新型下面將結(jié)合說明書附圖與具體實(shí)施例作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例1另一角度的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為圖1的俯視圖;
圖4為圖3的A-A面剖視圖。
圖中:1—清洗池,2—進(jìn)水口,3—出水口,4—第一擋板,5—第二擋板。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1 一種石膏沉淀池
一種石膏沉淀池,如圖1-3所示,它包括清洗池1、設(shè)于清洗池1側(cè)壁的進(jìn)水口2和與進(jìn)水口2位置相對(duì)的出水口3,所述的清洗池1內(nèi)還設(shè)有擋板,擋板將清洗池1分隔,擋板包括與清洗池1底端連接的第一擋板4和與第一擋板4形成流通間隙的第二擋板5,其中,第一擋板4的頂端高度高于第二擋板5底端的垂直高度。
如圖4所示,其中,第二擋板5為彎折型,彎折的水平部與第一擋板4的頂端平行,彎折的豎直部與第一擋板4垂直方向平行;所述的第二擋板5為兩端為豎直部,中間為水平部,其中兩個(gè)豎直部均與第一擋板4垂直方向平行,且水平部位于第一擋板4的上方,與其形成流通間隙。
其中,清洗池1的側(cè)壁上還設(shè)有把手,方便整個(gè)石膏沉淀池的抬放。
清洗池1的底端還設(shè)有可以使石膏沉淀池移動(dòng)的滑輪,方便其移動(dòng)。
清洗池1的頂端還設(shè)有蓋板,既能夠防止清洗池1內(nèi)引入其它雜質(zhì),也能夠防止廢液的噴濺。
在進(jìn)水口2、出水口3、第一擋板4與第二擋板5之間的流通間隙處均設(shè)有過濾網(wǎng),能夠防止大塊石膏濾過。
在實(shí)際使用過程中,廢液從進(jìn)水口2進(jìn)入清洗池1內(nèi),清洗池內(nèi)設(shè)置擋板的方式將清洗池進(jìn)行分割,其中第一擋板和第二擋板之間留有流通間隙,并且,第一擋板的頂端高于第二擋板底端的高度,并且第二擋板為彎折狀,當(dāng)廢液從進(jìn)水口進(jìn)入后流入第一清洗池,經(jīng)過沉淀,分層,上端的液面達(dá)到第一擋板頂端的高度是,液體就從流通間隙處順著第一擋板與第二擋板之間的流通間隙,流至第二清洗池,如此重復(fù),第二清洗池內(nèi)的石膏濃度小于第一清洗池的石膏濃度,而第三清洗池的石膏濃度小于第二清洗池的石膏濃度,最后從出水口排出的液體即可達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。
以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非是對(duì)本實(shí)用新型作其它形式的限定,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述技術(shù)內(nèi)容作為啟示加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例。但是,凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)構(gòu)思,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作出的簡(jiǎn)單修改,等同變化與改型,仍屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍。