1.一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：在真空室(1)內(nèi)安裝有等離子體源(2)，在真空室(1)內(nèi)遠(yuǎn)離等離子體源的區(qū)域內(nèi)安裝紫外光源(3)的陣列，載體氣體管路(4)連接到真空室內(nèi)的靠近等離子體源(2)一側(cè)，載體氣體管路另一端連接載體氣體源，單體蒸汽管路(5)連接到真空室內(nèi)等離子體源前方，單體蒸汽管路另一端連接單體蒸汽源；真空排氣管(6)連接到真空室(1)內(nèi)遠(yuǎn)離等離子體源(2)的一側(cè)；真空排氣管另一端連接到真空泵，待處理的基材(7)放在真空室(1)內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的等離子體源(2)是電極或感應(yīng)線圈或微波天線中的一種，所述的等離子體源(2)的放電功率為5-1000W。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的等離子體源(2)能夠連續(xù)或斷續(xù)工作，等離子體源(2)斷續(xù)工作時(shí)，放電時(shí)間為2-100μs，放電中斷時(shí)間為1-100ms。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的紫外光源(3)相鄰之間間隔10cm-50cm，且距離等離子體源20cm-80cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的紫外光源(3)是紫外燈或紫外發(fā)光二極管中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的紫外光源(3)的波長范圍為180-380nm，紫外光源(3)的功率為0.1-200W。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的紫外光源(3)能夠連續(xù)或斷續(xù)發(fā)光，紫外光源(3)斷續(xù)發(fā)光時(shí)，發(fā)光時(shí)間為1μs–1s，發(fā)光中斷時(shí)間為10μs–10s。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外輻照輔助等離子體聚合表面涂層裝置，其特征在于：所述的單體蒸汽管路(5)距離等離子體源(2)為5-30cm。