本實(shí)用新型涉及廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及到一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備。

背景技術(shù)：

廢氣凈化設(shè)備的選型，是根據(jù)廢氣的性質(zhì)、處理量和處理的要求來確定的，傳統(tǒng)的廢氣處理裝置采用凈化塔來得以實(shí)現(xiàn)，其適用于噴涂廢氣、有機(jī)廢氣、家具廠廢氣、化工廠廢氣、污水廠廢氣、印刷廠廢氣、無機(jī)廢氣等大風(fēng)量的工業(yè)廢氣凈化；但是現(xiàn)有技術(shù)中的廢氣處理凈化裝置僅僅采用多重吸收膜進(jìn)行凈化，其結(jié)構(gòu)復(fù)雜、廢氣凈化效率低且維護(hù)成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型鑒于上述技術(shù)問題，提供了一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備。

本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案具體為：

一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述設(shè)備包括：

廢氣處理腔體，所述廢氣處理腔體底側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口，該廢氣處理腔體中正對(duì)進(jìn)風(fēng)口由左至右依次設(shè)置有均流板、導(dǎo)流板；位于所述導(dǎo)流板正上方且右下至上依次設(shè)置有第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器、紊流室和第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器，所述第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器上方還設(shè)置有出風(fēng)口；

其中，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器相對(duì)于所述第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器呈錯(cuò)位90°布局方式設(shè)置于所述紊流室上方。

作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述導(dǎo)流板的導(dǎo)流方向指向所述第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器。

作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述出風(fēng)口上一側(cè)還設(shè)置有維修口。

作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述廢氣處理腔體右側(cè)還設(shè)置有維修梯子。

作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述廢氣處理腔體底側(cè)還連通設(shè)置有排污管道。

上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果：

本實(shí)用新型錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備中將兩個(gè)低溫等離子反應(yīng)器錯(cuò)位布局，有利于增強(qiáng)紊流效果，進(jìn)一步分解、處理惡臭氣體，惡臭氣體經(jīng)二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。

附圖說明

通過閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型及其特征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并未可以按照比例繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本實(shí)用新型的主旨。

圖1是本實(shí)用新型錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明，但是不作為本實(shí)用新型的限定。

具體的如圖1所示，本實(shí)用新型錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)具體包括有：

廢氣處理腔體11，該廢氣處理腔體11底側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口1，該廢氣處理腔體中正對(duì)進(jìn)風(fēng)口1由左至右依次設(shè)置有均流板2、導(dǎo)流板3；位于導(dǎo)流板3正上方且右下至上依次設(shè)置有第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器4、紊流室5和第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器6，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器6上方還設(shè)置有出風(fēng)口8；

其中，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器6相對(duì)于第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器4呈錯(cuò)位90°布局方式設(shè)置于紊流室5上方。

在一可選但非限制性的實(shí)施例中，導(dǎo)流板3的導(dǎo)流方向指向第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器4。

在一可選但非限制性的實(shí)施例中，出風(fēng)口8上一側(cè)還設(shè)置有維修口7。

在一可選但非限制性的實(shí)施例中，廢氣處理腔體11右側(cè)還設(shè)置有維修梯子9；廢氣處理腔體底側(cè)還連通設(shè)置有排污管道10。

本實(shí)用新型惡臭氣體在現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)收集由風(fēng)道被送入本裝置，經(jīng)進(jìn)風(fēng)口通過均流板的均流作用及導(dǎo)流板的導(dǎo)向后，使氣體均勻地進(jìn)入第一節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器，經(jīng)過第一節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器的處理后，有60％～70％的惡臭氣體得到了處理。處理后的氣體繼續(xù)向上進(jìn)入紊流室，氣體經(jīng)過紊流室后進(jìn)入第二節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器，第二節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器在結(jié)構(gòu)布局上采用了錯(cuò)位布局方式，與第一節(jié)等離子發(fā)應(yīng)器4錯(cuò)位90°，增強(qiáng)了紊流效果，在第二節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器里氣體進(jìn)一步得到了分解、處理，氣體攜帶的水分及處理過程中產(chǎn)生的水分經(jīng)排污管道排出，惡臭氣體經(jīng)過二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，經(jīng)出風(fēng)口排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。本實(shí)用新型錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備中各個(gè)設(shè)備模塊均由控制柜上PAC自動(dòng)控制，按觸摸屏提示操作即可，簡(jiǎn)單方便。

本實(shí)用新型錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備中將兩個(gè)低溫等離子反應(yīng)器錯(cuò)位布局，有利于增強(qiáng)紊流效果，進(jìn)一步分解、處理惡臭氣體，惡臭氣體經(jīng)二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。

本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員在結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)以及上述實(shí)施例可以實(shí)現(xiàn)所述變化例，在此不做贅述。這樣的變化例并不影響本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)內(nèi)容，在此不予贅述。

以上對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本實(shí)用新型并不局限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例，這并不影響本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。